著錄信息
- 專利名稱：防止低聚物產生的聚酯基膜
- 專利類型：實用新型
- 申請號：CN201120124338.X
- 公開(公告)號：CN202029474U
- 申請日：20110425
- 公開(公告)日：20111109
- 申請人：富維薄膜(山東)有限公司
- 發明人：王國明,董興廣,張玲,周慧芝
- 申請人地址：261061 山東省濰坊市高新區東方路387號
- 申請人區域代碼：CN370705
- 專利權人：富維薄膜(山東)有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：B32B27/08,B32B27/18,B32B27/28,B32B27/36,B60J1/20
- 優先權：無
- 專利代理機構：濰坊正信專利事務所 37216
- 代理人：趙玉峰
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
多層共擠,聚酯基膜,復合層,聚酯改性丙烯酸,透光率,透明度,薄膜表面,陽光暴曬,粗糙度,低聚物,光澤度,低聚,膜面,貼膜,酯層,物產,玻璃
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