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著錄信息

專利名稱：用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置
專利類型：實用新型
申請號：CN200920199932.8
公開(公告)號：CN201524643U
申請日：20091116
公開(公告)日：20100714
申請人：浙江道明光學股份有限公司
發明人：胡智雄,胡智彪,王嘉偉
申請人地址：321300 浙江省永康市象珠三號工業區001號
申請人區域代碼：CN330784
專利權人：浙江道明光學股份有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：B05C1/08,B05C11/02,B05C11/04,G02B1/10
優先權：無
專利代理機構：杭州之江專利事務所 33216
代理人：張費微
審查員：無
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞

光敏,上料,涂覆,薄膜,涂覆量,棱鏡陣列,涂層厚度,涂覆裝置,反光膜,包覆

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