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專利名稱:
一種基于臨時釋放保護層的紅外探測器制作方法
專利類型:
發明
申請號:
CN201110066271.3
公開(公告)號:
CN102683475B
申請日:
20110318
公開(公告)日:
20150527
申請人:
浙江大立科技股份有限公司
發明人:
姜利軍,池積光,錢良山,王景道,黃河
申請人地址:
310053 浙江省杭州市杭州國家高新技術產業開發區濱康路639號(高新區)
申請人區域代碼:
CN330108
專利權人:
浙江大立科技股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
H01L31/18
優先權:
無
專利代理機構:
浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100
代理人:
趙芳;徐關壽
審查員:
張躍
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關鍵詞
保護層,犧牲層,紅外探測器,敏感層,圖形化,晶硅,微電子機械系統,等離子體,電極層圖形,工藝難度,金屬電極,聚酰亞胺,微橋結構,硅襯底,金屬層,微加工,探測器,微橋,制冷
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