一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可以做到(dao)90納米(mi)工(gong)藝(yi)。

之前有網(wang)友爆料，上海微電子將于2020年12月下線首臺采(cai)用ArF光(guang)(guang)源(yuan)的(de)SSA800/10W光(guang)(guang)刻(ke)機，這是(shi)一臺國產浸沒式DUV 光(guang)(guang)刻(ke)機，可實現單(dan)次(ci)曝光(guang)(guang)28nm節點(dian)。所以網(wang)絡(luo)里一直流傳著這個(ge)說(shuo)法(fa)。不(bu)過(guo)對(dui)于此(ci)消息，有人(ren)說(shuo)是(shi)真的(de)，有人(ren)說(shuo)是(shi)假的(de)。讓人(ren)很是(shi)迷(mi)糊。

上海微電子的(de)確在做(zuo)可以(yi)實現28納米制程的(de)國產(chan)DUV光刻機。只是(shi)是(shi)否通(tong)過驗收(shou)，到底何時能交付，目前未知。

28納米(mi)將會(hui)是(shi)我們(men)國(guo)產光刻機的最高(gao)工藝水平(ping)，嚴格來說，這個(ge)真的算不上高(gao)水平(ping)，它的前面還有14、7、5、3、2，甚至是(shi)1nm。

但(dan)是28納米是成熟工藝，生(sheng)產成本低，只要不(bu)追求極致性(xing)(xing)能的(de)(de)情(qing)況下，這(zhe)種制程(cheng)的(de)(de)芯片，其性(xing)(xing)能也(ye)夠(gou)用的(de)(de)，用來生(sheng)產我們日常生(sheng)活中的(de)(de)電(dian)(dian)子設備是沒有問題的(de)(de)，例如電(dian)(dian)視(shi)、電(dian)(dian)視(shi)盒子、音響、電(dian)(dian)梯、空調、微波爐、冰(bing)箱、汽(qi)車等等。

另外，根(gen)據研究(jiu)機(ji)構IC Insights發布的(de)《2020-2024年全球晶圓產能》報告，預計到(dao)2024年，半(ban)導(dao)體(ti)制程格局(ju)將出現10nm以下，10-20nm，20nm以上(shang)工藝(yi)三分天下的(de)格局(ju)，各自市場(chang)占有率約為1/3，而(er)28nm以上(shang)的(de)成(cheng)熟(shu)工藝(yi)在未來(lai)四年的(de)市場(chang)份額沒(mei)有明顯變化，仍然(ran)有很大的(de)市場(chang)，所以無需(xu)盲目(mu)地追求制程工藝(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多(duo)人疑惑，中國(guo)是(shi)(shi)世界上工業生產能力(li)最強的國(guo)家，為什(shen)么(me)中國(guo)造不出高端的光(guang)刻機(ji)？其實最大(da)的原因就是(shi)(shi)中國(guo)的工業是(shi)(shi)多(duo)而不精。光(guang)刻機(ji)并不是(shi)(shi)一(yi)項技術(shu)的突(tu)(tu)破，而是(shi)(shi)一(yi)整個光(guang)學領域絕大(da)多(duo)數技術(shu)的突(tu)(tu)破。

目前全(quan)球最頂尖的光刻(ke)機(ji)接(jie)近200噸，由差不多(duo)十(shi)萬個零(ling)(ling)件(jian)(jian)組成。其(qi)中絕(jue)大多(duo)數(shu)都是核心零(ling)(ling)件(jian)(jian)，每一(yi)(yi)個零(ling)(ling)件(jian)(jian)都需要很多(duo)技術的突破才(cai)能做出(chu)來。有(you)工程師稱，里面(mian)一(yi)(yi)些零(ling)(ling)件(jian)(jian)需要打磨十(shi)年才(cai)能誕生。

雖(sui)然最先進的(de)光刻(ke)機出自荷(he)蘭，但荷(he)蘭公司也(ye)只(zhi)是做一(yi)(yi)個(ge)(ge)組裝和調試的(de)工作，里面的(de)核心零件(jian)來(lai)源于大多數西方(fang)國家(jia)。從美國到(dao)英國，從法國到(dao)比利(li)時，所(suo)(suo)有站在西方(fang)陣營的(de)國家(jia)合在一(yi)(yi)起(qi)，才能造出一(yi)(yi)臺最頂尖(jian)的(de)光刻(ke)機。所(suo)(suo)以中國要造最頂尖(jian)的(de)光刻(ke)機并不是在和某一(yi)(yi)個(ge)(ge)國家(jia)對(dui)抗(kang)，而(er)是在和整個(ge)(ge)西方(fang)世界(jie)對(dui)抗(kang)。

這(zhe)就(jiu)(jiu)好(hao)(hao)比(bi)班級(ji)考(kao)試(shi)，考(kao)試(shi)的(de)(de)科(ke)目(mu)有(you)(you)數百科(ke)。總成(cheng)(cheng)績(ji)好(hao)(hao)點的(de)(de)學生(sheng)固然(ran)能(neng)考(kao)出一個比(bi)較(jiao)高(gao)的(de)(de)總成(cheng)(cheng)績(ji)，但是這(zhe)個學生(sheng)不能(neng)讓自(zi)己每一科(ke)的(de)(de)成(cheng)(cheng)績(ji)都(dou)達到最(zui)高(gao)。和(he)他相比(bi)，那些(xie)成(cheng)(cheng)績(ji)不好(hao)(hao)的(de)(de)學生(sheng)雖(sui)然(ran)偏科(ke)，但是他們總有(you)(you)一兩科(ke)自(zi)己擅(shan)長的(de)(de)科(ke)目(mu)，這(zhe)些(xie)科(ke)目(mu)總有(you)(you)得高(gao)分(fen)甚至是滿(man)分(fen)的(de)(de)機(ji)會。這(zhe)些(xie)學生(sheng)最(zui)好(hao)(hao)的(de)(de)科(ke)目(mu)加起來，就(jiu)(jiu)能(neng)組(zu)成(cheng)(cheng)一個非常高(gao)的(de)(de)“各科(ke)總成(cheng)(cheng)績(ji)”。

要造(zao)出最頂端的(de)光(guang)刻(ke)機，就(jiu)需要這(zhe)些科目每一顆(ke)都得(de)到(dao)極高的(de)分數(shu)(shu)甚至是(shi)滿分。所(suo)以中國的(de)光(guang)刻(ke)機之路(lu)并不是(shi)突破幾項新技(ji)術(shu)就(jiu)能(neng)走穩、走好的(de)，中國需要在整個(ge)光(guang)學技(ji)術(shu)上的(de)絕大多數(shu)(shu)技(ji)術(shu)中得(de)到(dao)突破，才能(neng)以一個(ge)國家的(de)科技(ji)實力對抗整個(ge)西方(fang)社會。

很多人(ren)疑惑中國(guo)(guo)什么時候能造出最頂尖的光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)，這(zhe)個問題的答(da)案沒有(you)(you)任何人(ren)能給(gei)出來。中國(guo)(guo)在(zai)光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)領域遇到的困(kun)難，和中國(guo)(guo)當(dang)年造原子彈(dan)時，沒有(you)(you)計算(suan)機(ji)，沒有(you)(you)離(li)心機(ji)，沒有(you)(you)數據資料一樣困(kun)難。當(dang)年中國(guo)(guo)在(zai)美國(guo)(guo)造出原子彈(dan)接近9年后(hou)擁有(you)(you)了自(zi)己的原子彈(dan)，中國(guo)(guo)現在(zai)打算(suan)大力研制光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)也(ye)是(shi)近兩年的事情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是(shi)國際(ji)上2005年(nian)左(zuo)右的(de)光(guang)(guang)刻機最頂尖水(shui)(shui)平，差距(ju)在(zai)15年(nian)左(zuo)右。所(suo)以很多人認為，我(wo)國應該會(hui)(hui)在(zai)十來年(nian)左(zuo)右達(da)到讓自己的(de)光(guang)(guang)刻機達(da)到國際(ji)社會(hui)(hui)的(de)最頂尖水(shui)(shui)平。