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光刻機和芯片有什么關系 光刻機和芯片哪個更難

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2023-06-10 評論 0
摘要:光刻機和芯片有什么關系?在芯片制造過程中是離不開光刻機的,光刻機是制造芯片的核心裝備,芯片的集成水平取決于光刻機的精度。光刻機和芯片哪個更難?都很難的,不過光刻機難度最大,目前我國只能自主量產90納米光刻機,與荷蘭的差距還很大。

一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機,在芯片生產中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步,所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備,總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光(guang)刻(ke)機是光(guang)刻(ke)技術(shu)的(de)載體(ti),而光(guang)刻(ke)技術(shu)是芯(xin)片技術(shu)的(de)重要(yao)部分,光(guang)刻(ke)機的(de)原理就是用光(guang)把圖案投(tou)射到硅(gui)片上。如(ru)果想要(yao)自主生產芯(xin)片,光(guang)刻(ke)機是必要(yao)的(de),就像工業(ye)中(zhong)的(de)機床一(yi)樣。

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)與芯(xin)片(pian)存(cun)在著密不可(ke)分(fen)的關系。芯(xin)片(pian)與光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)的關系,就(jiu)好比是(shi)魚和水。沒(mei)了(le)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji),再高端(duan)的芯(xin)片(pian)技術(shu)也只能(neng)停留(liu)在理想(xiang)層(ceng)面。目(mu)前,世界(jie)最高端(duan)的光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)來(lai)自(zi)荷蘭,相信不久之后中國也能(neng)擁有獨(du)立自(zi)主的光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)技術(shu)。

二、光刻機和芯片哪個更難

都很(hen)難(nan)的(de)。因(yin)為(wei)芯片從設計到(dao)生產(chan)制造都是一個復雜工(gong)藝,目前國(guo)(guo)內,芯片設計軟(ruan)件和生產(chan)核心(xin)光刻機都是國(guo)(guo)外(wai)的(de)。不過(guo)光刻機難(nan)度最大,因(yin)為(wei)再好的(de)設計也需(xu)要做出(chu)來才(cai)能算成功,而(er)且還要保持良品率。

以我們(men)掌(zhang)(zhang)握(wo)程度(du)為難(nan)易判斷標準,我們(men)掌(zhang)(zhang)握(wo)了就不算難(nan),沒(mei)掌(zhang)(zhang)握(wo)的就算難(nan)。

芯(xin)片(pian)設(she)計,手機通信我們(men)有華為(wei),中興,展銳等。通用桌面(mian)服務器(qi)有龍(long)芯(xin),華為(wei),申(shen)威等。我們(men)已經具有完(wan)整的正向設(she)計能力,部分芯(xin)片(pian)設(she)計已經接近(jin)頂尖水平,差距一(yi)代不到。

芯(xin)片制(zhi)造,中芯(xin)國際量產14納(na)米(mi),有(you)望突破7納(na)米(mi)。華虹(hong)半導(dao)體也已經初步量產14納(na)米(mi)。跟最(zui)先進的臺積電和三星(xing)半導(dao)體比還有(you)很大的差距(ju),差距(ju)一代多。

光刻(ke)(ke)機(ji)(ji)(ji),我(wo)(wo)們可以(yi)完(wan)全(quan)自主量(liang)產(chan)(chan)90納(na)(na)米(mi)光刻(ke)(ke)機(ji)(ji)(ji)。現在最先進的極紫外光刻(ke)(ke)機(ji)(ji)(ji)只有(you)荷蘭(lan)(lan)ASML能夠供貨,我(wo)(wo)們跟ASML差(cha)了(le)三(san)代(dai)。根(gen)據公(gong)開信息,我(wo)(wo)們28納(na)(na)米(mi)光刻(ke)(ke)機(ji)(ji)(ji)關鍵(jian)部件(jian)已經全(quan)部完(wan)成(cheng)攻關,今(jin)年底有(you)望出整機(ji)(ji)(ji)樣機(ji)(ji)(ji),兩(liang)(liang)年內量(liang)產(chan)(chan)。28納(na)(na)米(mi)現在世界上有(you)兩(liang)(liang)個(ge)國家量(liang)產(chan)(chan),荷蘭(lan)(lan)和日本。我(wo)(wo)們今(jin)年如果(guo)能夠踏入(ru)這(zhe)個(ge)陣營,差(cha)距縮小到一(yi)代(dai)。

綜合起來,光刻機差(cha)距現在最(zui)大,是(shi)最(zui)難的。但不管(guan)什么(me)技(ji)術,只要(yao)持續不斷的投入,不被(bei)眼(yan)前的困難嚇倒(dao),培(pei)養人才梯隊,追趕(gan)和超越是(shi)遲早的。

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