電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別

1、照明源不同

電子顯微鏡(jing)所(suo)用的照(zhao)明源是電子槍(qiang)發(fa)出的電子流，而光學(xue)顯微鏡(jing)的照(zhao)明源是可見光(日光或燈光)，由于(yu)電子流的波(bo)長(chang)遠短于(yu)光波(bo)波(bo)長(chang)，故電子顯微鏡(jing)的放大及分辨(bian)率顯著地(di)高于(yu)光鏡(jing)。

2、透鏡不同

電子(zi)顯(xian)微鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)中(zhong)(zhong)起(qi)放大作用的(de)(de)物(wu)(wu)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)是電磁(ci)透鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)(能在中(zhong)(zhong)央部(bu)位產(chan)生磁(ci)場的(de)(de)環形電磁(ci)線圈)，而光(guang)(guang)學(xue)顯(xian)微鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)的(de)(de)物(wu)(wu)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)則是玻璃磨制而成的(de)(de)光(guang)(guang)學(xue)透鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)。電子(zi)顯(xian)微鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)中(zhong)(zhong)的(de)(de)電磁(ci)透鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)共有三組，分別與光(guang)(guang)學(xue)顯(xian)微鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)中(zhong)(zhong)聚光(guang)(guang)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)、物(wu)(wu)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)和目鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)的(de)(de)功(gong)能相當。

3、成像原理不同

在(zai)電(dian)(dian)子(zi)顯(xian)微(wei)鏡(jing)中，作用于被檢樣品(pin)(pin)(pin)的(de)電(dian)(dian)子(zi)束經電(dian)(dian)磁透(tou)鏡(jing)放大后打到(dao)熒光屏上(shang)成(cheng)(cheng)像(xiang)或作用于感(gan)光膠片成(cheng)(cheng)像(xiang)。其(qi)電(dian)(dian)子(zi)濃淡的(de)差別產生的(de)機(ji)理是，電(dian)(dian)子(zi)束作用于被檢樣品(pin)(pin)(pin)，入射電(dian)(dian)子(zi)與物(wu)(wu)質的(de)原子(zi)發生碰撞產生散射，由于樣品(pin)(pin)(pin)不同部(bu)位對電(dian)(dian)子(zi)有不同散射度(du)，故樣品(pin)(pin)(pin)電(dian)(dian)子(zi)像(xiang)以濃淡呈現。而光學顯(xian)微(wei)鏡(jing)中樣品(pin)(pin)(pin)的(de)物(wu)(wu)像(xiang)以亮度(du)差呈現，它是由被檢樣品(pin)(pin)(pin)的(de)不同結(jie)構吸收光線多少的(de)不同所造(zao)成(cheng)(cheng)的(de)。

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4、分辨率

光學顯微鏡(jing)因為光的(de)干涉(she)與衍射作用，分(fen)(fen)辨率只能(neng)局(ju)限(xian)于(yu)02-05um之間。電(dian)(dian)子(zi)顯微鏡(jing)因為采用電(dian)(dian)子(zi)束(shu)作為光源，其分(fen)(fen)辨率可達到(dao)1-3nm之間，因此光學顯微鏡(jing)的(de)組(zu)織(zhi)觀察屬于(yu)微米級分(fen)(fen)析，電(dian)(dian)子(zi)顯微鏡(jing)的(de)組(zu)織(zhi)觀測(ce)屬于(yu)納(na)米級分(fen)(fen)析。

5、景深

一般(ban)光學顯微(wei)鏡的(de)景(jing)(jing)深(shen)在2-3um之間，因此對樣品(pin)(pin)的(de)表面(mian)光滑(hua)程(cheng)(cheng)度具(ju)(ju)有(you)極高(gao)的(de)要(yao)求，所(suo)以制(zhi)樣過程(cheng)(cheng)相對比較復雜。掃(sao)描電鏡的(de)精(jing)神則可高(gao)達幾個毫米，因此對樣品(pin)(pin)表面(mian)的(de)光滑(hua)程(cheng)(cheng)度幾何(he)(he)(he)沒有(you)任何(he)(he)(he)要(yao)求，樣品(pin)(pin)制(zhi)備比較簡(jian)單，有(you)些樣品(pin)(pin)幾何(he)(he)(he)無需制(zhi)樣。體(ti)式顯微(wei)鏡雖然也具(ju)(ju)有(you)比較大的(de)景(jing)(jing)深(shen)，但(dan)其分辨率卻(que)非常的(de)低。

6、所用標本制備方式不同

電(dian)子顯(xian)微鏡觀察(cha)所用(yong)組織(zhi)細胞標(biao)本(ben)的制備程序較復(fu)雜(za)，技術難(nan)度和(he)(he)費用(yong)都較高，在取材、固定、脫水和(he)(he)包埋等環節上(shang)需要特殊的試劑和(he)(he)操(cao)作，最后還需將(jiang)包埋好(hao)的組織(zhi)塊放人超薄切(qie)片(pian)機切(qie)成50～100nm厚的超薄標(biao)本(ben)片(pian)。而(er)光鏡觀察(cha)的標(biao)本(ben)則一般(ban)置于載玻片(pian)上(shang)，如普通組織(zhi)切(qie)片(pian)標(biao)本(ben)、細胞涂(tu)片(pian)標(biao)本(ben)、組織(zhi)壓(ya)片(pian)標(biao)本(ben)和(he)(he)細胞滴片(pian)標(biao)本(ben)。

7、應用領域

光學顯微鏡主(zhu)要(yao)用(yong)(yong)于光滑表(biao)(biao)(biao)面的(de)(de)微(wei)(wei)米(mi)(mi)級組(zu)織(zhi)(zhi)觀察(cha)(cha)與(yu)測(ce)量，因(yin)為(wei)采用(yong)(yong)可見光作為(wei)光源因(yin)此不(bu)僅(jin)能(neng)(neng)觀察(cha)(cha)樣(yang)品表(biao)(biao)(biao)層(ceng)組(zu)織(zhi)(zhi)而且(qie)在表(biao)(biao)(biao)層(ceng)以下的(de)(de)一(yi)定范圍內的(de)(de)組(zu)織(zhi)(zhi)同樣(yang)也可被觀察(cha)(cha)到，并且(qie)光學顯(xian)微(wei)(wei)鏡(jing)對(dui)于色(se)(se)彩的(de)(de)識(shi)(shi)別非常(chang)敏感(gan)和(he)準確。電(dian)子顯(xian)微(wei)(wei)鏡(jing)主(zhu)要(yao)用(yong)(yong)于納米(mi)(mi)級的(de)(de)樣(yang)品表(biao)(biao)(biao)面形(xing)貌觀測(ce)，因(yin)為(wei)掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)是依(yi)靠物理(li)信(xin)號(hao)的(de)(de)強度(du)來區(qu)(qu)分(fen)組(zu)織(zhi)(zhi)信(xin)息的(de)(de)，因(yin)此掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)的(de)(de)圖像(xiang)都是黑白的(de)(de)，對(dui)于彩色(se)(se)圖像(xiang)的(de)(de)識(shi)(shi)別掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)顯(xian)得無能(neng)(neng)為(wei)力(li)。掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)不(bu)僅(jin)可以觀察(cha)(cha)樣(yang)品表(biao)(biao)(biao)面的(de)(de)組(zu)織(zhi)(zhi)形(xing)貌，通過使(shi)用(yong)(yong)EDS、WDS、EBSD等不(bu)同的(de)(de)附件設備，掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)還可進一(yi)步擴展使(shi)用(yong)(yong)功能(neng)(neng)。通過使(shi)用(yong)(yong)EDS、WDS輔助設備，掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)可以對(dui)微(wei)(wei)區(qu)(qu)化學成分(fen)進行(xing)(xing)分(fen)析，這一(yi)點在失效分(fen)析研(yan)究領域由為(wei)重(zhong)要(yao)。使(shi)用(yong)(yong)EBSD，掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)可以對(dui)材料的(de)(de)晶格取向進行(xing)(xing)研(yan)究。

8、放大倍數

光學顯微鏡有效放(fang)大(da)倍(bei)數1000X。電子顯微鏡有效放(fang)大(da)倍(bei)數可達到1000,000X 。