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著錄信息

  • 專利名稱:具有溝槽側面的引線框架
  • 專利類型:實用新型
  • 申請號:CN201420120155.4
  • 公開(公告)號:CN203774301U
  • 申請日:20140317
  • 公開(公告)日:20140813
  • 申請人:吉林華微電子股份有限公司
  • 發明人:王林祥,郭寧
  • 申請人地址:132013 吉林省吉林市深圳街99號
  • 申請人區域代碼:CN220211
  • 專利權人:吉林華微電子股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L23/495
  • 優先權:
  • 專利代理機構:長春菁華專利商標代理事務所 22210
  • 代理人:陶尊新
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

芯片,引線框架,水槽,連接部,側面,半導體器件技術,半導體器件,兩側,結合強度,受到限制,水槽深度,封裝料,固定部,平整度,沿邊緣,中間管,散熱,阻斷,背面,連接
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