芒果视频下载

一、靶材是什么材料

靶(ba)(ba)材(cai)(cai)是通過磁控濺(jian)射(she)(she)、多弧離子(zi)鍍或其他類型的(de)(de)(de)(de)(de)鍍膜(mo)系統在適當(dang)工藝條件下濺(jian)射(she)(she)在基板上(shang)形(xing)成各種功能薄膜(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)濺(jian)射(she)(she)源(yuan)。簡單說(shuo)的(de)(de)(de)(de)(de)話，靶(ba)(ba)材(cai)(cai)就是高速荷能粒子(zi)轟擊的(de)(de)(de)(de)(de)目標(biao)材(cai)(cai)料，用于高能激(ji)(ji)光武器中，不(bu)(bu)同(tong)功率(lv)密度、不(bu)(bu)同(tong)輸(shu)出波形(xing)、不(bu)(bu)同(tong)波長的(de)(de)(de)(de)(de)激(ji)(ji)光與(yu)不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)相互(hu)作用時，會產生不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)殺傷破(po)壞(huai)效(xiao)應。例如：蒸發磁控濺(jian)射(she)(she)鍍膜(mo)是加熱蒸發鍍膜(mo)、鋁(lv)膜(mo)等。更換(huan)不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)（如鋁(lv)、銅(tong)、不(bu)(bu)銹鋼、鈦、鎳靶(ba)(ba)等），即可得到不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)膜(mo)系（如超硬、耐磨、防(fang)腐的(de)(de)(de)(de)(de)合金膜(mo)等）。

二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶材目前(qian)被普(pu)遍(bian)應用(yong)(yong)于平面顯(xian)示器(qi)（FPD)上。近年來，平面顯(xian)示器(qi)在(zai)市場上的(de)(de)應用(yong)(yong)率逐年增(zeng)高，同時也帶動了ITO靶材的(de)(de)技(ji)術與市場需求。ITO靶材有兩種(zhong)，一種(zhong)是(shi)采(cai)用(yong)(yong)銦(yin)(yin)錫合金靶材，另外一種(zhong)是(shi)采(cai)用(yong)(yong)納(na)米狀態的(de)(de)氧化(hua)銦(yin)(yin)和氧化(hua)錫粉(fen)混合后燒(shao)結。

2、用于微電子領域

靶材(cai)(cai)也被應(ying)用(yong)于半導(dao)體(ti)產(chan)(chan)業，相對來說半導(dao)體(ti)產(chan)(chan)業對于靶材(cai)(cai)濺射薄膜的(de)品(pin)質(zhi)要(yao)求(qiu)是比較苛刻的(de)。現在(zai)12英寸（300衄(nv)口）的(de)硅晶片也被制作出來，但是互連線的(de)寬度(du)卻(que)在(zai)減小(xiao)。目前(qian)硅片制造(zao)商對于靶材(cai)(cai)的(de)要(yao)求(qiu)都(dou)是大尺寸、高純度(du)、低偏析(xi)以(yi)及細晶粒等，對其品(pin)質(zhi)要(yao)求(qiu)比較高，這(zhe)就要(yao)求(qiu)靶材(cai)(cai)需(xu)要(yao)具有更(geng)好的(de)微觀(guan)結構。

3、用于存儲技術上

存儲(chu)技術行業對(dui)于靶材的(de)需求量(liang)(liang)很大，高(gao)密(mi)度(du)、大容(rong)量(liang)(liang)硬(ying)盤的(de)發展(zhan)(zhan)，離不開大量(liang)(liang)的(de)巨(ju)磁(ci)(ci)阻薄(bo)(bo)膜材料，CoF~Cu多層復合(he)膜是如(ru)今應用比(bi)較(jiao)廣泛(fan)的(de)巨(ju)磁(ci)(ci)阻薄(bo)(bo)膜結構。磁(ci)(ci)光盤需要(yao)的(de)TbFeCo合(he)金靶材還在進一步發展(zhan)(zhan)，用它制造出(chu)來(lai)的(de)磁(ci)(ci)光盤有著(zhu)使用壽命(ming)長、存儲(chu)容(rong)量(liang)(liang)大以及(ji)可(ke)反復無(wu)接(jie)觸擦寫的(de)特點。

三、靶材的分類有哪些

1、根據不同材質劃分

（1）金屬靶材

鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)Ni、鈦靶(ba)(ba)(ba)(ba)Ti、鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)Zn、鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)Cr、鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)Mg、鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)Nb、錫靶(ba)(ba)(ba)(ba)Sn、鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)Al、銦靶(ba)(ba)(ba)(ba)In、鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)Fe、鋯鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)ZrAl、鈦鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)Zr、鋁(lv)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)Si、銅靶(ba)(ba)(ba)(ba)Cu、鉭靶(ba)(ba)(ba)(ba)Ta、鍺靶(ba)(ba)(ba)(ba)Ge、銀(yin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)Ag、鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)Co、金靶(ba)(ba)(ba)(ba)Au、釓靶(ba)(ba)(ba)(ba)Gd、鑭(lan)靶(ba)(ba)(ba)(ba)La、釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)Y、鈰靶(ba)(ba)(ba)(ba)Ce、不銹(xiu)鋼靶(ba)(ba)(ba)(ba)、鎳鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)Hf、鉬靶(ba)(ba)(ba)(ba)Mo、鐵鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)FeNi、鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)、W等(deng)。

（2）陶瓷靶材

ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、碳(tan)(tan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉻(ge)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硫(liu)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、一(yi)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、五(wu)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，、二(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)(er)硼化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)(er)硼化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎢(wu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)五(wu)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)鉭(tan)，五(wu)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硒(xi)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，碳(tan)(tan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，鈮酸(suan)鋰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鐠靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鋇(bei)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、濺射靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材等。

（3）合金靶材

鐵鈷靶(ba)(ba)FeCo、鋁(lv)(lv)硅(gui)靶(ba)(ba)AlSi、鈦(tai)硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鉻(ge)硅(gui)靶(ba)(ba)CrSi、鋅鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)ZnAl、鈦(tai)鋅靶(ba)(ba)材TiZn、鈦(tai)鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)TiAl、鈦(tai)鋯(gao)靶(ba)(ba)TiZr、鈦(tai)硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鈦(tai)鎳(nie)(nie)靶(ba)(ba)TiNi、鎳(nie)(nie)鉻(ge)靶(ba)(ba)NiCr、鎳(nie)(nie)鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)NiAl、鎳(nie)(nie)釩靶(ba)(ba)NiV、鎳(nie)(nie)鐵靶(ba)(ba)NiFe等。

2、根據不同應用方向劃分

（1）半導體關聯靶材

電(dian)極、布線薄(bo)膜：鋁(lv)靶(ba)(ba)材(cai)，銅(tong)靶(ba)(ba)材(cai)，金(jin)靶(ba)(ba)材(cai)，銀靶(ba)(ba)材(cai)，鈀(ba)靶(ba)(ba)材(cai)，鉑(bo)靶(ba)(ba)材(cai)，鋁(lv)硅(gui)(gui)合(he)金(jin)靶(ba)(ba)材(cai)，鋁(lv)硅(gui)(gui)銅(tong)合(he)金(jin)靶(ba)(ba)材(cai)等。

儲存器電極(ji)薄膜：鉬靶(ba)材(cai)(cai)，鎢靶(ba)材(cai)(cai)，鈦靶(ba)材(cai)(cai)等。

粘(zhan)附薄(bo)膜：鎢(wu)靶材，鈦靶材等。

電容器(qi)絕緣膜(mo)薄膜(mo)：鋯(gao)鈦酸(suan)鉛(qian)靶(ba)材(cai)等。

（2）磁記錄靶材

垂(chui)直磁(ci)記錄薄(bo)膜：鈷鉻(ge)合金靶材等。

硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合(he)金靶(ba)材，鈷鉻鉑(bo)合(he)金靶(ba)材，鈷鉻鉭鉑(bo)合(he)金靶(ba)材等。

薄(bo)膜磁頭：鈷鉭鉻(ge)合金(jin)靶(ba)材，鈷鉻(ge)鋯(gao)合金(jin)靶(ba)材等。

人工晶(jing)體(ti)薄膜：鈷鉑合金靶材(cai)，鈷鈀合金靶材(cai)等。

（3）光記錄靶材

相變光盤記錄薄膜：硒(xi)化(hua)碲靶材(cai)，硒(xi)化(hua)銻靶材(cai)，鍺銻碲合(he)金(jin)靶材(cai)，鍺碲合(he)金(jin)靶材(cai)等。

磁光盤記錄(lu)薄膜：鏑鐵鈷合(he)(he)金靶(ba)材(cai)(cai)，鋱鏑鐵合(he)(he)金靶(ba)材(cai)(cai)，鋱鐵鈷合(he)(he)金靶(ba)材(cai)(cai)，氧化(hua)(hua)鋁靶(ba)材(cai)(cai)，氧化(hua)(hua)鎂靶(ba)材(cai)(cai)，氮(dan)化(hua)(hua)硅靶(ba)材(cai)(cai)等。

四、靶材的性能和指標

靶(ba)材制約著濺(jian)鍍薄膜的物理，力學性(xing)能，影響鍍膜質量，因而要求靶(ba)材的制備應(ying)滿(man)足以下要求：

1、純度：要求雜質含量低純度高，靶材的純(chun)度影(ying)響(xiang)薄膜(mo)的均勻性(xing)，以(yi)純(chun)Al靶為(wei)例(li)，純(chun)度越高，濺(jian)射(she)Al膜(mo)的耐(nai)蝕(shi)性(xing)及(ji)電學、光學性(xing)能(neng)越好(hao)。不(bu)(bu)過不(bu)(bu)同用(yong)途(tu)的靶材(cai)對純(chun)度要(yao)(yao)求也不(bu)(bu)同，一般工業用(yong)靶材(cai)純(chun)度要(yao)(yao)求不(bu)(bu)高，但就(jiu)半導體、顯示器件(jian)等領域用(yong)靶材(cai)對純(chun)度要(yao)(yao)求是十分嚴格(ge)的，磁性(xing)薄膜(mo)用(yong)靶材(cai)對純(chun)度的要(yao)(yao)求一般為(wei)99.9%以(yi)上，ITO中的氧化銦以(yi)及(ji)氧化錫的純(chun)度則要(yao)(yao)求不(bu)(bu)低于99.99%。

2、雜(za)質含量(liang)(liang)：靶(ba)材(cai)作為濺射中的(de)(de)陰極源，固體中的(de)(de)雜(za)質和(he)氣孔(kong)中的(de)(de)O2和(he)H2O是沉積薄膜的(de)(de)主要污(wu)染源，不(bu)同用途的(de)(de)靶(ba)材(cai)對單(dan)個雜(za)質含量(liang)(liang)的(de)(de)要求也不(bu)同，如：半導體電(dian)極布(bu)線用的(de)(de)W，Mo，Ti等靶(ba)材(cai)對U，Th等放(fang)射性(xing)元素的(de)(de)含量(liang)(liang)要求低(di)于(yu)3*10-9，光盤反射膜用的(de)(de)Al合(he)金靶(ba)材(cai)則要求O2的(de)(de)含量(liang)(liang)低(di)于(yu)2*10-4。

3、高(gao)(gao)(gao)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)：為了減少靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)中(zhong)的(de)(de)氣孔(kong)，提(ti)高(gao)(gao)(gao)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)性(xing)能一(yi)般(ban)要(yao)求(qiu)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)具(ju)有較(jiao)高(gao)(gao)(gao)的(de)(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)，靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)不僅影(ying)響濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)時的(de)(de)沉(chen)積速率(lv)、濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)膜(mo)粒子的(de)(de)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)和(he)(he)放(fang)電(dian)現象等(deng)，還影(ying)響濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)電(dian)學和(he)(he)光(guang)學性(xing)能。致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)性(xing)越(yue)好(hao)，濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)膜(mo)粒子的(de)(de)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)越(yue)低(di)，放(fang)電(dian)現象越(yue)弱。高(gao)(gao)(gao)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)具(ju)有導電(dian)、導熱性(xing)好(hao)，強度(du)(du)高(gao)(gao)(gao)等(deng)優點(dian)，使用(yong)這種靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)鍍(du)膜(mo)，濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)功率(lv)小，成膜(mo)速率(lv)高(gao)(gao)(gao)，薄(bo)膜(mo)不易(yi)開裂，靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)使用(yong)壽(shou)命長，且濺(jian)(jian)(jian)(jian)鍍(du)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)電(dian)阻率(lv)低(di)，透光(guang)率(lv)高(gao)(gao)(gao)。靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)主(zhu)要(yao)取決于制(zhi)備(bei)工藝(yi)。一(yi)般(ban)而言，鑄造靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)高(gao)(gao)(gao)而燒結靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)相對較(jiao)低(di)，因此提(ti)高(gao)(gao)(gao)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)是燒結制(zhi)備(bei)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)技術關鍵之一(yi)。

4、成(cheng)分與(yu)組(zu)織結構均(jun)勻(yun)(yun)，靶材成(cheng)分均(jun)勻(yun)(yun)是鍍膜質(zhi)量穩定的重要保證(zheng)，尤(you)其(qi)是對于復(fu)相結構的合(he)金靶材和混合(he)靶材。如ITO，為(wei)了保證(zheng)膜質(zhi)量，要求靶中In2O3-SnO2組(zu)成(cheng)均(jun)勻(yun)(yun)，都為(wei)93：7或(huo)91：9（分子比）。

5、晶(jing)粒尺寸(cun)(cun)細小，靶(ba)材的晶(jing)粒尺寸(cun)(cun)越(yue)細小，濺(jian)(jian)鍍(du)薄(bo)膜的厚度分布越(yue)均(jun)勻，濺(jian)(jian)射速(su)率越(yue)快(kuai)。