一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光(guang)刻(ke)(ke)機是光(guang)刻(ke)(ke)技術(shu)的載體(ti)，而光(guang)刻(ke)(ke)技術(shu)是芯片技術(shu)的重(zhong)要(yao)(yao)部分(fen)，光(guang)刻(ke)(ke)機的原理(li)就是用(yong)光(guang)把圖案(an)投射到硅片上。如(ru)果想要(yao)(yao)自主生產芯片，光(guang)刻(ke)(ke)機是必要(yao)(yao)的，就像(xiang)工業(ye)中的機床一(yi)樣。

光刻(ke)(ke)機與芯(xin)片(pian)存(cun)在(zai)(zai)著密不可分的(de)關系。芯(xin)片(pian)與光刻(ke)(ke)機的(de)關系，就好比是魚(yu)和水。沒了光刻(ke)(ke)機，再高端的(de)芯(xin)片(pian)技術(shu)也只能停留在(zai)(zai)理想層面。目前(qian)，世界最高端的(de)光刻(ke)(ke)機來自荷蘭，相信不久之后中國也能擁(yong)有獨立自主的(de)光刻(ke)(ke)機技術(shu)。

二、光刻機和芯片哪個更難

都(dou)很(hen)難(nan)(nan)的(de)。因為芯片(pian)從設(she)計(ji)到生(sheng)產制造都(dou)是(shi)一個(ge)復雜工藝，目前國內，芯片(pian)設(she)計(ji)軟件和生(sheng)產核心光刻機(ji)都(dou)是(shi)國外的(de)。不過光刻機(ji)難(nan)(nan)度最大，因為再好的(de)設(she)計(ji)也需要做出來才能(neng)算成功，而且還(huan)要保持良品率(lv)。

以我們(men)掌(zhang)握程度為難(nan)易判(pan)斷標準(zhun)，我們(men)掌(zhang)握了就不算難(nan)，沒掌(zhang)握的就算難(nan)。

芯(xin)(xin)片(pian)設(she)計(ji)(ji)，手機通信我們有(you)(you)華為(wei)，中興(xing)，展銳等。通用桌面服(fu)務器(qi)有(you)(you)龍芯(xin)(xin)，華為(wei)，申威(wei)等。我們已經(jing)具有(you)(you)完整的正向設(she)計(ji)(ji)能力(li)，部分芯(xin)(xin)片(pian)設(she)計(ji)(ji)已經(jing)接近頂尖水平，差距(ju)一代不到(dao)。

芯片(pian)制造，中芯國際量產14納(na)米，有望突破7納(na)米。華(hua)虹半導體(ti)(ti)也已經初步(bu)量產14納(na)米。跟最先進的臺積電和(he)三星半導體(ti)(ti)比還有很大的差(cha)距(ju)，差(cha)距(ju)一(yi)代(dai)多。

光刻機(ji)，我(wo)們可(ke)以完全自主量產90納(na)(na)米光刻機(ji)。現在最先進(jin)的極紫(zi)外光刻機(ji)只有(you)荷蘭ASML能夠供(gong)貨，我(wo)們跟ASML差了三代。根據(ju)公開信息，我(wo)們28納(na)(na)米光刻機(ji)關鍵部件已經(jing)全部完成攻關，今年(nian)底(di)有(you)望(wang)出整機(ji)樣(yang)機(ji)，兩(liang)年(nian)內量產。28納(na)(na)米現在世界上有(you)兩(liang)個國家量產，荷蘭和日本。我(wo)們今年(nian)如果能夠踏入這個陣(zhen)營，差距縮(suo)小到(dao)一代。

綜合起來，光刻機差(cha)距現在最大，是(shi)最難的(de)。但不(bu)管什么技術，只要持(chi)續(xu)不(bu)斷的(de)投入(ru)，不(bu)被眼(yan)前的(de)困難嚇倒，培養人才梯隊，追趕和超越(yue)是(shi)遲早(zao)的(de)。