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浙江大立科技股份有限公司專利CN200810201307.2介紹
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專利名稱:
紅外探測器及其制造方法
專利類型:
發明
申請號:
CN200810201307.2
公開(公告)號:
CN101445215B
申請日:
20081016
公開(公告)日:
20140521
申請人:
上海集成電路研發中心有限公司,浙江大立科技股份有限公司
發明人:
康曉旭,姜利軍
申請人地址:
201203 上海市張江高科技園區碧波路177號華虹科技園4樓B區
申請人區域代碼:
CN310115
專利權人:
上海集成電路研發中心有限公司,浙江大立科技股份有限公司
洛迦諾分類:
無
IPC:
B81B7/02,G01J5/10,B81C1/00
優先權:
無
專利代理機構:
上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
代理人:
鄭瑋
審查員:
陸帥
國際申請:
無
國際公開(公告):
無
進入國家日期:
無
分案申請:
無
關鍵詞(ci)
金屬反射層,介質層,紅外探測器,硅襯底,犧牲層,沉積,反射圖案,紅外吸收,金屬電極,刻蝕介質,敏感材料,金屬層,上表面,圖形化,微橋,平坦,探測,金屬
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