著錄信息
- 專利名稱：一種耐高溫防紫外光輻射偏光膜結構
- 專利類型：實用新型
- 申請號：CN201220078224.0
- 公開(公告)號：CN202548355U
- 申請日：20120305
- 公開(公告)日：20121121
- 申請人：來奇偏光科技（中國）股份有限公司
- 發明人：吳進家
- 申請人地址：361022 福建省廈門市集美區杏林工業區光明路12號
- 申請人區域代碼：CN350211
- 專利權人：來奇偏光科技（中國）股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：G02B5/30,B32B23/08
- 優先權：無
- 專利代理機構：廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
- 代理人：渠述華
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
紫外光,復合,保護層,偏光,延伸,層及保護層,紫外光輻射,兩側,產品性能,高溫處理,脫層現象,結合度,耐高溫,偏光膜,阻斷,接觸
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