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著錄信息

  • 專利名稱：低溫太陽能選擇性吸收涂層及其制備方法
  • 專利類型：發明
  • 申請號：CN200710190483.6
  • 公開(公告)號：CN101182132B
  • 申請日：20071127
  • 公開(公告)日：20101215
  • 申請人：日出東方太陽能股份有限公司
  • 發明人：焦青太
  • 申請人地址：222243 江蘇省連云港市新浦區海寧工貿園
  • 申請人區域代碼：CN320705
  • 專利權人：日出東方太陽能股份有限公司
  • 洛迦諾分類：無
  • IPC：C03C17/36
  • 優先權：無
  • 專利代理機構：南京眾聯專利代理有限公司 32206
  • 代理人：王彥明
  • 審查員：趙華英
  • 國際申請：無
  • 國際公開(公告)：無
  • 進入國家日期：無
  • 分案申請：無

關鍵詞

吸收涂層,遠紅外,吸收率,真空管,選擇性吸收涂層,復合吸收材料,低溫太陽能,新型太陽能,玻璃表面,沉積厚度,磁控濺射,反射作用,制備厚度,基層,發射比,集熱器,波長,過熱,膜層,太陽
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