一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可以做到90納米工藝。

之前有網(wang)友爆料，上海微電(dian)子將于2020年12月(yue)下(xia)線首臺(tai)采(cai)用ArF光(guang)(guang)(guang)源的(de)SSA800/10W光(guang)(guang)(guang)刻機，這是(shi)一(yi)臺(tai)國產浸沒式DUV 光(guang)(guang)(guang)刻機，可實現(xian)單次(ci)曝光(guang)(guang)(guang)28nm節點。所以網(wang)絡里一(yi)直流傳著(zhu)這個說法。不(bu)過對于此消息，有人(ren)(ren)(ren)說是(shi)真的(de)，有人(ren)(ren)(ren)說是(shi)假的(de)。讓(rang)人(ren)(ren)(ren)很是(shi)迷(mi)糊。

上(shang)海微(wei)電子的確在做可以實現28納米制程的國產DUV光刻機。只是是否通過驗收，到底何時能交付，目(mu)前未知。

28納米將會是我們(men)國(guo)產光刻機的(de)最(zui)高工藝水(shui)平，嚴格來說(shuo)，這個真的(de)算不(bu)上高水(shui)平，它的(de)前面(mian)還有14、7、5、3、2，甚(shen)至是1nm。

但(dan)是(shi)28納米是(shi)成(cheng)熟(shu)工(gong)藝，生(sheng)產成(cheng)本(ben)低，只要不追求極致性(xing)能的情(qing)況下，這種制程的芯片，其性(xing)能也夠用的，用來生(sheng)產我們日(ri)常生(sheng)活中(zhong)的電(dian)子設備是(shi)沒有問題的，例如電(dian)視(shi)、電(dian)視(shi)盒子、音響、電(dian)梯(ti)、空(kong)調、微波(bo)爐、冰箱、汽車等等。

另外，根(gen)據(ju)研究機(ji)構IC Insights發布的(de)《2020-2024年全(quan)球晶圓產(chan)能》報告，預計到2024年，半(ban)導體(ti)制程(cheng)格(ge)局將出現10nm以(yi)下(xia)(xia)，10-20nm，20nm以(yi)上(shang)工(gong)藝(yi)三分天下(xia)(xia)的(de)格(ge)局，各自市(shi)場占有率(lv)約為1/3，而(er)28nm以(yi)上(shang)的(de)成熟工(gong)藝(yi)在未來四年的(de)市(shi)場份額沒有明顯變化，仍(reng)然(ran)有很大的(de)市(shi)場，所(suo)以(yi)無(wu)需(xu)盲(mang)目地追求制程(cheng)工(gong)藝(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多人疑(yi)惑，中國是(shi)世界上工業生產能力(li)最強的(de)(de)國家，為什么中國造不出(chu)高端的(de)(de)光(guang)刻(ke)機？其實(shi)最大的(de)(de)原(yuan)因就是(shi)中國的(de)(de)工業是(shi)多而不精。光(guang)刻(ke)機并不是(shi)一項技術的(de)(de)突破，而是(shi)一整(zheng)個(ge)光(guang)學領(ling)域絕(jue)大多數技術的(de)(de)突破。

目前全球最頂尖的光刻機接近200噸，由差不(bu)多(duo)十萬個零件(jian)組成。其中(zhong)絕(jue)大(da)多(duo)數都是(shi)核心零件(jian)，每一個零件(jian)都需要很多(duo)技術的突破才(cai)能做(zuo)出來(lai)。有工程師稱，里面一些零件(jian)需要打磨十年才(cai)能誕生。

雖然最先(xian)進的(de)光刻機出(chu)自荷蘭(lan)，但荷蘭(lan)公司也只是做一(yi)個組(zu)裝(zhuang)和(he)(he)(he)調(diao)試的(de)工作(zuo)，里(li)面的(de)核心零件來(lai)源于大(da)多數西(xi)方國(guo)(guo)家(jia)。從美(mei)國(guo)(guo)到(dao)(dao)英國(guo)(guo)，從法國(guo)(guo)到(dao)(dao)比利時，所有站在(zai)西(xi)方陣營的(de)國(guo)(guo)家(jia)合在(zai)一(yi)起，才能造(zao)出(chu)一(yi)臺(tai)最頂尖的(de)光刻機。所以中國(guo)(guo)要造(zao)最頂尖的(de)光刻機并不是在(zai)和(he)(he)(he)某一(yi)個國(guo)(guo)家(jia)對(dui)抗(kang)，而是在(zai)和(he)(he)(he)整個西(xi)方世界對(dui)抗(kang)。

這(zhe)就(jiu)好比班(ban)級考(kao)試，考(kao)試的(de)(de)科(ke)目有數百科(ke)。總成績(ji)好點的(de)(de)學生(sheng)固然(ran)能(neng)考(kao)出一(yi)個(ge)比較高(gao)的(de)(de)總成績(ji)，但是這(zhe)個(ge)學生(sheng)不(bu)能(neng)讓自己每一(yi)科(ke)的(de)(de)成績(ji)都達到最高(gao)。和他相比，那些成績(ji)不(bu)好的(de)(de)學生(sheng)雖(sui)然(ran)偏科(ke)，但是他們總有一(yi)兩科(ke)自己擅(shan)長的(de)(de)科(ke)目，這(zhe)些科(ke)目總有得(de)高(gao)分甚至是滿分的(de)(de)機會。這(zhe)些學生(sheng)最好的(de)(de)科(ke)目加(jia)起來，就(jiu)能(neng)組成一(yi)個(ge)非常高(gao)的(de)(de)“各科(ke)總成績(ji)”。

要造出最頂(ding)端的(de)(de)光刻(ke)機，就(jiu)需(xu)要這些科目(mu)每一顆都(dou)得到極(ji)高的(de)(de)分數甚至是滿分。所以(yi)中(zhong)國的(de)(de)光刻(ke)機之(zhi)路并不是突破(po)幾項新技(ji)(ji)術就(jiu)能走(zou)穩、走(zou)好的(de)(de)，中(zhong)國需(xu)要在(zai)整個(ge)光學技(ji)(ji)術上的(de)(de)絕大多數技(ji)(ji)術中(zhong)得到突破(po)，才能以(yi)一個(ge)國家(jia)的(de)(de)科技(ji)(ji)實力(li)對(dui)抗整個(ge)西方社會。

很(hen)多人(ren)疑惑(huo)中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)什么時候能造出(chu)(chu)最頂尖的(de)光刻機，這個(ge)問題(ti)的(de)答案沒(mei)有(you)任何人(ren)能給(gei)出(chu)(chu)來(lai)。中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)在(zai)光刻機領(ling)域(yu)遇(yu)到的(de)困難(nan)，和中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)當年造原(yuan)子彈時，沒(mei)有(you)計算機，沒(mei)有(you)離心機，沒(mei)有(you)數據資料一樣(yang)困難(nan)。當年中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)在(zai)美國(guo)(guo)(guo)造出(chu)(chu)原(yuan)子彈接近(jin)9年后(hou)擁有(you)了自(zi)己的(de)原(yuan)子彈，中(zhong)(zhong)國(guo)(guo)(guo)現在(zai)打算大力研制光刻機也是近(jin)兩年的(de)事(shi)情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是國(guo)際上2005年左右的光刻機最頂尖水平(ping)，差距在15年左右。所以很多人認為(wei)，我國(guo)應該會(hui)在十來年左右達到(dao)(dao)讓(rang)自己的光刻機達到(dao)(dao)國(guo)際社會(hui)的最頂尖水平(ping)。