著錄信息
- 專利名稱:一種卷對卷等離子體增強化學氣相沉積裝置
- 專利類型:發明
- 申請號:CN200910181458.0
- 公開(公告)號:CN101629283B
- 申請日:20090716
- 公開(公告)日:20110427
- 申請人:江蘇雙登集團有限公司
- 發明人:郝三存,邵雙喜,李丹,段和勛
- 申請人地址:225526 江蘇省姜堰市梁徐鎮雙登科工園1號
- 申請人區域代碼:CN321284
- 專利權人:江蘇雙登集團有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:C23C16/54,C23C16/50
- 優先權:無
- 專利代理機構:南京天華專利代理有限責任公司 32218
- 代理人:徐冬濤;瞿網蘭
- 審查員:彭梅香
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
真空室,柔性基體材料,卷繞,傳送導軌,柔性基體,沉積,表面張力,等離子體增強化學氣相沉積,傳送過程,精確控制,快速冷卻,運輸效率,真空腔室,加熱室,卷對卷,冷卻輥,熱收縮,張緊輪,導軌,張力,平整
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