一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光(guang)(guang)(guang)刻機(ji)是(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)刻技術的載(zai)體，而光(guang)(guang)(guang)刻技術是(shi)(shi)芯片(pian)(pian)技術的重要部分(fen)，光(guang)(guang)(guang)刻機(ji)的原理就是(shi)(shi)用光(guang)(guang)(guang)把圖案(an)投射到硅(gui)片(pian)(pian)上。如(ru)果想要自主生產芯片(pian)(pian)，光(guang)(guang)(guang)刻機(ji)是(shi)(shi)必(bi)要的，就像工業中的機(ji)床一樣。

光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)與(yu)芯片(pian)存(cun)在(zai)著(zhu)密不可分的(de)關系。芯片(pian)與(yu)光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)的(de)關系，就(jiu)好比是魚(yu)和水(shui)。沒(mei)了光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)，再(zai)高端的(de)芯片(pian)技術也(ye)只能(neng)停留在(zai)理想層面。目前(qian)，世界最(zui)高端的(de)光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)來自荷蘭，相信不久之后中(zhong)國也(ye)能(neng)擁有(you)獨立自主的(de)光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)技術。

二、光刻機和芯片哪個更難

都(dou)很難的。因為(wei)芯片(pian)從設計到生產(chan)制造都(dou)是(shi)一個復雜工(gong)藝，目前國(guo)內，芯片(pian)設計軟件(jian)和(he)生產(chan)核心光(guang)(guang)刻機(ji)都(dou)是(shi)國(guo)外的。不過光(guang)(guang)刻機(ji)難度最大，因為(wei)再好的設計也需要(yao)做出來才(cai)能算成(cheng)功，而且還要(yao)保(bao)持良品率。

以我們掌握(wo)程度為難易判斷(duan)標準，我們掌握(wo)了就(jiu)不算(suan)難，沒(mei)掌握(wo)的就(jiu)算(suan)難。

芯片(pian)設(she)計，手(shou)機通信我們(men)有華(hua)為，中興，展(zhan)銳等。通用桌面服務器(qi)有龍(long)芯，華(hua)為，申威(wei)等。我們(men)已(yi)經具有完整的正向(xiang)設(she)計能力，部分芯片(pian)設(she)計已(yi)經接近頂尖水平，差距一代不到。

芯片制造，中芯國際量產(chan)14納(na)米，有望突破7納(na)米。華虹半導(dao)體也(ye)已經(jing)初步量產(chan)14納(na)米。跟最(zui)先進的臺積(ji)電(dian)和(he)三星半導(dao)體比(bi)還有很大的差(cha)距(ju)，差(cha)距(ju)一代多。

光(guang)刻機(ji)(ji)，我(wo)們(men)可以完(wan)全自(zi)主量產90納(na)米光(guang)刻機(ji)(ji)。現在最先進的極紫(zi)外光(guang)刻機(ji)(ji)只有荷蘭ASML能(neng)夠供貨(huo)，我(wo)們(men)跟ASML差了三代(dai)。根據公開(kai)信息，我(wo)們(men)28納(na)米光(guang)刻機(ji)(ji)關鍵部件已經全部完(wan)成攻關，今年底有望出整機(ji)(ji)樣機(ji)(ji)，兩年內(nei)量產。28納(na)米現在世(shi)界上有兩個國家量產，荷蘭和日(ri)本(ben)。我(wo)們(men)今年如果能(neng)夠踏入這個陣營(ying)，差距縮小到一代(dai)。

綜合起來，光刻機差距現在最大，是(shi)最難(nan)的。但不管(guan)什(shen)么技(ji)術(shu)，只要持續不斷的投入，不被眼前的困難(nan)嚇倒，培養(yang)人才梯隊，追(zhui)趕(gan)和超(chao)越是(shi)遲(chi)早的。