研究人員開發出新型飛秒激光等(deng)(deng)離子激元光刻技術(FPL),該技術可在二(er)維薄膜材料(liao)上能夠(gou)實現大面積(ji)高質(zhi)量亞微(wei)米周期(qi)結構的快速制(zhi)備。加(jia)工(gong)過程(cheng)不(bu)易受材料(liao)表(biao)面缺陷、雜質(zhi)等(deng)(deng)因(yin)素的影響,加(jia)工(gong)基底也不(bu)易受到材料(liao)種類的限制(zhi)。為相關材料(liao)周期(qi)性微(wei)納結構的靈活制(zhi)備奠(dian)定了基礎。
中科院長春光(guang)學精(jing)密機械與物理研(yan)究(jiu)所研(yan)究(jiu)人(ren)員開發了(le)(le)(le)一(yi)種新(xin)型(xing)飛秒激光(guang)等(deng)離子激元光(guang)刻技(ji)(ji)(ji)術(shu)(FPL)。利用該技(ji)(ji)(ji)術(shu),研(yan)究(jiu)人(ren)員在(zai)(zai)百納(na)米(mi)厚的硅基氧化石墨烯(xi)薄(bo)膜(mo)表面實現了(le)(le)(le)高質(zhi)量(liang)(liang)微納(na)周(zhou)期(qi)結構(gou)的快速制備,首次證(zheng)明(ming)了(le)(le)(le)FPL技(ji)(ji)(ji)術(shu)在(zai)(zai)二維薄(bo)膜(mo)材料上能夠實現大(da)面積(ji)高質(zhi)量(liang)(liang)亞微米(mi)周(zhou)期(qi)結構(gou)的快速制備。
在此之前,在石墨(mo)烯上(shang)制備微納結構的技術有自(zi)組裝(zhuang)、電子束刻蝕和(he)極紫外光刻等,但這些(xie)技術存在著耗時長、成本高、缺乏通用性等問題。
FPL技術加(jia)工過程(cheng)不(bu)易(yi)受材(cai)(cai)料(liao)表(biao)(biao)面缺陷、雜質(zhi)等因素的(de)(de)(de)影響,加(jia)工基底也不(bu)易(yi)受到(dao)材(cai)(cai)料(liao)種類的(de)(de)(de)限制(zhi)。加(jia)工材(cai)(cai)料(liao)表(biao)(biao)現(xian)出(chu)了優異的(de)(de)(de)機械性(xing)能(neng),可以利用傳(chuan)統的(de)(de)(de)濕轉(zhuan)移法進行完整轉(zhuan)移。這(zhe)為相關(guan)材(cai)(cai)料(liao)周期(qi)性(xing)微(wei)納結(jie)構的(de)(de)(de)靈活(huo)制(zhi)備奠定了基礎。
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