著錄信息
- 專利名稱：一種半導體晶圓片清洗液生成裝置
- 專利類型：實用新型
- 申請號：CN201120550148.4
- 公開(公告)號：CN202460570U
- 申請日：20111226
- 公開(公告)日：20121003
- 申請人：無錫華潤華晶微電子有限公司
- 發明人：吳學成,徐雪舟,劉群
- 申請人地址：214028 江蘇省無錫市國家高新技術產業開發區信息產業科技園C座2樓
- 申請人區域代碼：CN320211
- 專利權人：無錫華潤華晶微電子有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：B01F15/04,B01F3/08,B08B3/10
- 優先權：無
- 專利代理機構：中國專利代理(香港)有限公司 72001
- 代理人：臧霽晨;盧江
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
混合桶,半導體晶圓片,液位傳感器,清洗液,檢測試劑,流體,液位,連通,配備
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