電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別

1、照明源不同

電(dian)子顯微(wei)鏡所用的(de)照(zhao)明源是電(dian)子槍發出的(de)電(dian)子流，而光(guang)(guang)學顯微(wei)鏡的(de)照(zhao)明源是可(ke)見光(guang)(guang)(日(ri)光(guang)(guang)或燈光(guang)(guang))，由于(yu)電(dian)子流的(de)波(bo)長遠短于(yu)光(guang)(guang)波(bo)波(bo)長，故電(dian)子顯微(wei)鏡的(de)放大及分辨率顯著地高(gao)于(yu)光(guang)(guang)鏡。

2、透鏡不同

電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)中(zhong)起(qi)放大作用(yong)的物鏡(jing)(jing)是電磁(ci)透鏡(jing)(jing)(能(neng)(neng)在(zai)中(zhong)央部位產生磁(ci)場的環(huan)形(xing)電磁(ci)線圈)，而光(guang)學顯(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)的物鏡(jing)(jing)則是玻璃(li)磨制而成的光(guang)學透鏡(jing)(jing)。電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)中(zhong)的電磁(ci)透鏡(jing)(jing)共有(you)三組，分別與光(guang)學顯(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)中(zhong)聚光(guang)鏡(jing)(jing)、物鏡(jing)(jing)和目鏡(jing)(jing)的功(gong)能(neng)(neng)相當(dang)。

3、成像原理不同

在電(dian)子(zi)(zi)顯微(wei)鏡中，作用(yong)于被(bei)(bei)檢(jian)樣(yang)品(pin)的(de)電(dian)子(zi)(zi)束經電(dian)磁透鏡放大后打(da)到(dao)熒光屏(ping)上成像(xiang)或作用(yong)于感光膠片成像(xiang)。其(qi)電(dian)子(zi)(zi)濃淡的(de)差別產生的(de)機(ji)理是(shi)，電(dian)子(zi)(zi)束作用(yong)于被(bei)(bei)檢(jian)樣(yang)品(pin)，入(ru)射電(dian)子(zi)(zi)與物(wu)(wu)質的(de)原(yuan)子(zi)(zi)發生碰撞產生散射，由(you)于樣(yang)品(pin)不(bu)同部位(wei)對電(dian)子(zi)(zi)有(you)不(bu)同散射度，故(gu)樣(yang)品(pin)電(dian)子(zi)(zi)像(xiang)以濃淡呈現(xian)(xian)。而光學顯微(wei)鏡中樣(yang)品(pin)的(de)物(wu)(wu)像(xiang)以亮度差呈現(xian)(xian)，它是(shi)由(you)被(bei)(bei)檢(jian)樣(yang)品(pin)的(de)不(bu)同結構吸收(shou)光線多少的(de)不(bu)同所造成的(de)。

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4、分辨率

光學(xue)顯(xian)微(wei)(wei)鏡因(yin)(yin)為(wei)光的干涉(she)與衍射作用(yong)，分辨率只(zhi)能局限于02-05um之間(jian)。電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)顯(xian)微(wei)(wei)鏡因(yin)(yin)為(wei)采用(yong)電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)束作為(wei)光源，其分辨率可(ke)達到1-3nm之間(jian)，因(yin)(yin)此(ci)光學(xue)顯(xian)微(wei)(wei)鏡的組(zu)(zu)織(zhi)觀(guan)察屬于微(wei)(wei)米(mi)級(ji)分析(xi)，電(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)顯(xian)微(wei)(wei)鏡的組(zu)(zu)織(zhi)觀(guan)測(ce)屬于納(na)米(mi)級(ji)分析(xi)。

5、景深

一般(ban)光(guang)學顯微鏡的(de)(de)景深(shen)(shen)在2-3um之(zhi)間，因此(ci)對(dui)樣品(pin)的(de)(de)表面光(guang)滑程(cheng)度(du)具有(you)極高的(de)(de)要求，所以制樣過程(cheng)相對(dui)比較復(fu)雜。掃描(miao)電鏡的(de)(de)精神則可(ke)高達幾(ji)個(ge)毫米，因此(ci)對(dui)樣品(pin)表面的(de)(de)光(guang)滑程(cheng)度(du)幾(ji)何沒(mei)有(you)任何要求，樣品(pin)制備比較簡單，有(you)些(xie)樣品(pin)幾(ji)何無需制樣。體式(shi)顯微鏡雖(sui)然也具有(you)比較大的(de)(de)景深(shen)(shen)，但(dan)其分辨率卻非常的(de)(de)低。

6、所用標本制備方式不同

電子(zi)顯微(wei)鏡觀察(cha)所用組(zu)(zu)織(zhi)(zhi)細胞標(biao)本(ben)的制備程序較復雜，技(ji)術難度和費用都(dou)較高(gao)，在取(qu)材、固(gu)定、脫水和包埋等環節上需(xu)(xu)要特殊的試劑和操作，最后還需(xu)(xu)將包埋好(hao)的組(zu)(zu)織(zhi)(zhi)塊放人超(chao)薄(bo)切(qie)片(pian)機切(qie)成(cheng)50～100nm厚(hou)的超(chao)薄(bo)標(biao)本(ben)片(pian)。而光鏡觀察(cha)的標(biao)本(ben)則一般(ban)置(zhi)于載玻(bo)片(pian)上，如普通組(zu)(zu)織(zhi)(zhi)切(qie)片(pian)標(biao)本(ben)、細胞涂片(pian)標(biao)本(ben)、組(zu)(zu)織(zhi)(zhi)壓片(pian)標(biao)本(ben)和細胞滴片(pian)標(biao)本(ben)。

7、應用領域

光學顯微鏡主(zhu)要用(yong)于(yu)(yu)光(guang)滑表面的(de)(de)(de)微(wei)米級(ji)組(zu)織(zhi)(zhi)觀察(cha)與測(ce)量，因為(wei)(wei)采用(yong)可(ke)見光(guang)作為(wei)(wei)光(guang)源因此不(bu)僅能觀察(cha)樣品表層組(zu)織(zhi)(zhi)而且在(zai)表層以下的(de)(de)(de)一定范(fan)圍內的(de)(de)(de)組(zu)織(zhi)(zhi)同(tong)樣也可(ke)被(bei)觀察(cha)到(dao)，并且光(guang)學(xue)顯微(wei)鏡(jing)(jing)對(dui)(dui)于(yu)(yu)色(se)彩的(de)(de)(de)識(shi)別(bie)非常(chang)敏感和準確(que)。電(dian)子顯微(wei)鏡(jing)(jing)主(zhu)要用(yong)于(yu)(yu)納米級(ji)的(de)(de)(de)樣品表面形貌觀測(ce)，因為(wei)(wei)掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)是(shi)(shi)依靠物理(li)信號的(de)(de)(de)強(qiang)度來區(qu)分(fen)組(zu)織(zhi)(zhi)信息的(de)(de)(de)，因此掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)的(de)(de)(de)圖像都(dou)是(shi)(shi)黑白(bai)的(de)(de)(de)，對(dui)(dui)于(yu)(yu)彩色(se)圖像的(de)(de)(de)識(shi)別(bie)掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)顯得無(wu)能為(wei)(wei)力(li)。掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)不(bu)僅可(ke)以觀察(cha)樣品表面的(de)(de)(de)組(zu)織(zhi)(zhi)形貌，通(tong)過(guo)使用(yong)EDS、WDS、EBSD等不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)附(fu)件設備，掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)還可(ke)進(jin)一步擴展使用(yong)功(gong)能。通(tong)過(guo)使用(yong)EDS、WDS輔助設備，掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)可(ke)以對(dui)(dui)微(wei)區(qu)化學(xue)成分(fen)進(jin)行(xing)分(fen)析，這一點在(zai)失效分(fen)析研究領(ling)域(yu)由為(wei)(wei)重要。使用(yong)EBSD，掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)可(ke)以對(dui)(dui)材料(liao)的(de)(de)(de)晶格取向(xiang)進(jin)行(xing)研究。

8、放大倍數

光學顯微鏡(jing)(jing)有(you)效放大倍(bei)數1000X。電子(zi)顯微鏡(jing)(jing)有(you)效放大倍(bei)數可達(da)到1000,000X 。