著錄信息
- 專利名稱：一種渦旋壓縮機的靜渦旋盤和渦旋壓縮結構
- 專利類型：實用新型
- 申請號：CN201120131247.9
- 公開(公告)號：CN202117922U
- 申請日：20110428
- 公開(公告)日：20120118
- 申請人：湖南華強電氣有限公司
- 發明人：羅岳華
- 申請人地址：410000 湖南省長沙市高新開發區麓谷基地麓松路669號
- 申請人區域代碼：CN430181
- 專利權人：湖南華強電氣有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：F04C18/02
- 優先權：無
- 專利代理機構：深圳市興科達知識產權代理有限公司 44260
- 代理人：杜啟剛
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
渦旋盤,動渦旋盤,渦旋壓縮機,渦旋齒,齒槽,渦旋壓縮,硬質,陽極氧化層,互相嚙合,摩擦系數,相互嚙合,陽極氧化,表面膜,故障源,鋁合金,能效比,壓縮機,硬化層,齒頂,耐磨,接觸
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