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著(zhu)錄信息

專利名稱：一種濕法刻蝕設備及工藝
專利類型：發明
申請號：CN201310298407.2
公開(公告)號：CN103346109B
申請日：20130716
公開(公告)日：20151223
申請人：英利能源（中國）有限公司
發明人：陳瑋光
申請人地址：071051 河北省保定市朝陽北大街3399號
申請人區域代碼：CN130602
專利權人：英利能源（中國）有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：H01L21/67,H01L31/18
優先權：無
專利代理機構：北京集佳知識產權代理有限公司 11227
代理人：魏曉波
審查員：曹麗冉
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵(jian)詞

刻蝕,刻蝕液,硅片,滾軸,支架,刻蝕槽,液面,一種,濕法刻蝕設備,有效受光面積,增大,太陽能電池,垂直設置,硅片背面,平行設置,濕法刻蝕,液面張力,預定夾角,支架支撐,爬升,接合處,減小,兩段,粘附,發電量,背面,公開,側面,設置,支撐,容易,設計

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