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著錄信息

  • 專利名稱:一種渦旋壓縮機的靜渦旋盤和渦旋壓縮結構
  • 專利類型:實用新型
  • 申請號:CN201120131247.9
  • 公開(公告)號:CN202117922U
  • 申請日:20110428
  • 公開(公告)日:20120118
  • 申請人:湖南華強電氣有限公司
  • 發明人:羅岳華
  • 申請人地址:410000 湖南省長沙市高新開發區麓谷基地麓松路669號
  • 申請人區域代碼:CN430181
  • 專利權人:湖南華強電氣有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:F04C18/02
  • 優先權:
  • 專利代理機構:深圳市興科達知識產權代理有限公司 44260
  • 代理人:杜啟剛
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

渦旋盤,動渦旋盤,渦旋壓縮機,渦旋齒,齒槽,渦旋壓縮,硬質,陽極氧化層,互相嚙合,摩擦系數,相互嚙合,陽極氧化,表面膜,故障源,鋁合金,能效比,壓縮機,硬化層,齒頂,耐磨,接觸
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