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江蘇南大光電材料股份有限公司專利CN201110042616.1介紹
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專利名稱:
用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置
專利類型:
發明
申請號:
CN201110042616.1
公開(公告)號:
CN102103049B
申請日:
20110222
公開(公告)日:
20130109
申請人:
江蘇南大光電材料股份有限公司
發明人:
孫明璐,潘興華,邱良德,徐春菊,王佳銘,呂寶源
申請人地址:
215021 江蘇省蘇州市工業園區金雞湖大道1355號國際科技園
申請人區域代碼:
CN320506
專利權人:
江蘇南大光電材料股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
G01N1/28
優先權:
無
專利代理機構:
南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
代理人:
王玉國;陳忠輝
審查員:
姚正陽
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關(guan)鍵詞
氣體發生裝置,濃硫酸,分解,連通,三甲基鋁,緩沖,干燥,氮氣保護裝置,微量雜質分析,樣品分析結果,分解裝置,分液漏斗,連通樣品,溶液吸收,氧化分解,取樣瓶,溶性,連接,分析
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