一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光刻(ke)(ke)機(ji)是(shi)(shi)光刻(ke)(ke)技(ji)術的(de)載體，而光刻(ke)(ke)技(ji)術是(shi)(shi)芯片(pian)技(ji)術的(de)重要(yao)(yao)部分(fen)，光刻(ke)(ke)機(ji)的(de)原(yuan)理就(jiu)是(shi)(shi)用光把圖案投射(she)到(dao)硅片(pian)上。如果想(xiang)要(yao)(yao)自(zi)主生產(chan)芯片(pian)，光刻(ke)(ke)機(ji)是(shi)(shi)必要(yao)(yao)的(de)，就(jiu)像工業中的(de)機(ji)床一樣(yang)。

光刻機與(yu)芯(xin)片(pian)存在(zai)著密不(bu)可分的(de)(de)關(guan)系。芯(xin)片(pian)與(yu)光刻機的(de)(de)關(guan)系，就好比(bi)是(shi)魚和(he)水。沒了光刻機，再高(gao)端(duan)(duan)的(de)(de)芯(xin)片(pian)技術也只能(neng)(neng)停留(liu)在(zai)理想層面。目前(qian)，世界最高(gao)端(duan)(duan)的(de)(de)光刻機來自(zi)(zi)荷蘭，相信不(bu)久(jiu)之后(hou)中國也能(neng)(neng)擁有獨立(li)自(zi)(zi)主的(de)(de)光刻機技術。

二、光刻機和芯片哪個更難

都很(hen)難(nan)的。因(yin)為芯(xin)片從設計到生(sheng)產(chan)制造都是一個復雜工藝，目前國(guo)內(nei)，芯(xin)片設計軟件和生(sheng)產(chan)核心光刻機(ji)都是國(guo)外的。不過光刻機(ji)難(nan)度最(zui)大，因(yin)為再好的設計也(ye)需(xu)要做出(chu)來才能算成功，而且(qie)還要保(bao)持良(liang)品率。

以我(wo)們掌握(wo)程度為難易判斷標準，我(wo)們掌握(wo)了就(jiu)不算(suan)難，沒(mei)掌握(wo)的就(jiu)算(suan)難。

芯片(pian)設計(ji)，手(shou)機通信(xin)我(wo)們(men)有(you)華為，中興(xing)，展銳等。通用桌面服務器(qi)有(you)龍芯，華為，申威等。我(wo)們(men)已經具有(you)完(wan)整(zheng)的正向設計(ji)能力，部分芯片(pian)設計(ji)已經接近頂尖水平，差距(ju)一代(dai)不(bu)到。

芯(xin)片制造，中芯(xin)國際量(liang)產14納(na)米，有望(wang)突破7納(na)米。華虹半導體也已經初步量(liang)產14納(na)米。跟最(zui)先進(jin)的臺積電和三星半導體比還(huan)有很(hen)大(da)的差距，差距一(yi)代多。

光刻(ke)機(ji)，我(wo)們(men)可以完全自主量(liang)(liang)產90納(na)米(mi)光刻(ke)機(ji)。現(xian)在最先進的極紫外光刻(ke)機(ji)只有(you)荷蘭ASML能(neng)夠供貨，我(wo)們(men)跟(gen)ASML差了三(san)代。根據公(gong)開(kai)信息(xi)，我(wo)們(men)28納(na)米(mi)光刻(ke)機(ji)關(guan)鍵部(bu)件(jian)已經全部(bu)完成攻關(guan)，今年底有(you)望出整機(ji)樣(yang)機(ji)，兩年內量(liang)(liang)產。28納(na)米(mi)現(xian)在世界上有(you)兩個國家量(liang)(liang)產，荷蘭和日本(ben)。我(wo)們(men)今年如果能(neng)夠踏入(ru)這(zhe)個陣營，差距(ju)縮小到一(yi)代。

綜合起來，光刻機差距(ju)現在最大，是最難(nan)(nan)的(de)(de)。但不管什(shen)么(me)技(ji)術，只(zhi)要(yao)持續不斷的(de)(de)投入，不被眼前的(de)(de)困難(nan)(nan)嚇倒，培養(yang)人才梯隊(dui)，追(zhui)趕和超越是遲早的(de)(de)。