一、手機芯片是怎么制造出來的
在(zai)移動互聯(lian)網的普及下,手(shou)(shou)機已(yi)經成為我們(men)的標配設備(bei),而手(shou)(shou)機性能的好壞,主要取決于手(shou)(shou)機芯(xin)片(pian)(pian)。手(shou)(shou)機芯(xin)片(pian)(pian)從需(xu)求提出(chu)到投入應(ying)用大(da)體分為兩(liang)個階段:
1、手機芯片設計
手機芯(xin)片的(de)設(she)(she)(she)(she)計(ji)流程(cheng)往(wang)往(wang)分(fen)為前端設(she)(she)(she)(she)計(ji)和后端設(she)(she)(she)(she)計(ji),前端設(she)(she)(she)(she)計(ji)更側重于軟件的(de)設(she)(she)(she)(she)計(ji),更加注(zhu)重邏輯(ji);后端設(she)(she)(she)(she)計(ji)則(ze)要(yao)更多地考慮(lv)工藝手段,設(she)(she)(she)(she)計(ji)人員(yuan)需要(yao)根據(ju)芯(xin)片生產方的(de)能力(li)(例如溝(gou)道寬(kuan)度)來設(she)(she)(she)(she)計(ji)相(xiang)應的(de)芯(xin)片。
2、手機芯片制造
比起芯片的設(she)計,芯片制(zhi)造(zao)的難(nan)度更(geng)大(da),技術壁壘更(geng)高(gao)。一般認為芯片的生產與制(zhi)造(zao)可(ke)以(yi)大(da)體分為晶圓制(zhi)造(zao)、晶圓光刻、摻加(jia)雜(za)質(zhi)和封裝測試四(si)個步驟:
(1)晶(jing)圓(yuan)制造(zao):制造(zao)芯片的(de)物質(zhi)基礎是(shi)晶(jing)元,由(you)石英砂精煉得來,將提純后的(de)硅制成硅晶(jing)棒即可得到(dao)制造(zao)集(ji)成電路(lu)的(de)半導體材料(liao)。
(2)晶(jing)圓光刻(ke)顯影、蝕刻(ke):電路中復(fu)雜的邏輯(ji)組合與走(zou)線并不是通過(guo)傳統意(yi)義上的“雕(diao)刻(ke)”或“拼接”完成(cheng)的,而是通過(guo)光刻(ke)機對指(zhi)定位(wei)置(zhi)進(jin)行蝕刻(ke),這一過(guo)程極(ji)為精(jing)密和復(fu)雜。
(3)摻加(jia)(jia)雜(za)(za)質(zhi):眾所周知,集成電路的基礎(chu)是PN結,要想形成PN結,就(jiu)必(bi)須在不(bu)同的晶元(yuan)里摻加(jia)(jia)不(bu)同的雜(za)(za)質(zhi)(本質(zhi)上而言是加(jia)(jia)入P、N型雜(za)(za)質(zhi),改變其導電性質(zhi))。越(yue)是復雜(za)(za)的集成電路,其立(li)體結構就(jiu)越(yue)復雜(za)(za),摻加(jia)(jia)雜(za)(za)質(zhi)的步驟也(ye)就(jiu)越(yue)復雜(za)(za)。
(4)封裝測試(shi):經過(guo)上述流程,芯(xin)片制(zhi)造商就完成了(le)從(cong)版圖到芯(xin)片實(shi)體的流程,但芯(xin)片能(neng)否具體工作(zuo),其電氣性(xing)(xing)能(neng)是否達標,還(huan)需(xu)要完成測試(shi)才能(neng)確定。因此,芯(xin)片制(zhi)造廠商均需(xu)要一批后(hou)端測試(shi)人員對(dui)芯(xin)片的性(xing)(xing)能(neng)進行(xing)測試(shi)。
二、手機芯片中國能生產嗎
國內半導體芯片制造一(yi)直是比較受大家(jia)關(guan)(guan)注的一(yi)個話題,現在大家(jia)幾(ji)乎人手一(yi)臺智能手機,對于手機芯片的關(guan)(guan)注更多,那么我國有沒有生產(chan)手機芯片的能力呢?
和電腦芯片一樣,手機芯片實際上也是光刻機制造出來的,我國并不是沒有生產手機芯片的能力,只不過和主流的手機芯片相比,我國生產出的手機芯片在制程工(gong)藝(yi)、性能(neng)方面都(dou)有較大的(de)差距(ju):主流的(de)智能(neng)手(shou)機所使用的(de)芯片(pian)(pian)都(dou)是(shi)7nm及(ji)以下的(de)高端(duan)半導體芯片(pian)(pian),而國產(chan)手(shou)機芯片(pian)(pian)暫時還只能(neng)做(zuo)到14nm。
在(zai)手機芯片(pian)制(zhi)造領域,晶圓光刻顯影(ying)、蝕刻和摻加(jia)雜質的步驟是我(wo)國比較欠缺的,而晶圓制(zhi)造能力基本上可以(yi)實現(xian)國產自用,封(feng)裝測試環節技(ji)術(shu)含量不高,我(wo)國也不存在(zai)明顯的落后(hou)。