有(you)研半(ban)導(dao)體(ti)硅材料(liao)(liao)股份(fen)公司(si)(以下簡(jian)稱“有(you)研硅”)。有(you)研硅成立于2001年6月,注冊(ce)資(zi)本約10億元人民幣。有(you)研硅是高新技術企業,擁有(you)國(guo)家(jia)企業技術中心、國(guo)家(jia)技術創(chuang)新示(shi)范企業、集成電路關鍵材料(liao)(liao)國(guo)家(jia)工(gong)程研究(jiu)中心(原半(ban)導(dao)體(ti)材料(liao)(liao)國(guo)家(jia)工(gong)程研究(jiu)中心)等多(duo)項行業資(zi)質。有(you)研硅前身(shen)為有(you)研科技集團有(you)限公司(si)(原北(bei)京(jing)有(you)色金屬研究(jiu)總院(yuan))401室,自上世(shi)紀50年代開始硅材料(liao)(liao)研究(jiu),歷經半(ban)個多(duo)世(shi)紀的(de)時(shi)間,積累了豐富(fu)的(de)硅材料(liao)(liao)研發(fa)核心技術及生產經驗,同(tong)時(shi)培養(yang)造就了一(yi)批(pi)科技創(chuang)新和(he)經營管理人才。
有(you)研(yan)(yan)硅目(mu)前主(zhu)要(yao)從事(shi)硅及(ji)(ji)其它半導(dao)體材料、設(she)備的(de)(de)研(yan)(yan)究、開發(fa)(fa)、生(sheng)產(chan)與經營,提供相關(guan)技(ji)術(shu)開發(fa)(fa)、技(ji)術(shu)轉讓和(he)(he)技(ji)術(shu)咨詢服務。現有(you)山(shan)東德州(zhou)和(he)(he)北京順義(yi)兩處國內(nei)(nei)一(yi)流的(de)(de)半導(dao)體硅材料生(sheng)產(chan)基地,主(zhu)要(yao)產(chan)品(pin)包括集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)刻蝕工藝用大直徑(jing)硅單(dan)(dan)晶及(ji)(ji)制品(pin)、集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)用硅單(dan)(dan)晶及(ji)(ji)硅片、區(qu)熔(rong)硅單(dan)(dan)晶及(ji)(ji)硅片等(deng)。公司在(zai)國內(nei)(nei)實現了6英(ying)(ying)寸、8英(ying)(ying)寸硅片的(de)(de)產(chan)業化,實現12英(ying)(ying)寸工藝的(de)(de)技(ji)術(shu)研(yan)(yan)發(fa)(fa),有(you)力支持了中(zhong)國集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)產(chan)業的(de)(de)發(fa)(fa)展,同時(shi)產(chan)品(pin)遠銷美國、日本(ben)、韓(han)國、中(zhong)國臺(tai)灣(wan)等(deng)多(duo)個地區(qu),在(zai)國內(nei)(nei)外市(shi)場享(xiang)有(you)良好(hao)的(de)(de)知名度(du)和(he)(he)影響力。
2018年1月,公司(si)完成混(hun)合(he)所(suo)有制(zhi)改革。公司(si)控股股東株式會社RS Technologies是目前全球(qiu)(qiu)較(jiao)大(da)的(de)半導體晶圓片再生制(zhi)造企(qi)業(ye),占有全球(qiu)(qiu)三成以上的(de)市場份(fen)額,是全球(qiu)(qiu)領先的(de)半導體材料供應商。公司(si)重要參股股東有研科技集團有限公司(si)成立(li)于1952年,是中(zhong)國有色(se)金屬行業(ye)綜(zong)合(he)實力雄厚的(de)研究開發和高新技術產(chan)業(ye)培育機(ji)構,是國資(zi)委直管的(de)中(zhong)央企(qi)業(ye)。
公司以(yi)創新、挑戰(zhan)、誠信為企(qi)業核(he)心(xin)價值觀,努(nu)力(li)為社會創造價值,為員(yuan)工達成夢(meng)想,為股東實現回報,為實現世(shi)界一(yi)流半導體(ti)企(qi)業的愿景不懈努(nu)力(li)。
專利號/專利申請號 | 專利名稱 | 專利詳情 |
CN201310626975.0 | 區熔單晶爐中夾持針的調整控制裝置 | 詳情 |
標準號 | 標準名稱 | 發布日期 | 實施日期 | 標準詳情 |
GB/T 32279-2015 | 硅片訂貨單格式輸入規范 | 2016-12-10 | 2018-01-01 | |
GB/T 24578-2015 | 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法 | 2016-12-10 | 2018-01-01 | |
GB/T 12962-2015 | 硅單晶 | 2016-12-10 | 2018-01-01 | |
YS/T 15-2015 | 硅外延層和擴散層厚度測定 磨角染色法 | 2016-04-30 | 2016-10-01 | |
YS/T 14-2015 | 異質外延層和硅多晶層厚度的測量方法 | 2016-04-30 | 2016-10-01 | |
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