上(shang)海集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)研發(fa)中心有限公(gong)司(ICRD)成(cheng)(cheng)立于2002年,是國(guo)家支(zhi)持組建、產學研合作的集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)研發(fa)中心。ICRD由(you)中國(guo)集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)相關企(qi)業(ye)集團和高(gao)校聯合投資組建而成(cheng)(cheng),是一(yi)個獨立的面向全(quan)行業(ye)集成(cheng)(cheng)電(dian)路(lu)企(qi)業(ye)、大學及研究所開放的公(gong)共研發(fa)機構。
上(shang)(shang)海集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)研(yan)發中心(xin)聚焦集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)主(zhu)流技(ji)(ji)術(shu)(shu)路(lu)線,致力于解決重大共性(xing)技(ji)(ji)術(shu)(shu)的研(yan)發及(ji)服(fu)務(wu)支撐問題,并為(wei)(wei)(wei)自主(zhu)可(ke)控產(chan)業(ye)(ye)(ye)鏈建設提(ti)供(gong)公共的裝(zhuang)備和(he)(he)材料(liao)驗(yan)證(zheng)平臺(tai)。ICRD的主(zhu)要(yao)功能(neng)包括:為(wei)(wei)(wei)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)企(qi)業(ye)(ye)(ye)和(he)(he)研(yan)發單位提(ti)供(gong)前端器件及(ji)工藝技(ji)(ji)術(shu)(shu)的前期研(yan)發和(he)(he)產(chan)品級驗(yan)證(zheng);為(wei)(wei)(wei)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)裝(zhuang)備和(he)(he)材料(liao)提(ti)供(gong)研(yan)制(zhi)到上(shang)(shang)線的驗(yan)證(zheng)和(he)(he)工藝配套;為(wei)(wei)(wei)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)生產(chan)線升級提(ti)供(gong)知(zhi)識產(chan)權和(he)(he)技(ji)(ji)術(shu)(shu)轉(zhuan)移;為(wei)(wei)(wei)國內設計(ji)企(qi)業(ye)(ye)(ye)研(yan)制(zhi)芯片提(ti)供(gong)特色工藝和(he)(he)共享IP核(he)服(fu)務(wu);為(wei)(wei)(wei)企(qi)業(ye)(ye)(ye)及(ji)高校提(ti)供(gong)培養(yang)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)技(ji)(ji)術(shu)(shu)人(ren)才和(he)(he)高技(ji)(ji)能(neng)人(ren)才的實訓基地。
上(shang)海集成電路研(yan)發(fa)中心位于上(shang)海市張江(jiang)高(gao)科技園區,地理位置毗鄰華(hua)力微電子和(he)(he)中芯(xin)國際(ji)。ICRD建有12英(ying)寸開放(fang)式(shi)(shi)集成電路工藝研(yan)發(fa)和(he)(he)裝備材(cai)料(liao)試驗(yan)平(ping)臺,凈化面積超過3000平(ping)方(fang)米(mi),研(yan)發(fa)環(huan)境及管理系統和(he)(he)大生產線匹(pi)配(pei),可實(shi)現硅(gui)片無沾污進出和(he)(he)工藝流(liu)程無縫銜(xian)接,加快了(le)技術研(yan)發(fa)和(he)(he)驗(yan)證(zheng)速度。ICRD擁有浸沒式(shi)(shi)193nm光刻(ke)機、硅(gui)刻(ke)蝕(shi)機、原子層薄膜生長(ALD)、高(gao)能(neng)離(li)子注入(ru)機以(yi)(yi)及全套銅(tong)互(hu)連和(he)(he)Low-K等工藝設備,工藝研(yan)發(fa)能(neng)力可達14納(na)米(mi)以(yi)(yi)下。
上海集成電路研發中心(xin)擁有一(yi)(yi)批來自(zi)國(guo)際研發機構和(he)跨(kua)國(guo)公司(si)的研究人員,并通過國(guo)內外產(chan)業合作持續培養和(he)鍛煉了一(yi)(yi)支擁有自(zi)主工藝技(ji)術提升(sheng)能力的研發隊伍,為中國(guo)集成電路產(chan)業的自(zi)主可控持續發展提供了中堅(jian)力量。ICRD掌握了多個技術(shu)(shu)代(dai)的(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)技術(shu)(shu)和(he)知識產(chan)權(quan),為中國集(ji)成電路生產(chan)線(xian)的(de)(de)建設提供了多套(tao)技術(shu)(shu)轉移和(he)服(fu)務(wu);通過設立產(chan)業界共性技術(shu)(shu)研(yan)發項(xiang)目,進行FinFET器(qi)(qi)(qi)件(jian)及(ji)工(gong)藝(yi)(yi)、FDSOI關鍵工(gong)藝(yi)(yi)、5nm以(yi)下納米線(xian)晶體(ti)管(guan)等新(xin)器(qi)(qi)(qi)件(jian)和(he)工(gong)藝(yi)(yi)技術(shu)(shu)的(de)(de)聯合(he)研(yan)發;開展產(chan)學(xue)研(yan)合(he)作,研(yan)發STT-MRAM、晶體(ti)管(guan)級3D堆疊、量(liang)子(zi)點傳感器(qi)(qi)(qi)、類神經元晶體(ti)管(guan)等前沿技術(shu)(shu)和(he)產(chan)品;通過以(yi)精湛工(gong)藝(yi)(yi)帶動裝(zhuang)備(bei)和(he)材(cai)料(liao)研(yan)發評(ping)價的(de)(de)方式,為國產(chan)光(guang)刻機、刻蝕機、銅互(hu)連、光(guang)刻膠、大硅片等裝(zhuang)備(bei)和(he)材(cai)料(liao)提供驗證和(he)工(gong)藝(yi)(yi)配(pei)套(tao),推動供應鏈的(de)(de)國產(chan)化。