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專利名稱：一種化學氣相沉積系統
專利類型：實用新型
申請號：CN201520068921.1
公開(公告)號：CN204455284U
申請日：20150130
公開(公告)日：20150708
申請人：上海和輝光電有限公司
發明人：張明福,徐平,卞楷周
申請人地址：201500 上海市金山區金山工業區大道100號1幢二樓208室
申請人區域代碼：CN310116
專利權人：上海和輝光電有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：C23C16/44
優先權：無
專利代理機構：隆天知識產權代理有限公司 72003
代理人：馮志云
審查員：無
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞

電極,滾輪,基板,滾輪組件,上表面,驅動部件,化學氣相沉積,長寬尺寸,沉積物質,成膜過程,電弧放電,基板面積,軸線方向,側面,阻擋板,偏移,成膜,對位,頂部,接觸,周圍

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