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電子顯微鏡和光學顯微鏡有何不同?8大區別帶你詳細了解

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摘要:顯微鏡有光學顯微鏡和電子顯微鏡兩大類,光學顯微鏡是是利用光學原理,把人眼所不能分辨的微小物體放大成像,以供人們提取微細結構信息的光學儀器。電子顯微鏡是以電子束為照明源,通過電子流對樣品的透射或反射及電磁透鏡的多級放大后在熒光屏上成像的大型儀器。那么二者之間有什么區別呢?下面小編就從照明源、透鏡、成像原理、分辨率、景深、所用標本制備方式、應用領域和放大倍數這些方面為大家詳細對比。

電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別

1、照明源不同

電(dian)子(zi)顯微(wei)鏡(jing)所用(yong)的照明源(yuan)是電(dian)子(zi)槍發出的電(dian)子(zi)流,而(er)光(guang)(guang)學顯微(wei)鏡(jing)的照明源(yuan)是可見光(guang)(guang)(日光(guang)(guang)或(huo)燈光(guang)(guang)),由于電(dian)子(zi)流的波長遠(yuan)短于光(guang)(guang)波波長,故電(dian)子(zi)顯微(wei)鏡(jing)的放大及分(fen)辨(bian)率顯著地高于光(guang)(guang)鏡(jing)。

2、透鏡不同

電(dian)子顯(xian)微(wei)鏡(jing)中起(qi)放大作用的(de)物鏡(jing)是電(dian)磁(ci)透鏡(jing)(能在中央(yang)部(bu)位產生(sheng)磁(ci)場(chang)的(de)環(huan)形電(dian)磁(ci)線圈),而光(guang)(guang)(guang)學顯(xian)微(wei)鏡(jing)的(de)物鏡(jing)則是玻璃磨制而成的(de)光(guang)(guang)(guang)學透鏡(jing)。電(dian)子顯(xian)微(wei)鏡(jing)中的(de)電(dian)磁(ci)透鏡(jing)共有三(san)組,分別與光(guang)(guang)(guang)學顯(xian)微(wei)鏡(jing)中聚光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)、物鏡(jing)和(he)目鏡(jing)的(de)功(gong)能相當。

3、成像原理不同

在電(dian)(dian)子(zi)顯(xian)微鏡(jing)(jing)中,作用(yong)于被檢(jian)樣品的(de)(de)電(dian)(dian)子(zi)束(shu)經(jing)電(dian)(dian)磁透鏡(jing)(jing)放大后打(da)到熒光(guang)屏上成像(xiang)或(huo)作用(yong)于感光(guang)膠(jiao)片成像(xiang)。其電(dian)(dian)子(zi)濃(nong)淡的(de)(de)差別產生(sheng)(sheng)的(de)(de)機理是(shi),電(dian)(dian)子(zi)束(shu)作用(yong)于被檢(jian)樣品,入射(she)電(dian)(dian)子(zi)與物(wu)質的(de)(de)原子(zi)發生(sheng)(sheng)碰(peng)撞產生(sheng)(sheng)散射(she),由于樣品不(bu)同(tong)部(bu)位對電(dian)(dian)子(zi)有不(bu)同(tong)散射(she)度,故樣品電(dian)(dian)子(zi)像(xiang)以濃(nong)淡呈(cheng)現。而光(guang)學顯(xian)微鏡(jing)(jing)中樣品的(de)(de)物(wu)像(xiang)以亮度差呈(cheng)現,它是(shi)由被檢(jian)樣品的(de)(de)不(bu)同(tong)結構吸收(shou)光(guang)線多少的(de)(de)不(bu)同(tong)所造成的(de)(de)。

該圖片由注冊用戶"漫話生活"提供,版權聲明反饋

4、分辨率

光學顯微鏡因(yin)(yin)為(wei)光的(de)干涉(she)與衍射作(zuo)用(yong),分辨率只能局限于(yu)02-05um之間。電(dian)子(zi)顯微鏡因(yin)(yin)為(wei)采用(yong)電(dian)子(zi)束作(zuo)為(wei)光源,其分辨率可達到1-3nm之間,因(yin)(yin)此光學顯微鏡的(de)組(zu)織觀察屬于(yu)微米(mi)級(ji)分析,電(dian)子(zi)顯微鏡的(de)組(zu)織觀測屬于(yu)納米(mi)級(ji)分析。

5、景深

一般光學顯(xian)微(wei)鏡(jing)的景深(shen)(shen)在2-3um之(zhi)間,因此對(dui)樣品(pin)的表(biao)面光滑(hua)程度(du)具(ju)有(you)(you)(you)極高的要求,所以制(zhi)樣過程相對(dui)比較(jiao)復雜。掃描電鏡(jing)的精神則可高達幾個毫米,因此對(dui)樣品(pin)表(biao)面的光滑(hua)程度(du)幾何(he)沒有(you)(you)(you)任(ren)何(he)要求,樣品(pin)制(zhi)備(bei)比較(jiao)簡單(dan),有(you)(you)(you)些樣品(pin)幾何(he)無需制(zhi)樣。體式顯(xian)微(wei)鏡(jing)雖(sui)然也具(ju)有(you)(you)(you)比較(jiao)大的景深(shen)(shen),但其分辨率卻非常的低。

6、所用標本制備方式不同

電子顯微鏡觀察所用組(zu)織細胞(bao)(bao)標本(ben)(ben)(ben)的制(zhi)備(bei)程序較復雜,技術難度和(he)(he)費用都(dou)較高,在取(qu)材、固定、脫水(shui)和(he)(he)包埋(mai)等環節上需(xu)要特殊的試劑和(he)(he)操作,最(zui)后還需(xu)將包埋(mai)好(hao)的組(zu)織塊放人超(chao)薄切(qie)片(pian)機切(qie)成50~100nm厚(hou)的超(chao)薄標本(ben)(ben)(ben)片(pian)。而光(guang)鏡觀察的標本(ben)(ben)(ben)則一般置于載(zai)玻片(pian)上,如(ru)普(pu)通(tong)組(zu)織切(qie)片(pian)標本(ben)(ben)(ben)、細胞(bao)(bao)涂片(pian)標本(ben)(ben)(ben)、組(zu)織壓片(pian)標本(ben)(ben)(ben)和(he)(he)細胞(bao)(bao)滴片(pian)標本(ben)(ben)(ben)。

7、應用領域

光學顯微鏡主要(yao)用(yong)于光(guang)滑表面的(de)(de)(de)(de)微米級(ji)組(zu)(zu)織觀(guan)察(cha)與測(ce)量(liang),因(yin)為(wei)采用(yong)可(ke)見(jian)光(guang)作為(wei)光(guang)源(yuan)因(yin)此(ci)不僅(jin)能(neng)觀(guan)察(cha)樣(yang)(yang)品表層組(zu)(zu)織而且在表層以下的(de)(de)(de)(de)一定范圍內的(de)(de)(de)(de)組(zu)(zu)織同樣(yang)(yang)也可(ke)被(bei)觀(guan)察(cha)到,并且光(guang)學(xue)顯微鏡(jing)(jing)(jing)對(dui)(dui)于色彩(cai)的(de)(de)(de)(de)識別(bie)非常(chang)敏感和準(zhun)確。電(dian)子顯微鏡(jing)(jing)(jing)主要(yao)用(yong)于納米級(ji)的(de)(de)(de)(de)樣(yang)(yang)品表面形貌觀(guan)測(ce),因(yin)為(wei)掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)是(shi)依靠物理信號的(de)(de)(de)(de)強(qiang)度來區分(fen)組(zu)(zu)織信息的(de)(de)(de)(de),因(yin)此(ci)掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)圖像都是(shi)黑白的(de)(de)(de)(de),對(dui)(dui)于彩(cai)色圖像的(de)(de)(de)(de)識別(bie)掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)顯得無能(neng)為(wei)力。掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)不僅(jin)可(ke)以觀(guan)察(cha)樣(yang)(yang)品表面的(de)(de)(de)(de)組(zu)(zu)織形貌,通過使(shi)用(yong)EDS、WDS、EBSD等不同的(de)(de)(de)(de)附件設備,掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)還可(ke)進(jin)一步擴展使(shi)用(yong)功能(neng)。通過使(shi)用(yong)EDS、WDS輔(fu)助設備,掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)可(ke)以對(dui)(dui)微區化學(xue)成分(fen)進(jin)行(xing)分(fen)析(xi),這一點在失效分(fen)析(xi)研究領域由(you)為(wei)重要(yao)。使(shi)用(yong)EBSD,掃(sao)描電(dian)鏡(jing)(jing)(jing)可(ke)以對(dui)(dui)材料的(de)(de)(de)(de)晶格取向進(jin)行(xing)研究。

8、放大倍數

光(guang)學顯(xian)微鏡(jing)(jing)有(you)效(xiao)放(fang)大(da)倍(bei)數1000X。電(dian)子顯(xian)微鏡(jing)(jing)有(you)效(xiao)放(fang)大(da)倍(bei)數可達(da)到1000,000X 。

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