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著錄(lu)信息

專利名稱：適用于二次燒成用的無鉛熔塊釉
專利類型：發明
申請號：CN200610044877.6
公開(公告)號：CN100376502C
申請日：20060614
公開(公告)日：20080326
申請人：山東硅苑新材料科技股份有限公司
發明人：張儒嶺,王磊,尚慶剛,任允鵬
申請人地址：255086山東省淄博市開發區柳泉路264號
申請人區域代碼：CN370306
專利權人：山東硅苑新材料科技股份有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：C03C8/02,C04B41/86
優先權：無
專利代理機構：淄博科信專利商標代理有限公司
代理人：馬俊榮
審查員：焦磊
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關(guan)鍵詞

無鉛,鎂質瓷,產品成品率,化學重量,健康環保,素燒坯體,一級品率,釉面質量,骨質瓷,石英瓷,蔽光,瓷釉,二次,鎂質,燒成,匹配

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