一、電滲析設備產生的污垢有幾種

電滲析設備在工作(zuo)過程(cheng)中(zhong)，離子交換膜會出現結垢(gou)的情況，一般(ban)產生的污垢(gou)主要可(ke)分為三(san)類：

1、由電極(ji)反應和極(ji)化產生的(de)主要是鈣、鎂(mei)的(de)碳酸(suan)鹽污垢。

2、在濃水中，因過飽和而慢慢析出(chu)的主要是鈣、鎂的硫酸鹽污垢。

3、在(zai)直(zhi)流電(dian)場作用下，帶電(dian)物(wu)質在(zai)膜表面的(de)沉積物(wu)，主要是有機物(wu)、膠體和微生物(wu)。

二、如何預防電滲析器結垢

為了預防電滲析器結(jie)垢(gou)，在電滲析設(she)備運行過(guo)程中(zhong)，要注意(yi)以下幾點(dian)：

1、控制工(gong)作(zuo)電(dian)(dian)流(liu)不超過極(ji)(ji)限(xian)電(dian)(dian)流(liu)，一般(ban)使工(gong)作(zuo)電(dian)(dian)流(liu)在(zai)極(ji)(ji)限(xian)電(dian)(dian)流(liu)的70%-90%。原水硬度(du)高(gao)時，工(gong)作(zuo)電(dian)(dian)流(liu)要取低值。

2、控制電滲析在額(e)定流量范圍內工作，如(ru)果(guo)水(shui)(shui)流速過低(di)，進水(shui)(shui)中(zhong)的懸浮物會在隔板間(jian)(jian)沉積，造成阻力損(sun)失(shi)增大，局部產生死角使(shi)配水(shui)(shui)不均(jun)勻(yun)，因(yin)而容易發(fa)生局部極化；水(shui)(shui)流速度過大會縮短水(shui)(shui)力停留時間(jian)(jian)，并導致(zhi)出水(shui)(shui)水(shui)(shui)質下(xia)降。

3、待處理(li)的(de)污水進電滲析器(qi)之前需預(yu)先進行軟(ruan)化處理(li)，去除水中(zhong)的(de)鈣(gai)、鎂離子，消除結垢的(de)內因。

4、在濃(nong)水中投加鹽(yan)酸(suan)(suan)或硫酸(suan)(suan)，將(jiang)PH值調整到4-6,使(shi)碳(tan)酸(suan)(suan)鹽(yan)硬(ying)度轉變為非碳(tan)酸(suan)(suan)鹽(yan)硬(ying)度，防止碳(tan)酸(suan)(suan)鹽(yan)硬(ying)度水垢的(de)產(chan)生的(de)析(xi)出。同時可以實現濃(nong)水的(de)循環，減少污水的(de)排放量，提高產(chan)水率。

5、每(mei)半年(nian)(nian)或一年(nian)(nian)將電滲析(xi)器解(jie)體拆散，將離子交換膜和隔板分別進行機械清刷和化學酸洗，全面(mian)清洗一次。

6、使(shi)用能(neng)(neng)夠(gou)定時(shi)倒換(huan)電極的(de)電滲析設備，使(shi)電極的(de)極性能(neng)(neng)夠(gou)根據需要和(he)可能(neng)(neng)隨時(shi)改(gai)變，陰膜(mo)上的(de)結(jie)垢處于時(shi)而(er)(er)析出、時(shi)而(er)(er)溶解，時(shi)而(er)(er)在(zai)陰膜(mo)的(de)這一面、時(shi)而(er)(er)在(zai)陰膜(mo)的(de)那一面的(de)不穩定狀態，減(jian)少水垢及水中膠體(ti)和(he)微(wei)生(sheng)物等黏性物質在(zai)膜(mo)面上的(de)附著(zhu)和(he)積累。

三、電滲析設備離子滲透膜結垢較輕時可采用什么處理

電滲析設備通過頻繁(fan)倒極等方(fang)法(fa)以減少結(jie)垢(gou)情況，如果還是存在結(jie)垢(gou)現(xian)象(xiang)，結(jie)垢(gou)較(jiao)嚴重的話，需(xu)要進(jin)行大規模的解體(ti)清洗(xi)，結(jie)垢(gou)較(jiao)輕的話，則可(ke)以采(cai)用定期酸洗(xi)的方(fang)法(fa)處理(li)。

電滲析設備離子膜結(jie)垢較輕，可(ke)在(zai)(zai)不解(jie)體的(de)情況(kuang)下(xia)，使用1%-2%的(de)稀(xi)鹽酸酸洗結(jie)在(zai)(zai)陰膜上(shang)的(de)水(shui)垢，具(ju)體的(de)酸洗周期根據結(jie)垢情況(kuang)而定，一般為(wei)1-4周一次(ci)。