研(yan)究人員開發出新(xin)型飛秒激(ji)光等離子激(ji)元光刻技術(FPL),該技術可在二維薄膜材(cai)(cai)料(liao)(liao)上(shang)能夠實現(xian)大面積高(gao)質量亞微米周期(qi)結構(gou)(gou)的(de)快速制備(bei)。加(jia)工(gong)過程(cheng)不易(yi)受(shou)材(cai)(cai)料(liao)(liao)表(biao)面缺陷(xian)、雜質等因(yin)素的(de)影響,加(jia)工(gong)基底也(ye)不易(yi)受(shou)到材(cai)(cai)料(liao)(liao)種類的(de)限制。為相關(guan)材(cai)(cai)料(liao)(liao)周期(qi)性微納(na)結構(gou)(gou)的(de)靈活制備(bei)奠定了基礎(chu)。
中科院(yuan)長春光(guang)(guang)學精密機(ji)械與物理研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)所(suo)研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)人員開(kai)發了(le)一種新型(xing)飛秒激光(guang)(guang)等離子(zi)激元光(guang)(guang)刻技(ji)術(FPL)。利(li)用該技(ji)術,研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)人員在(zai)百納米(mi)厚的硅基氧化石墨烯薄膜(mo)表面實現了(le)高質量(liang)微納周(zhou)期結構的快速(su)制(zhi)備,首次證明了(le)FPL技(ji)術在(zai)二(er)維薄膜(mo)材料上(shang)能夠實現大(da)面積高質量(liang)亞微米(mi)周(zhou)期結構的快速(su)制(zhi)備。
在(zai)此之前(qian),在(zai)石墨烯上制備微(wei)納結構的技術(shu)有自組裝(zhuang)、電子束刻蝕和(he)極紫外光刻等,但這(zhe)些(xie)技術(shu)存(cun)在(zai)著(zhu)耗時(shi)長、成本高、缺乏通(tong)用(yong)性等問(wen)題(ti)。
FPL技(ji)術加工過程(cheng)不易受(shou)材(cai)料(liao)(liao)表(biao)面缺陷、雜質等因素的(de)(de)影響,加工基(ji)底(di)也不易受(shou)到材(cai)料(liao)(liao)種類的(de)(de)限制。加工材(cai)料(liao)(liao)表(biao)現出了優(you)異的(de)(de)機(ji)械性能,可以利用傳統的(de)(de)濕轉(zhuan)(zhuan)移法(fa)進行完整轉(zhuan)(zhuan)移。這(zhe)為相關材(cai)料(liao)(liao)周期性微納(na)結構的(de)(de)靈活制備(bei)奠定(ding)了基(ji)礎。
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