超濾機是凈(jing)水設備，使用期間需要定期進行清(qing)洗，以(yi)免影響(xiang)過濾效果，超濾機的清(qing)洗分(fen)為物理清(qing)洗和化學清(qing)洗兩種：

1、物理清洗

（1）正洗(xi)：正洗(xi)是通過(guo)打(da)開進液(ye)閥，關(guan)閉產水閥，讓沖洗(xi)液(ye)高流速全部從(cong)濃水上排閥流出，從(cong)而對膜表(biao)面(mian)進行高速沖刷(shua)，降低膜表(biao)面(mian)的污(wu)染物富(fu)集(ji)。

（2）反洗(xi)：此(ci)操作與過(guo)濾逆向，即(ji)反洗(xi)水(shui)(shui)從清液側進(jin)入(ru)超濾纖(xian)維中(zhong)透過(guo)膜流(liu)向濃水(shui)(shui)側，通過(guo)大流(liu)量的(de)反洗(xi)水(shui)(shui)，將(jiang)膜孔道(dao)和中(zhong)空纖(xian)維膜表面(mian)的(de)污(wu)(wu)染物(wu)沖洗(xi)掉，并(bing)通過(guo)下排(pai)(pai)閥將(jiang)被(bei)沖洗(xi)掉的(de)污(wu)(wu)染物(wu)排(pai)(pai)出(chu)。

（3）氣擦洗(xi)：通(tong)過氣體搖蕩膜(mo)絲來(lai)清(qing)除膜(mo)表面(mian)的(de)污染物；氣水(shui)洗(xi)：反(fan)洗(xi)水(shui)經(jing)超(chao)濾(lv)反(fan)洗(xi)泵送從超(chao)濾(lv)膜(mo)胳戴綿管的(de)清(qing)液側(ce)進(jin)入濃縮側(ce)排(pai)出，同時從超(chao)濾(lv)膜(mo)管過濾(lv)進(jin)水(shui)口間歇(xie)通(tong)入壓縮空(kong)氣，氣水(shui)結合進(jin)行反(fan)洗(xi)能(neng)有效(xiao)的(de)造成剪切力(li)從而更(geng)有效(xiao)的(de)剝離污染在(zai)膜(mo)表面(mian)的(de)顆粒，并(bing)把部(bu)分顆粒帶出超(chao)濾(lv)膜(mo)管。

2、化學清洗

在正(zheng)常運行一段時間(jian)后，由于超濾膜組件被廢水(shui)中的(de)懸浮顆(ke)粒、有機物等物質的(de)污(wu)染，使得產水(shui)流量下(xia)降，膜壓(ya)差升高（即“產水(shui)壓(ya)力系數(shu)”下(xia)降）。且(qie)這種現象通過物理方法、及分(fen)散化學(xue)清(qing)(qing)洗(xi)均(jun)不能(neng)恢(hui)復。為了使膜組件恢(hui)復原(yuan)來的(de)性能(neng)，必須定期(qi)進(jin)行化學(xue)清(qing)(qing)洗(xi)。具體清(qing)(qing)洗(xi)方案應由污(wu)染物特(te)性及污(wu)染程度(du)決定。

（1）酸洗

采用(yong)酸(suan)性(xing)溶液對超(chao)(chao)濾(lv)裝置進(jin)行清洗，該清洗方案適(shi)用(yong)于，由(you)于當進(jin)水(shui)中(zhong)無機鹽含量超(chao)(chao)過設計標準，或者超(chao)(chao)濾(lv)膜組件的進(jin)水(shui)中(zhong)懸浮物特別高等(deng)，而對膜的進(jin)水(shui)側造(zao)成(cheng)的非(fei)有機物污染。

清(qing)洗(xi)使用(yong)1-2%檸檬酸(suan)溶液(ye)，并(bing)用(yong)氨水調整pH值為2~4或0.3% HCl溶液(ye)，適用(yong)于(yu)鐵污染及碳酸(suan)鹽結晶污堵等。

A、按關閉程序關閉超濾系統。

B、關(guan)閉超濾系(xi)統所(suo)有閥門。

C、在(zai)清洗溶(rong)液箱中(zhong)配制好1-2%的檸檬(meng)酸(suan)并加氨水調節(jie)pH值(zhi)為2~4或0.3% HCl溶(rong)液，并充分攪拌使(shi)其(qi)混合均勻。

（2）堿洗

采(cai)用堿性氧化劑(ji)溶液(ye)對超濾裝置(zhi)進行清洗。當(dang)進水中(zhong)有(you)機物含量高，可能引起濾膜受到有(you)機物污染。并(bing)且(qie)當(dang)條件有(you)利于生(sheng)物生(sheng)存時，一些細菌和藻類(lei)也將在超濾膜組件中(zhong)產生(sheng)，由此引起生(sheng)物污染。

使(shi)用0.1% NaClO + 0.05% NaOH溶液，用于清洗由有機(ji)物及活性生物引起(qi)的超濾(lv)膜(mo)組件的污染。