著錄信息
- 專利名稱:浸潤液、晶圓腐蝕前的浸潤方法和二氧化硅濕法腐蝕方法
- 專利類型:發明
- 申請號:CN201110379979.4
- 公開(公告)號:CN103131421B
- 申請日:20111125
- 公開(公告)日:20150225
- 申請人:無錫華潤華晶微電子有限公司
- 發明人:朱國偉,宋礦寶
- 申請人地址:214028 江蘇省無錫市國家高新技術產業開發區信息產業科技園C座2樓
- 申請人區域代碼:CN320211
- 專利權人:無錫華潤華晶微電子有限公司
- 洛迦諾分類:無
- IPC:C09K13/00,H01L21/306
- 優先權:無
- 專利代理機構:中國專利代理(香港)有限公司 72001
- 代理人:徐小會;高為
- 審查員:史巍
- 國際申請:無
- 國際公開(公告):無
- 進入國家日期:無
- 分案申請:無
關鍵詞
濕法腐蝕,光刻膠,晶圓,產品晶圓,二氧化硅,去離子水,原液,腐蝕
網站提醒和聲明
免責聲明:
本站為會員提供信(xin)息存儲空(kong)間(jian)(jian)服務,由(you)于更新時間(jian)(jian)等問題(ti)(ti),可能存在信(xin)息偏差的情況,具體(ti)請以品牌(pai)企業官網信(xin)息為準。如(ru)有侵權、錯誤信(xin)息或任(ren)何問題(ti)(ti),請及(ji)時聯系我(wo)們,我(wo)們將在第一(yi)時間(jian)(jian)刪除或更正。
版權聲明>>
修改>>
申請刪除>>
網(wang)頁(ye)上相(xiang)關信息(xi)的(de)知識產權(quan)歸(gui)網(wang)站(zhan)方所有(you)(包括但(dan)不限(xian)于(yu)文字(zi)、圖片、圖表(biao)、著作權(quan)、商標(biao)權(quan)、為用戶提(ti)供(gong)(gong)的(de)商業信息(xi)等),非(fei)經(jing)許可不得(de)抄(chao)襲或使用。本站(zhan)不生產產品(pin)、不提(ti)供(gong)(gong)產品(pin)銷售服務、不代理、不招商、不提(ti)供(gong)(gong)中介服務。本頁(ye)面內容不代表(biao)本站(zhan)支持投資購買(mai)的(de)觀點或意見,頁(ye)面信息(xi)僅(jin)供(gong)(gong)參考(kao)和借鑒。
提交說明:
快速提交發布>>
查看提交幫助>>
注冊登錄>>