一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可(ke)以做到90納(na)米工(gong)藝。

之前有網(wang)(wang)友爆料，上海微電子(zi)將于2020年12月下線(xian)首(shou)臺采(cai)用ArF光(guang)源的(de)SSA800/10W光(guang)刻(ke)機，這是(shi)一(yi)臺國(guo)產浸沒式DUV 光(guang)刻(ke)機，可實現單次(ci)曝光(guang)28nm節點(dian)。所以網(wang)(wang)絡里一(yi)直流傳著(zhu)這個說(shuo)法。不過對于此消息(xi)，有人(ren)說(shuo)是(shi)真(zhen)的(de)，有人(ren)說(shuo)是(shi)假的(de)。讓人(ren)很(hen)是(shi)迷糊。

上海微(wei)電(dian)子的(de)(de)確在做可(ke)以實(shi)現28納米制程的(de)(de)國(guo)產DUV光刻(ke)機。只是(shi)是(shi)否通過驗(yan)收，到底何時能交(jiao)付，目前未(wei)知。

28納米將(jiang)會是我(wo)們(men)國產光(guang)刻(ke)機的(de)最高工(gong)藝水(shui)(shui)平，嚴格來說，這(zhe)個真的(de)算不上(shang)高水(shui)(shui)平，它的(de)前面還有14、7、5、3、2，甚(shen)至是1nm。

但(dan)是28納米是成熟工藝，生產(chan)(chan)成本低，只要不追求(qiu)極致性能的(de)情況下，這種制程(cheng)的(de)芯片，其性能也夠(gou)用的(de)，用來生產(chan)(chan)我們日(ri)常生活中(zhong)的(de)電子(zi)設備是沒有問題的(de)，例(li)如電視(shi)、電視(shi)盒子(zi)、音響、電梯、空調、微(wei)波爐(lu)、冰(bing)箱、汽車等(deng)等(deng)。

另外，根據研(yan)究機構IC Insights發布的(de)《2020-2024年全(quan)球晶圓產能》報告，預計到2024年，半導體制程格(ge)局(ju)將出現10nm以下(xia)，10-20nm，20nm以上工藝(yi)三分天下(xia)的(de)格(ge)局(ju)，各(ge)自市場(chang)占有率(lv)約為(wei)1/3，而28nm以上的(de)成熟工藝(yi)在未來四年的(de)市場(chang)份額沒有明顯變(bian)化，仍然有很大(da)的(de)市場(chang)，所以無需盲目地追(zhui)求(qiu)制程工藝(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多(duo)人疑惑，中(zhong)國是(shi)(shi)世界上工業生產能力(li)最強(qiang)的(de)國家，為什么中(zhong)國造(zao)不出高端(duan)的(de)光刻機？其實(shi)最大的(de)原因就(jiu)是(shi)(shi)中(zhong)國的(de)工業是(shi)(shi)多(duo)而不精。光刻機并(bing)不是(shi)(shi)一項技術的(de)突破，而是(shi)(shi)一整個光學(xue)領域(yu)絕(jue)大多(duo)數技術的(de)突破。

目前全球最頂(ding)尖(jian)的光刻機接近200噸，由(you)差不(bu)多十萬個零(ling)件組成。其中絕大(da)多數都是核(he)心零(ling)件，每一(yi)個零(ling)件都需要很多技術的突破才能(neng)做出來(lai)。有(you)工程師稱，里(li)面(mian)一(yi)些零(ling)件需要打磨十年才能(neng)誕(dan)生。

雖然最(zui)先(xian)進的(de)光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)出自荷蘭，但荷蘭公(gong)司(si)也只(zhi)是做一個(ge)組(zu)裝和調(diao)試的(de)工作，里(li)面的(de)核心零件來源于大多數西(xi)方國(guo)(guo)(guo)家(jia)。從美國(guo)(guo)(guo)到(dao)(dao)英國(guo)(guo)(guo)，從法國(guo)(guo)(guo)到(dao)(dao)比利(li)時，所(suo)有站在(zai)(zai)(zai)西(xi)方陣(zhen)營(ying)的(de)國(guo)(guo)(guo)家(jia)合在(zai)(zai)(zai)一起，才能造(zao)(zao)出一臺(tai)最(zui)頂尖的(de)光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)。所(suo)以(yi)中國(guo)(guo)(guo)要造(zao)(zao)最(zui)頂尖的(de)光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)并(bing)不是在(zai)(zai)(zai)和某一個(ge)國(guo)(guo)(guo)家(jia)對抗，而是在(zai)(zai)(zai)和整個(ge)西(xi)方世(shi)界對抗。

這(zhe)(zhe)就好(hao)比班級(ji)考(kao)試(shi)，考(kao)試(shi)的(de)(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)有(you)數(shu)百科(ke)(ke)(ke)。總(zong)成(cheng)(cheng)績(ji)好(hao)點的(de)(de)學(xue)(xue)生(sheng)固然(ran)能考(kao)出一(yi)(yi)個比較(jiao)高(gao)的(de)(de)總(zong)成(cheng)(cheng)績(ji)，但(dan)(dan)是(shi)(shi)這(zhe)(zhe)個學(xue)(xue)生(sheng)不(bu)能讓自(zi)己(ji)每一(yi)(yi)科(ke)(ke)(ke)的(de)(de)成(cheng)(cheng)績(ji)都達(da)到最高(gao)。和他相比，那些成(cheng)(cheng)績(ji)不(bu)好(hao)的(de)(de)學(xue)(xue)生(sheng)雖然(ran)偏科(ke)(ke)(ke)，但(dan)(dan)是(shi)(shi)他們總(zong)有(you)一(yi)(yi)兩科(ke)(ke)(ke)自(zi)己(ji)擅長的(de)(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)，這(zhe)(zhe)些科(ke)(ke)(ke)目(mu)總(zong)有(you)得高(gao)分甚至(zhi)是(shi)(shi)滿(man)分的(de)(de)機會。這(zhe)(zhe)些學(xue)(xue)生(sheng)最好(hao)的(de)(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)加起來(lai)，就能組(zu)成(cheng)(cheng)一(yi)(yi)個非常高(gao)的(de)(de)“各科(ke)(ke)(ke)總(zong)成(cheng)(cheng)績(ji)”。

要(yao)造出最(zui)頂端的光(guang)(guang)(guang)刻機，就需(xu)要(yao)這些(xie)科目(mu)每一(yi)顆都得到極高(gao)的分數甚至是滿(man)分。所(suo)以(yi)中(zhong)國(guo)(guo)的光(guang)(guang)(guang)刻機之路并不是突(tu)破(po)幾項新技(ji)術就能走穩、走好的，中(zhong)國(guo)(guo)需(xu)要(yao)在整個光(guang)(guang)(guang)學(xue)技(ji)術上的絕大多(duo)數技(ji)術中(zhong)得到突(tu)破(po)，才能以(yi)一(yi)個國(guo)(guo)家的科技(ji)實力對抗整個西(xi)方社(she)會。

很多(duo)人疑惑中(zhong)(zhong)國(guo)什(shen)么時候能(neng)造(zao)(zao)出最頂尖(jian)的(de)光(guang)刻機(ji)(ji)(ji)，這個問(wen)題的(de)答案沒有任(ren)何人能(neng)給出來。中(zhong)(zhong)國(guo)在(zai)光(guang)刻機(ji)(ji)(ji)領域遇到的(de)困難，和中(zhong)(zhong)國(guo)當年(nian)造(zao)(zao)原(yuan)(yuan)子(zi)彈時，沒有計算機(ji)(ji)(ji)，沒有離心機(ji)(ji)(ji)，沒有數據資料一樣困難。當年(nian)中(zhong)(zhong)國(guo)在(zai)美國(guo)造(zao)(zao)出原(yuan)(yuan)子(zi)彈接近9年(nian)后(hou)擁有了自己的(de)原(yuan)(yuan)子(zi)彈，中(zhong)(zhong)國(guo)現在(zai)打算大力研(yan)制光(guang)刻機(ji)(ji)(ji)也是(shi)近兩年(nian)的(de)事情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是國際(ji)上(shang)2005年左右(you)的光(guang)(guang)刻(ke)機最(zui)頂尖水平，差距在15年左右(you)。所以很(hen)多人認為，我國應該會(hui)在十來年左右(you)達到(dao)讓(rang)自己(ji)的光(guang)(guang)刻(ke)機達到(dao)國際(ji)社會(hui)的最(zui)頂尖水平。