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專利名稱:
高介電常數聚酰亞胺薄膜及其制備方法和應用
專利類型:
發明
申請號:
CN201310746333.4
公開(公告)號:
CN103724624B
申請日:
20131230
公開(公告)日:
20160330
申請人:
深圳市惠程電氣股份有限公司
發明人:
侯豪情,呂曉義,何平
申請人地址:
518118 廣東省深圳市坪山新區大工業區蘭景北路惠程科技園
申請人區域代碼:
CN440307
專利權人:
深圳市惠程電氣股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
C08G73/10,C08J5/18
優先權:
無
專利代理機構:
北京萬科園知識產權代理有限責任公司 11230
代理人:
劉俊玲;張亞軍
審查員:
王燕
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關鍵(jian)詞
聚酰亞胺薄膜,高介電常數,芳環,聚酰亞胺薄膜在,機械能,電致伸縮性能,高化學穩定性,機電能量轉換,聚酰胺酸薄膜,聚酰亞胺材料,低介電損耗,重復單元數,電能輸送,電子器件,二胺殘基,聚酰胺酸,聚合物,高儲能,高強度,介電層,聚苯胺,耐高溫,亞胺化,殘基,二酐,鏈段,一種,電機,轉換,應用,表現
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