上海集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)研(yan)發(fa)中心有(you)限公(gong)司(ICRD)成(cheng)(cheng)立(li)于2002年(nian),是國家支持組(zu)建、產學研(yan)合作的(de)(de)(de)集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)研(yan)發(fa)中心。ICRD由中國集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)相關(guan)企(qi)業集團(tuan)和高校(xiao)聯合投資組(zu)建而(er)成(cheng)(cheng),是一個獨(du)立(li)的(de)(de)(de)面向全(quan)行業集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)企(qi)業、大學及(ji)研(yan)究所開放的(de)(de)(de)公(gong)共研(yan)發(fa)機(ji)構(gou)。
上海集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)研(yan)(yan)發(fa)中(zhong)心聚焦集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)主流技(ji)術路(lu)線(xian),致力(li)于解決重大共(gong)性技(ji)術的研(yan)(yan)發(fa)及(ji)(ji)服(fu)務(wu)支(zhi)撐問題,并為(wei)自主可控(kong)產(chan)業鏈建設(she)提(ti)(ti)(ti)供(gong)公共(gong)的裝備和材料(liao)驗證(zheng)平臺。ICRD的主要(yao)功能包括:為(wei)集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)企(qi)(qi)業和研(yan)(yan)發(fa)單位(wei)提(ti)(ti)(ti)供(gong)前端器件及(ji)(ji)工藝(yi)技(ji)術的前期(qi)研(yan)(yan)發(fa)和產(chan)品(pin)級驗證(zheng);為(wei)集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)裝備和材料(liao)提(ti)(ti)(ti)供(gong)研(yan)(yan)制(zhi)到上線(xian)的驗證(zheng)和工藝(yi)配套(tao);為(wei)集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)線(xian)升級提(ti)(ti)(ti)供(gong)知(zhi)識產(chan)權和技(ji)術轉(zhuan)移(yi);為(wei)國內設(she)計(ji)企(qi)(qi)業研(yan)(yan)制(zhi)芯(xin)片提(ti)(ti)(ti)供(gong)特色工藝(yi)和共(gong)享IP核服(fu)務(wu);為(wei)企(qi)(qi)業及(ji)(ji)高(gao)校(xiao)提(ti)(ti)(ti)供(gong)培養集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)技(ji)術人(ren)才和高(gao)技(ji)能人(ren)才的實訓(xun)基地。
上海(hai)集成(cheng)電(dian)(dian)路(lu)研發中心位(wei)于上海(hai)市張(zhang)江高科技園區,地理(li)(li)位(wei)置毗鄰華力微電(dian)(dian)子和(he)中芯(xin)國際。ICRD建(jian)有12英寸開(kai)放(fang)式集成(cheng)電(dian)(dian)路(lu)工(gong)藝(yi)研發和(he)裝備(bei)材料試驗(yan)平(ping)臺,凈化(hua)面積超過(guo)3000平(ping)方米,研發環(huan)境及(ji)管理(li)(li)系統和(he)大(da)生產(chan)線匹(pi)配,可(ke)實現硅片無沾污進(jin)出和(he)工(gong)藝(yi)流程無縫銜(xian)接,加快了(le)技術研發和(he)驗(yan)證速度。ICRD擁有浸沒式193nm光刻機(ji)(ji)、硅刻蝕機(ji)(ji)、原子層薄膜生長(ALD)、高能(neng)離子注(zhu)入機(ji)(ji)以及(ji)全套銅互連和(he)Low-K等工(gong)藝(yi)設(she)備(bei),工(gong)藝(yi)研發能(neng)力可(ke)達14納米以下。
上(shang)海集(ji)成電(dian)路(lu)研(yan)(yan)發中心擁(yong)有一批來自(zi)國(guo)(guo)際(ji)研(yan)(yan)發機構和(he)(he)跨國(guo)(guo)公司(si)的(de)研(yan)(yan)究人(ren)員,并通過(guo)國(guo)(guo)內(nei)外產業合(he)作持(chi)續培養和(he)(he)鍛煉了一支擁(yong)有自(zi)主工藝技術提(ti)升能力的(de)研(yan)(yan)發隊伍(wu),為中國(guo)(guo)集(ji)成電(dian)路(lu)產業的(de)自(zi)主可控持(chi)續發展提(ti)供(gong)了中堅力量(liang)。ICRD掌握了(le)多個技(ji)(ji)術代的(de)工(gong)(gong)藝(yi)(yi)技(ji)(ji)術和(he)(he)知識產(chan)(chan)權,為中國集成電(dian)路生產(chan)(chan)線的(de)建設(she)提供(gong)了(le)多套技(ji)(ji)術轉移和(he)(he)服務;通(tong)過(guo)設(she)立產(chan)(chan)業界共性技(ji)(ji)術研(yan)發(fa)(fa)項目(mu),進行FinFET器(qi)(qi)件及工(gong)(gong)藝(yi)(yi)、FDSOI關鍵工(gong)(gong)藝(yi)(yi)、5nm以下納米線晶(jing)體管(guan)等新器(qi)(qi)件和(he)(he)工(gong)(gong)藝(yi)(yi)技(ji)(ji)術的(de)聯合研(yan)發(fa)(fa);開展(zhan)產(chan)(chan)學(xue)研(yan)合作,研(yan)發(fa)(fa)STT-MRAM、晶(jing)體管(guan)級3D堆疊、量(liang)子點傳感器(qi)(qi)、類神(shen)經元晶(jing)體管(guan)等前(qian)沿技(ji)(ji)術和(he)(he)產(chan)(chan)品;通(tong)過(guo)以精湛工(gong)(gong)藝(yi)(yi)帶動(dong)裝(zhuang)備(bei)和(he)(he)材料研(yan)發(fa)(fa)評價的(de)方式,為國產(chan)(chan)光(guang)刻(ke)機、刻(ke)蝕機、銅互連、光(guang)刻(ke)膠、大硅片等裝(zhuang)備(bei)和(he)(he)材料提供(gong)驗(yan)證和(he)(he)工(gong)(gong)藝(yi)(yi)配套,推動(dong)供(gong)應(ying)鏈(lian)的(de)國產(chan)(chan)化(hua)。