研(yan)究人員(yuan)開發出(chu)新型(xing)飛秒激光等(deng)離子(zi)激元光刻技術(FPL),該技術可在二維薄膜材料(liao)上能(neng)夠實現大(da)面(mian)積高質(zhi)量亞微米周期結構的快(kuai)速制備(bei)。加工過程(cheng)不易受材料(liao)表面(mian)缺(que)陷、雜質(zhi)等(deng)因素的影響(xiang),加工基底(di)也不易受到材料(liao)種類的限制。為相關材料(liao)周期性(xing)微納結構的靈活制備(bei)奠定了基礎。
中科院(yuan)長春(chun)光學精密機械與(yu)物理研(yan)究(jiu)所研(yan)究(jiu)人員(yuan)開發了一種(zhong)新(xin)型(xing)飛秒激(ji)光等離子激(ji)元光刻技(ji)術(shu)(FPL)。利用該(gai)技(ji)術(shu),研(yan)究(jiu)人員(yuan)在(zai)百(bai)納(na)米(mi)厚的硅基氧化石墨(mo)烯薄膜表面實(shi)現(xian)了高質量微(wei)納(na)周期(qi)結構(gou)的快速(su)制備(bei),首(shou)次(ci)證明了FPL技(ji)術(shu)在(zai)二(er)維薄膜材料(liao)上能夠實(shi)現(xian)大面積高質量亞微(wei)米(mi)周期(qi)結構(gou)的快速(su)制備(bei)。
在(zai)此之前(qian),在(zai)石墨烯上(shang)制備微納結構的(de)技(ji)術有自組裝、電子(zi)束(shu)刻蝕和極(ji)紫外(wai)光刻等,但這些技(ji)術存(cun)在(zai)著(zhu)耗(hao)時(shi)長(chang)、成(cheng)本高、缺乏通用性等問(wen)題。
FPL技術加工過程不易(yi)(yi)受材(cai)料(liao)表(biao)面缺陷、雜質等因素的影響,加工基底(di)也不易(yi)(yi)受到材(cai)料(liao)種類的限(xian)制(zhi)。加工材(cai)料(liao)表(biao)現出了優異的機(ji)械性能,可以利用(yong)傳統(tong)的濕轉移法(fa)進行完整(zheng)轉移。這為(wei)相關(guan)材(cai)料(liao)周期(qi)性微納結構的靈(ling)活制(zhi)備奠定了基礎。
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