CCD里面灰塵的形(xing)成(cheng)以(yi)及清潔(jie)方法(fa)

眾所(suo)周知，數碼相機的圖象傳(chuan)感(gan)器(qi)對于空氣中的灰塵非(fei)常敏感(gan)，灰塵很容易落在傳(chuan)感(gan)器(qi)表(biao)面(mian)，

當我們進行拍攝時，CCD表面沾上的灰塵就會在圖象上留下暗斑。用較小光圈（一般小于F16）拍攝的時候或用長焦距鏡進行縮小拍攝時，暗斑就尢為明顯。相信“DSLR”的影友都經歷過傳感器染塵后令照片出現黑點的煩惱。因此除了每張照片都用軟件后期處理外，最根本的方法便是清潔相機的CCD。而目前清潔CCD的工具和方法五花八門，各有利弊。故而CCD的清潔成了廠商和影友棘手的問題。
在這里我們先討(tao)論(lun)一(yi)下CCD灰塵的形成等問題(ti)：

1、 灰塵如何進入到CCD表面的？

就一般情況而言，一部全新的相機在放置環境合適的情況下CCD/CMOS表面是相對潔凈的。但是相機使用一段時間后CCD/CMOS表面就會沾染灰塵。所有CCD/CMOS表面的灰塵是在使用過程中（尤其是在更換鏡頭時）或在放置環境差的情況下產生的。當然，無論怎么小心使用，CCD/CMOS上都會或多或少的沾染灰塵，只是遲早的問題，因而CCD/CMOS除塵問題就更加顯得迫切和重要。
經(jing)過分析，CCD/CMOS產生灰塵的過程大致如下：

a.空氣中的灰塵；

b.相(xiang)機腔內(nei)的灰塵或毛絨，油污；

c.鏡(jing)頭(tou)接環上附(fu)著的灰塵；

d. 空氣中的(de)潮氣在溫差的(de)作用下(xia)；

機身與(yu)鏡(jing)頭(tou)的縫(feng)隙，相機腔。

更換鏡頭。

反光板快速上翻。

快(kuai)門(men)釋放 形成水珠(zhu)。

相機腔內空氣(qi)被擾(rao)動。

凝固。

水(shui)跡或霉點(dian)吸附(fu)在CCD/CMOS表面。

灰塵飛動。

簾幕式快門打開。

灰塵(chen)吸附到CCD/CMOS表面.

2．CCD/CMOS表面灰塵的種類：

浮塵

干性

靠靜電吸附在CCD/CMOS表面帶(dai)附著力

a.顆粒狀的微塵

濕性

自帶(dai)黏結力直接粘附在(zai)CCD/CMOS表(biao)面。

b.毛絲狀灰塵

中性水跡

c.水跡狀灰塵

帶油性或其他化(hua)學成分的(de)水跡

霉點

3.灰塵在CCD/CMOS表面的分布狀況：

一(yi)般情況(kuang)下，灰(hui)塵(chen)均是以點狀、線狀或(huo)水(shui)跡狀分布(bu)于(yu)CCD/CMOS表面某個或(huo)若干(gan)個位置上。正(zheng)常使用或(huo)存放(fang)環境合適的情況(kuang)下，灰(hui)塵(chen)一(yi)般不會(hui)超過十個點。通常以點狀的灰(hui)塵(chen)為最(zui)多(duo)，并且不論干(gan)性、濕(shi)性都(dou)會(hui)有一(yi)定的附著力和黏結力。

4.目前主要的除塵方法：

A．吸(xi)塵(chen)法(fa)：通常采(cai)用(yong)渦(wo)輪式或活塞式的吸(xi)塵(chen)泵(beng)。產生(sheng)吸(xi)力(li)(li)通過(guo)一條硬或軟的導管(guan)，依靠泵(beng)的吸(xi)力(li)(li)吸(xi)除CCD/CMOS表(biao)(biao)面的灰塵(chen)。就如同(tong)吸(xi)塵(chen)器的原理一樣。這種方法(fa)可以(yi)不直接接觸CCD/CMOS表(biao)(biao)面對于干性浮塵(chen)有一定(ding)的作(zuo)用(yong)。而對有附著力(li)(li)和黏結力(li)(li)的灰塵(chen)、水跡、油跡、霉點(dian)則無能為力(li)(li)。

B．沾的(de)方法，一(yi)般采用橡(xiang)膠(jiao)棒(bang)（俗稱(cheng)果(guo)凍筆(bi)），或粘(zhan)性較低的(de)膠(jiao)紙等來粘(zhan)CCD/CMOS表(biao)面上的(de)灰塵。這(zhe)種方法操(cao)作雖(sui)然方便，但實際(ji)效果(guo)不好(hao)。粘(zhan)塵時可能會(hui)(hui)留下方框痕跡。使(shi)用不當時會(hui)(hui)出現殘膠(jiao)，而(er)一(yi)旦膠(jiao)殘留在CCD/CMOS表(biao)面，清(qing)潔(jie)難度會(hui)(hui)更大(da)。重復清(qing)潔(jie)容易二次污染(ran)，如果(guo)粘(zhan)力過(guo)大(da)則會(hui)(hui)粘(zhan)掉低通濾鏡上的(de)鍍膜層。

C．一(yi)次性(xing)清(qing)(qing)(qing)潔(jie)棒：一(yi)般采用(yong)(yong)質地柔軟超細纖維材料(liao)，沾上清(qing)(qing)(qing)潔(jie)溶液，固定在(zai)清(qing)(qing)(qing)潔(jie)棒上，采用(yong)(yong)無塵包裝。一(yi)般按CCD的(de)寬度(du)分不(bu)(bu)(bu)同規格。這(zhe)種方(fang)法(fa)操作(zuo)方(fang)便，正常使用(yong)(yong)下不(bu)(bu)(bu)會損傷(shang)CCD/CMOS。但是(shi)這(zhe)種方(fang)法(fa)在(zai)實(shi)際操作(zuo)過(guo)程中，使用(yong)(yong)濕(shi)棒過(guo)后，會在(zai)CCD/CMOS表面(mian)留下橫道(dao)線(xian)狀(zhuang)痕跡。CCD/CMOS表面(mian)的(de)灰(hui)塵只(zhi)是(shi)點狀(zhuang)或(huo)條狀(zhuang)分布于(yu)CCD某個或(huo)若干個位置。無塵處(chu)根本不(bu)(bu)(bu)需要清(qing)(qing)(qing)潔(jie)。使用(yong)(yong)不(bu)(bu)(bu)當，特別是(shi)來回的(de)擦拭會越弄越臟。其必須清(qing)(qing)(qing)潔(jie)一(yi)次換一(yi)支。而且對于(yu)油(you)性(xing)灰(hui)塵，由于(yu)清(qing)(qing)(qing)潔(jie)容易不(bu)(bu)(bu)能溶解油(you)性(xing)灰(hui)塵，而無法(fa)達到清(qing)(qing)(qing)潔(jie)效果。

D．清(qing)潔(jie)刷：一般采用(yong)(yong)具有(you)靜電(dian)附著(zhu)力(li)的(de)柔軟刷毛，清(qing)潔(jie)CCD/CMOS表面(mian)的(de)灰(hui)塵。使灰(hui)塵吸附在刷毛上。這種方法對于浮(fu)塵有(you)一定的(de)作用(yong)(yong)。而對于有(you)黏結力(li)的(de)灰(hui)塵，水跡、霉點無作用(yong)(yong)。

E．相機自帶的防塵系(xi)統，一般(ban)采(cai)用超聲波震動傳感(gan)器來達到(dao)除(chu)塵的目的，效果如何，見仁(ren)見智。

F．壓縮空氣(qi)：依靠裝在容器中的(de)壓縮氣(qi)體吹去CCD/CMOS表面的(de)灰塵(chen)，這(zhe)種方法(fa)同樣無法(fa)清(qing)除帶粘(zhan)結力的(de)灰塵(chen)、水跡、霉點等。

G．維(wei)修(xiu)站清(qing)潔(jie)(jie)。維(wei)修(xiu)人員(yuan)一(yi)(yi)般均采用(yong)尖咀(ju)夾子(zi)(zi)，包上柔(rou)軟的鏡(jing)(jing)頭紙，再(zai)沾上少許帶(dai)揮發性的清(qing)潔(jie)(jie)溶液(ye)（多(duo)(duo)為純度較高(gao)的酒精）。針(zhen)對灰塵分(fen)布(bu)的位置(zhi)點狀清(qing)潔(jie)(jie)。輕輕點擦(ca)一(yi)(yi)次(ci)就換(huan)一(yi)(yi)張(zhang)鏡(jing)(jing)頭紙。如遇油性頑塵則會(hui)用(yong)稀濕(shi)的中性清(qing)潔(jie)(jie)溶液(ye)清(qing)潔(jie)(jie)。然后(hou)再(zai)采用(yong)帶(dai)揮發性溶液(ye)清(qing)潔(jie)(jie)一(yi)(yi)次(ci)。綜(zong)合以上各種清(qing)潔(jie)(jie)方(fang)法，這是效果(guo)最好的清(qing)潔(jie)(jie)方(fang)法。然后(hou)對于大多(duo)(duo)數的影友而言。在操作(zuo)方(fang)法上，比如在夾子(zi)(zi)頭上包裹鏡(jing)(jing)頭紙，選擇鏡(jing)(jing)頭紙，及操作(zuo)力(li)度以及手法上都存在一(yi)(yi)定的困難。因而心有(you)余悸不敢自己動手操作(zuo)。

5．自行操作擔心的問題：

由于(yu)相機的傳感器十分(fen)嬌貴，影友自(zi)己(ji)動手清潔CCD心存恐懼。

主要表現在：

a. 怕刮(gua)傷CCD/CMOS

b. 怕損壞(huai)快(kuai)門葉片

c. 怕(pa)清潔不(bu)干凈，越弄(nong)越臟(zang)

d. 不懂操作

6，關于CCD/CMOS清潔的幾個誤區：

a. CCD/CMOS的(de)清潔并不象(xiang)想象(xiang)那(nei)么難。只要選擇(ze)的(de)工具材料合(he)適(shi)，操作(zuo)方法得當，是(shi)可以(yi)完(wan)全自己動手清潔的(de)。

b. CCD/CMOS的(de)清(qing)(qing)潔只(zhi)須(xu)針對點狀，條(tiao)狀的(de)灰(hui)塵分(fen)布的(de)特(te)定(ding)位置，點對點清(qing)(qing)潔，就象維(wei)修人員一樣根據灰(hui)塵特(te)定(ding)的(de)位置清(qing)(qing)潔。而沒(mei)有灰(hui)塵部分(fen)根本(ben)用(yong)不著(zhu)清(qing)(qing)潔，否則越(yue)弄越(yue)臟。

c. 對于帶附著(zhu)力、黏結(jie)力的(de)(de)灰塵，水跡，油跡或霉(mei)點。只有采用接觸式的(de)(de)方(fang)式才(cai)能(neng)清(qing)潔干凈。而(er)所有接觸式的(de)(de)清(qing)潔方(fang)式必須是一(yi)(yi)次(ci)性的(de)(de)，不(bu)能(neng)來(lai)回擦(ca)拭，就如專業維修人員一(yi)(yi)樣，夾子夾的(de)(de)鏡(jing)頭紙(zhi)沾上少許(xu)清(qing)潔溶液后，只輕擦(ca)一(yi)(yi)次(ci)就換一(yi)(yi)張鏡(jing)頭紙(zhi)。

d. 對于CCD/CMOS表面的灰塵(chen)(chen)，不能(neng)用(yong)力(li)來回(hui)擦拭。只能(neng)輕(qing)(qing)輕(qing)(qing)地從同一(yi)方向。對特定(ding)位(wei)置的灰塵(chen)(chen)輕(qing)(qing)拭一(yi)次(ci)或(huo)利用(yong)微(wei)濕(shi)（要(yao)干不干的效果最好）的鏡頭布(bu)粘起(qi)灰塵(chen)(chen)，而(er)且必須一(yi)次(ci)換一(yi)張布(bu)，以免二(er)次(ci)污染。