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著錄信息

  • 專利名稱:掃描系統
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN201210267107.3
  • 公開(公告)號:CN103581489B
  • 申請日:20120730
  • 公開(公告)日:20160518
  • 申請人:上海中晶科技有限公司
  • 發明人:余國暉
  • 申請人地址:200233 上海市徐匯區漕河涇開發區桂平路680號35號樓
  • 申請人區域代碼:CN310104
  • 專利權人:上海中晶科技有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H04N1/04,H04N1/028
  • 優先權:
  • 專利代理機構:上海專利商標事務所有限公司 31100
  • 代理人:陳亮
  • 審查員:楊雙翼
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

光學模塊,影像傳感器,成像表面,掃描系統,包含,第一透鏡,光學影像,透鏡,光學模塊設置,彼此平行,并排配置,光線投射,光學系統,會聚成像,設計彈性,數字影像,同軸配置,單鏡頭,可提升,透射,光軸,一種,反射,會聚,涉及
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