一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可以做到(dao)90納米工藝。

之(zhi)前有(you)網友爆料(liao)，上海微電(dian)子將于2020年12月下線首臺(tai)采(cai)用ArF光(guang)源的(de)SSA800/10W光(guang)刻機，這是一臺(tai)國產浸沒(mei)式DUV 光(guang)刻機，可實現單次曝光(guang)28nm節點。所以網絡(luo)里(li)一直流(liu)傳著這個說(shuo)法。不過對于此(ci)消息，有(you)人(ren)說(shuo)是真的(de)，有(you)人(ren)說(shuo)是假(jia)的(de)。讓人(ren)很(hen)是迷糊。

上(shang)海(hai)微電子的(de)確(que)在(zai)做(zuo)可(ke)以實現28納(na)米制程的(de)國產DUV光刻機。只(zhi)是(shi)(shi)是(shi)(shi)否通過驗收，到底何時(shi)能交付(fu)，目前未(wei)知。

28納米將會是我(wo)們國(guo)產光(guang)刻機(ji)的(de)(de)最高工藝(yi)水平，嚴格來說，這個真的(de)(de)算不上高水平，它的(de)(de)前面還有(you)14、7、5、3、2，甚至是1nm。

但(dan)是(shi)(shi)28納米是(shi)(shi)成(cheng)熟(shu)工(gong)藝，生產(chan)成(cheng)本低，只要不追求(qiu)極致性(xing)能(neng)的情況下(xia)，這種(zhong)制程(cheng)的芯片，其(qi)性(xing)能(neng)也夠用的，用來生產(chan)我們日常生活中的電(dian)子(zi)設(she)備是(shi)(shi)沒有問題的，例(li)如電(dian)視、電(dian)視盒(he)子(zi)、音響、電(dian)梯、空(kong)調、微波爐、冰箱、汽車等(deng)等(deng)。

另外，根據(ju)研究(jiu)機構IC Insights發布的(de)《2020-2024年(nian)(nian)全球晶圓產能》報告，預計到2024年(nian)(nian)，半導體制(zhi)程格局將出(chu)現10nm以(yi)(yi)下，10-20nm，20nm以(yi)(yi)上工(gong)藝(yi)(yi)(yi)三分(fen)天下的(de)格局，各(ge)自市(shi)場(chang)占有率(lv)約為1/3，而28nm以(yi)(yi)上的(de)成熟工(gong)藝(yi)(yi)(yi)在未來四年(nian)(nian)的(de)市(shi)場(chang)份額沒有明顯變化，仍(reng)然(ran)有很大的(de)市(shi)場(chang)，所(suo)以(yi)(yi)無需盲目地追(zhui)求(qiu)制(zhi)程工(gong)藝(yi)(yi)(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多人(ren)疑(yi)惑，中國是(shi)世界上工業生(sheng)產能力最強的國家，為(wei)什么中國造不(bu)出高端的光刻機(ji)？其實最大(da)的原因就是(shi)中國的工業是(shi)多而(er)不(bu)精。光刻機(ji)并不(bu)是(shi)一項(xiang)技(ji)術的突(tu)破，而(er)是(shi)一整(zheng)個光學領域(yu)絕大(da)多數(shu)技(ji)術的突(tu)破。

目前全(quan)球最頂尖的光刻機接近200噸，由差不多(duo)十萬個零(ling)件(jian)組成。其中絕大多(duo)數(shu)都是核心零(ling)件(jian)，每一個零(ling)件(jian)都需(xu)要(yao)很(hen)多(duo)技術的突破才(cai)能做(zuo)出來。有工程師稱(cheng)，里面(mian)一些(xie)零(ling)件(jian)需(xu)要(yao)打磨十年才(cai)能誕生(sheng)。

雖然最先進的(de)光刻機出自荷蘭，但荷蘭公司(si)也只是(shi)做一(yi)個(ge)組裝和調試的(de)工作，里面(mian)的(de)核(he)心零件來(lai)源于(yu)大多數西方(fang)國(guo)(guo)(guo)家(jia)。從(cong)美(mei)國(guo)(guo)(guo)到英(ying)國(guo)(guo)(guo)，從(cong)法國(guo)(guo)(guo)到比(bi)利時，所有站在(zai)西方(fang)陣營的(de)國(guo)(guo)(guo)家(jia)合(he)在(zai)一(yi)起，才能造出一(yi)臺最頂(ding)(ding)尖的(de)光刻機。所以中國(guo)(guo)(guo)要造最頂(ding)(ding)尖的(de)光刻機并(bing)不是(shi)在(zai)和某(mou)一(yi)個(ge)國(guo)(guo)(guo)家(jia)對抗(kang)，而是(shi)在(zai)和整個(ge)西方(fang)世界(jie)對抗(kang)。

這就好比班級(ji)考(kao)試，考(kao)試的(de)(de)科(ke)目(mu)(mu)(mu)有(you)數(shu)百科(ke)。總成(cheng)績好點的(de)(de)學生(sheng)(sheng)固然(ran)能考(kao)出一個比較(jiao)高的(de)(de)總成(cheng)績，但(dan)是這個學生(sheng)(sheng)不能讓自己每(mei)一科(ke)的(de)(de)成(cheng)績都達(da)到(dao)最高。和(he)他相比，那些(xie)成(cheng)績不好的(de)(de)學生(sheng)(sheng)雖然(ran)偏(pian)科(ke)，但(dan)是他們總有(you)一兩科(ke)自己擅長(chang)的(de)(de)科(ke)目(mu)(mu)(mu)，這些(xie)科(ke)目(mu)(mu)(mu)總有(you)得(de)高分(fen)甚至是滿分(fen)的(de)(de)機會。這些(xie)學生(sheng)(sheng)最好的(de)(de)科(ke)目(mu)(mu)(mu)加起來，就能組成(cheng)一個非(fei)常高的(de)(de)“各科(ke)總成(cheng)績”。

要造出最頂端的光(guang)刻(ke)機，就需(xu)要這些科目每一顆都得到極高的分數甚至是滿分。所以(yi)中國的光(guang)刻(ke)機之路并不是突破幾(ji)項(xiang)新(xin)技(ji)(ji)術(shu)就能(neng)走穩、走好的，中國需(xu)要在整個光(guang)學技(ji)(ji)術(shu)上的絕大多數技(ji)(ji)術(shu)中得到突破，才(cai)能(neng)以(yi)一個國家的科技(ji)(ji)實力(li)對抗整個西方社會。

很多人疑惑中(zhong)國(guo)(guo)什么時候能造出(chu)最頂(ding)尖的光(guang)(guang)刻機(ji)，這(zhe)個問題的答(da)案沒有任何人能給出(chu)來。中(zhong)國(guo)(guo)在(zai)光(guang)(guang)刻機(ji)領(ling)域遇到(dao)的困難(nan)，和中(zhong)國(guo)(guo)當年造原子(zi)彈(dan)時，沒有計算(suan)機(ji)，沒有離心(xin)機(ji)，沒有數據資料一(yi)樣困難(nan)。當年中(zhong)國(guo)(guo)在(zai)美國(guo)(guo)造出(chu)原子(zi)彈(dan)接近9年后擁(yong)有了自(zi)己的原子(zi)彈(dan)，中(zhong)國(guo)(guo)現在(zai)打算(suan)大力(li)研制光(guang)(guang)刻機(ji)也是近兩年的事情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是(shi)國(guo)際上2005年(nian)左右(you)的光刻機(ji)最(zui)頂(ding)尖水平，差(cha)距在(zai)15年(nian)左右(you)。所(suo)以很多人認(ren)為，我(wo)國(guo)應該會在(zai)十來年(nian)左右(you)達(da)到讓自己的光刻機(ji)達(da)到國(guo)際社會的最(zui)頂(ding)尖水平。