成立于2002年,致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發/設計/制造/銷售/技術服務,主要生產光刻機、激光封裝設備、光配向設備等,廣泛用于集成電路、先進封裝、FPD面板等制造領域
上(shang)海微(wei)電子(zi)裝備(集團)股份有限公(gong)司(簡稱SMEE)主要(yao)致力(li)于半導體裝備(bei)、泛半導體裝備(bei)、高端(duan)智能裝備(bei)的(de)開(kai)發、設計、制造(zao)、銷售及技術服(fu)務(wu)。公司(si)設備(bei)廣泛應用于集成電路前道、先(xian)進(jin)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造(zao)領域。
SMEE致(zhi)力(li)于(yu)以極致(zhi)服務,造高端產(chan)品,創卓越價(jia)值,全(quan)天候、多(duo)方位、全(quan)身(shen)心地為(wei)顧客(ke)提(ti)供優質產(chan)品和技術(shu)服務。
SMEE已(yi)通過ISO27001信(xin)息安全、ISO9001質量管(guan)理和(he)ISO14001環境管(guan)理等體系的(de)國際(ji)認證(zheng),力求為(wei)客戶(hu)提供持續、穩定、高(gao)品質的(de)產品和(he)服務(wu),并履行一(yi)個優秀的(de)高(gao)科技企(qi)業的(de)社會責任。
專利號/專利申請號 | 專利名稱 | 專利詳情 |
ZL201310747393.8 | 一種調焦調平裝置 | 第二十屆中國專利優秀獎(2018年) |
ZL201410857409.5 | 一種硅片邊緣保護裝置 | 第二十屆中國專利優秀獎(2018年) |
ZL201110241791.3 | 一種步進光刻設備及光刻曝光方法 | 第二十一屆中國專利優秀獎(2019年) |
標準號 | 標準名稱 | 發布日期 | 實施日期 | 標準詳情 |
GB/T 40577-2021 | 集成電路制造設備術語 | 2022-10-11 | 2023-05-01 |