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著錄信息

  • 專利名稱:適用于二次燒成用的無鉛熔塊釉
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN200610044877.6
  • 公開(公告)號:CN100376502C
  • 申請日:20060614
  • 公開(公告)日:20080326
  • 申請人:山東硅苑新材料科技股份有限公司
  • 發明人:張儒嶺,王磊,尚慶剛,任允鵬
  • 申請人地址:255086山東省淄博市開發區柳泉路264號
  • 申請人區域代碼:CN370306
  • 專利權人:山東硅苑新材料科技股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:C03C8/02,C04B41/86
  • 優先權:
  • 專利代理機構:淄博科信專利商標代理有限公司
  • 代理人:馬俊榮
  • 審查員:焦磊
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

無鉛,鎂質瓷,產品成品率,化學重量,健康環保,素燒坯體,一級品率,釉面質量,骨質瓷,石英瓷,蔽光,瓷釉,二次,鎂質,燒成,匹配
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