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著錄信息

專利名稱：一種中壓紫外系統清洗裝置及其清洗頭
專利類型：實用新型
申請號：CN201720491445.3
公開(公告)號：CN206701867U
申請日：20170505
公開(公告)日：20171205
申請人：北京安力斯環境科技股份有限公司
發明人：蔡曉涌,李浩,楊小強,鐘靜
申請人地址：100085 北京市海淀區上地信息路11號一層103室
申請人區域代碼：CN110108
專利權人：北京安力斯環境科技股份有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：B08B9/023
優先權：無
專利代理機構：北京東正專利代理事務所(普通合伙) 11312
代理人：李夢福
審查員：無
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關(guan)鍵詞

清洗頭,溶液腔,刮擦,內壁,密封,本實用新型,聚四氟乙烯,清洗效果,清洗裝置,紫外燈管,紫外系統,燈管,導向環,結垢,卡死,內開,套置,通孔,外凸,中壓,清洗

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