CCD里面灰塵的形成以及清(qing)潔方法

眾所周知，數碼(ma)相機的圖(tu)象傳(chuan)感(gan)(gan)器對(dui)于空氣中的灰塵非(fei)常(chang)敏感(gan)(gan)，灰塵很容易(yi)落在傳(chuan)感(gan)(gan)器表面，

當我們進行拍攝時，CCD表面沾上的灰塵就會在圖象上留下暗斑。用較小光圈（一般小于F16）拍攝的時候或用長焦距鏡進行縮小拍攝時，暗斑就尢為明顯。相信“DSLR”的影友都經歷過傳感器染塵后令照片出現黑點的煩惱。因此除了每張照片都用軟件后期處理外，最根本的方法便是清潔相機的CCD。而目前清潔CCD的工具和方法五花八門，各有利弊。故而CCD的清潔成了廠商和影友棘手的問題。
在這里(li)我們(men)先討(tao)論一下CCD灰塵的形成等(deng)問題：

1、 灰塵如何進入到CCD表面的？

就一般情況而言，一部全新的相機在放置環境合適的情況下CCD/CMOS表面是相對潔凈的。但是相機使用一段時間后CCD/CMOS表面就會沾染灰塵。所有CCD/CMOS表面的灰塵是在使用過程中（尤其是在更換鏡頭時）或在放置環境差的情況下產生的。當然，無論怎么小心使用，CCD/CMOS上都會或多或少的沾染灰塵，只是遲早的問題，因而CCD/CMOS除塵問題就更加顯得迫切和重要。
經過分析，CCD/CMOS產生灰塵的(de)過程大致(zhi)如下：

a.空氣中的灰塵；

b.相機腔內的灰塵或毛(mao)絨，油(you)污；

c.鏡(jing)頭(tou)接(jie)環(huan)上附著的灰塵；

d. 空氣中的潮氣在溫差的作用下；

機身與鏡頭的縫隙，相機腔。

更換鏡頭。

反光板快速上翻。

快門釋放 形成水珠(zhu)。

相(xiang)機腔內空氣被擾動。

凝固。

水跡(ji)或霉點吸附在CCD/CMOS表面。

灰塵飛動。

簾幕式快門打開。

灰(hui)塵吸附(fu)到CCD/CMOS表面.

2．CCD/CMOS表面灰塵的種類：

浮塵

干性

靠靜電吸(xi)附在CCD/CMOS表面(mian)帶附著力

a.顆粒狀的微塵

濕性

自帶黏結力直接粘附在CCD/CMOS表面。

b.毛絲狀灰塵

中性水跡

c.水跡狀灰塵

帶油性或(huo)其他化學成分的水跡(ji)

霉點

3.灰塵在CCD/CMOS表面的分布狀況：

一般情(qing)況下，灰塵均是(shi)以(yi)點狀(zhuang)、線狀(zhuang)或水跡狀(zhuang)分布于CCD/CMOS表面某個或若干個位置上(shang)。正常使(shi)用或存放(fang)環境合適的情(qing)況下，灰塵一般不會(hui)超過十個點。通(tong)常以(yi)點狀(zhuang)的灰塵為最多，并且不論干性、濕性都(dou)會(hui)有一定(ding)的附著力和黏(nian)結(jie)力。

4.目前主要的除塵方法：

A．吸(xi)(xi)塵(chen)法：通常采用渦輪(lun)式(shi)或(huo)活(huo)塞式(shi)的(de)吸(xi)(xi)塵(chen)泵。產生吸(xi)(xi)力(li)通過一(yi)條硬或(huo)軟的(de)導管，依靠泵的(de)吸(xi)(xi)力(li)吸(xi)(xi)除CCD/CMOS表面(mian)的(de)灰塵(chen)。就如同吸(xi)(xi)塵(chen)器的(de)原理一(yi)樣(yang)。這種方法可以(yi)不(bu)直接(jie)接(jie)觸CCD/CMOS表面(mian)對(dui)于(yu)干性浮塵(chen)有(you)一(yi)定(ding)的(de)作用。而對(dui)有(you)附著力(li)和黏結力(li)的(de)灰塵(chen)、水跡、油跡、霉點則無能為力(li)。

B．沾(zhan)的(de)(de)方法，一(yi)(yi)般采用(yong)橡(xiang)膠(jiao)棒（俗稱果(guo)凍筆），或粘(zhan)性(xing)較低(di)(di)的(de)(de)膠(jiao)紙等來(lai)粘(zhan)CCD/CMOS表面上的(de)(de)灰(hui)塵(chen)。這種方法操作雖(sui)然方便，但實(shi)際效(xiao)果(guo)不好。粘(zhan)塵(chen)時可能會(hui)(hui)(hui)留(liu)下方框(kuang)痕(hen)跡。使(shi)用(yong)不當時會(hui)(hui)(hui)出(chu)現殘膠(jiao)，而一(yi)(yi)旦膠(jiao)殘留(liu)在CCD/CMOS表面，清潔難度會(hui)(hui)(hui)更大。重復(fu)清潔容易二次(ci)污染，如果(guo)粘(zhan)力(li)過大則會(hui)(hui)(hui)粘(zhan)掉(diao)低(di)(di)通(tong)濾鏡上的(de)(de)鍍(du)膜層。

C．一(yi)次性(xing)(xing)清潔棒：一(yi)般(ban)(ban)采(cai)用質地柔軟超細纖(xian)維材料，沾上清潔溶液，固定在清潔棒上，采(cai)用無(wu)塵(chen)(chen)包裝。一(yi)般(ban)(ban)按(an)CCD的寬度分不同規格。這種方(fang)法操作方(fang)便，正常使(shi)用下不會(hui)損傷CCD/CMOS。但是(shi)這種方(fang)法在實際操作過(guo)程中，使(shi)用濕棒過(guo)后，會(hui)在CCD/CMOS表面留下橫道線狀(zhuang)痕跡。CCD/CMOS表面的灰塵(chen)(chen)只是(shi)點狀(zhuang)或條狀(zhuang)分布(bu)于(yu)(yu)CCD某(mou)個或若干個位置。無(wu)塵(chen)(chen)處(chu)根本(ben)不需要清潔。使(shi)用不當，特別是(shi)來回的擦(ca)拭會(hui)越弄越臟。其必須(xu)清潔一(yi)次換(huan)一(yi)支。而(er)且(qie)對于(yu)(yu)油性(xing)(xing)灰塵(chen)(chen)，由(you)于(yu)(yu)清潔容易(yi)不能溶解油性(xing)(xing)灰塵(chen)(chen)，而(er)無(wu)法達到清潔效果(guo)。

D．清潔刷：一(yi)般采用(yong)具有靜電(dian)附(fu)著力的柔軟刷毛，清潔CCD/CMOS表面的灰塵。使灰塵吸附(fu)在(zai)刷毛上。這種(zhong)方法對于(yu)浮塵有一(yi)定的作用(yong)。而對于(yu)有黏結力的灰塵，水(shui)跡、霉點無作用(yong)。

E．相(xiang)機自帶的(de)防塵系統，一般采用超聲波震動傳感器來達到除(chu)塵的(de)目的(de)，效(xiao)果如(ru)何(he)，見仁見智(zhi)。

F．壓縮(suo)空氣：依靠(kao)裝在容器中的壓縮(suo)氣體吹去CCD/CMOS表面的灰塵(chen)，這種方法同樣無法清(qing)除帶粘(zhan)結(jie)力的灰塵(chen)、水(shui)跡、霉點(dian)等。

G．維修(xiu)站(zhan)清(qing)(qing)潔(jie)。維修(xiu)人員一(yi)(yi)般均采用尖咀夾(jia)子(zi)，包(bao)(bao)上(shang)柔軟的(de)(de)鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)，再沾上(shang)少許帶(dai)揮(hui)(hui)發(fa)性的(de)(de)清(qing)(qing)潔(jie)溶液（多為純度(du)(du)較高(gao)的(de)(de)酒精）。針(zhen)對(dui)(dui)灰塵分布的(de)(de)位置點狀(zhuang)清(qing)(qing)潔(jie)。輕輕點擦一(yi)(yi)次就換一(yi)(yi)張鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)。如遇油性頑塵則會用稀濕的(de)(de)中(zhong)性清(qing)(qing)潔(jie)溶液清(qing)(qing)潔(jie)。然(ran)后(hou)再采用帶(dai)揮(hui)(hui)發(fa)性溶液清(qing)(qing)潔(jie)一(yi)(yi)次。綜合以上(shang)各種清(qing)(qing)潔(jie)方法(fa)，這是效果最好的(de)(de)清(qing)(qing)潔(jie)方法(fa)。然(ran)后(hou)對(dui)(dui)于大(da)多數的(de)(de)影(ying)友而(er)言(yan)。在操(cao)作方法(fa)上(shang)，比(bi)如在夾(jia)子(zi)頭(tou)上(shang)包(bao)(bao)裹(guo)鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)，選(xuan)擇鏡(jing)頭(tou)紙(zhi)，及操(cao)作力度(du)(du)以及手法(fa)上(shang)都存在一(yi)(yi)定(ding)的(de)(de)困難。因而(er)心有余悸不(bu)敢(gan)自己動手操(cao)作。

5．自行操作擔心的問題：

由(you)于(yu)相(xiang)機的傳感器十分嬌貴(gui)，影友自己動(dong)手清潔CCD心存(cun)恐懼。

主要表現在：

a. 怕刮(gua)傷CCD/CMOS

b. 怕損壞快門(men)葉(xie)片

c. 怕清潔(jie)不干凈，越(yue)弄越(yue)臟

d. 不懂操作

6，關于CCD/CMOS清潔的幾個誤區：

a. CCD/CMOS的清潔并不象(xiang)(xiang)想象(xiang)(xiang)那么難。只(zhi)要選擇的工(gong)具材料合適(shi)，操作(zuo)方法得當，是可以完全自己動手清潔的。

b. CCD/CMOS的(de)清潔只須針對(dui)點狀，條(tiao)狀的(de)灰塵(chen)分布的(de)特定位(wei)置(zhi)，點對(dui)點清潔，就象維(wei)修(xiu)人員一樣(yang)根據灰塵(chen)特定的(de)位(wei)置(zhi)清潔。而沒有灰塵(chen)部分根本(ben)用不著清潔，否(fou)則(ze)越弄越臟(zang)。

c. 對于帶附著力(li)、黏(nian)結力(li)的灰塵，水跡(ji)，油跡(ji)或霉點(dian)。只有采用接觸式(shi)的方式(shi)才能清潔干凈(jing)。而(er)所有接觸式(shi)的清潔方式(shi)必須是(shi)一(yi)次性的，不能來回擦(ca)拭，就(jiu)如專業(ye)維修人員一(yi)樣(yang)，夾子(zi)夾的鏡頭紙沾上(shang)少(shao)許(xu)清潔溶液后，只輕擦(ca)一(yi)次就(jiu)換一(yi)張鏡頭紙。

d. 對于(yu)CCD/CMOS表面的(de)(de)灰塵，不能用(yong)力(li)來(lai)回擦拭。只(zhi)能輕輕地從同一(yi)方向。對特定位置的(de)(de)灰塵輕拭一(yi)次或利用(yong)微濕(shi)（要干不干的(de)(de)效(xiao)果最(zui)好）的(de)(de)鏡頭布粘(zhan)起灰塵，而且必須一(yi)次換一(yi)張(zhang)布，以免二(er)次污染。