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著錄信息

  • 專利名稱:一種調節襯底翹曲度的外延生長方法
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN201510163413.6
  • 公開(公告)號:CN104752167B
  • 申請日:20150408
  • 公開(公告)日:20170929
  • 申請人:圓融光電科技股份有限公司
  • 發明人:焦建軍,黃小輝,周德保,康建,梁旭東
  • 申請人地址:243000 安徽省馬鞍山市經濟技術開發區寶慶路399號1棟
  • 申請人區域代碼:CN340503
  • 專利權人:圓融光電科技股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L21/02
  • 優先權:
  • 專利代理機構:北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
  • 代理人:陶敏;黃健
  • 審查員:孫健
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

生長,襯底,非摻雜氮化鎵層,橫向生長,外延生長,發光層,緩沖層,結構層,量子阱,翹曲度,影響發光二極管,波長均勻性,襯底翹曲,均勻性,有效地,波長
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