著錄信息
- 專利名稱:低溫太陽能選擇性吸收涂層及其制備方法
- 專利類型:發明
- 申請號:CN200710190483.6
- 公開(公告)號:CN101182132B
- 申請日:20071127
- 公開(公告)日:20101215
- 申請人:日出東方太陽能股份有限公司
- 發明人:焦青太
- 申請人地址:222243 江蘇省連云港市新浦區海寧工貿園
- 申請人區域代碼:CN320705
- 專利權人:日出東方太陽能股份有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:C03C17/36
- 優先權:無
- 專利代理機構:南京眾聯專利代理有限公司 32206
- 代理人:王彥明
- 審查員:趙華英
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
吸收涂層,遠紅外,吸收率,真空管,選擇性吸收涂層,復合吸收材料,低溫太陽能,新型太陽能,玻璃表面,沉積厚度,磁控濺射,反射作用,制備厚度,基層,發射比,集熱器,波長,過熱,膜層,太陽
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