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著錄信息

  • 專利名稱:一種卷對卷等離子體增強化學氣相沉積裝置
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN200910181458.0
  • 公開(公告)號:CN101629283B
  • 申請日:20090716
  • 公開(公告)日:20110427
  • 申請人:江蘇雙登集團有限公司
  • 發明人:郝三存,邵雙喜,李丹,段和勛
  • 申請人地址:225526 江蘇省姜堰市梁徐鎮雙登科工園1號
  • 申請人區域代碼:CN321284
  • 專利權人:江蘇雙登集團有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:C23C16/54,C23C16/50
  • 優先權:
  • 專利代理機構:南京天華專利代理有限責任公司 32218
  • 代理人:徐冬濤;瞿網蘭
  • 審查員:彭梅香
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

真空室,柔性基體材料,卷繞,傳送導軌,柔性基體,沉積,表面張力,等離子體增強化學氣相沉積,傳送過程,精確控制,快速冷卻,運輸效率,真空腔室,加熱室,卷對卷,冷卻輥,熱收縮,張緊輪,導軌,張力,平整
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