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專利名稱：介質基片輻射增強腔式天線
專利類型：發明
申請號：CN200510005026.6
公開(公告)號：CN1815806B
申請日：20050131
公開(公告)日：20120509
申請人：東南大學,飛利浦(中國)投資有限公司
發明人：華光,洪偉
申請人地址：210096 江蘇省南京市四牌樓2號
申請人區域代碼：CN320102
專利權人：東南大學,飛利浦(中國)投資有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：H01Q9/04,H01Q9/06,H01Q9/16,H01Q9/28
優先權：無
專利代理機構：北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
代理人：劉國偉
審查員：李艷君
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關(guan)鍵(jian)詞

金屬化通孔,介質基板,饋電網絡,輻射,天線,介質基片,地板,電子對抗,天線方向圖,電子導航,電子設備,輻射特性,無線通信,印刷電路,電磁波,低損耗,增益,腔式,帶寬,雷達,封閉

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