2021年7月，江蘇南(nan)大光電材料股份有限公司(si)在官(guan)網(wang)發布最新消(xiao)息，消(xiao)息稱(cheng)其公司(si)旗下(xia)生產的(de)ArF光刻膠獲得了國(guo)外(wai)客戶(hu)的(de)一批訂(ding)單，能(neng)夠在光刻膠領域獲得國(guo)外(wai)訂(ding)單，足(zu)以說明其產品已經達到國(guo)際標準。

首先科普一下(xia)光(guang)(guang)刻膠是什么。光(guang)(guang)刻膠是指在(zai)光(guang)(guang)刻前涂在(zai)硅晶圓上(shang)的材(cai)料(liao)，它是制作芯(xin)片過程中的重(zhong)要(yao)材(cai)料(liao)，按(an)照工(gong)藝水平(ping)可(ke)以分為g線(xian)、i線(xian)、KrF、ArF、EUV合計(ji)5種類(lei)型。

而ArF光刻膠一般用于130nm-14nm，最多(duo)可以用于7nm DUV工藝。而在(zai)ArF光刻膠的(de)(de)(de)市(shi)場(chang)，國(guo)內ArF的(de)(de)(de)自給率僅為5%左右，這個領(ling)域同樣被(bei)日(ri)本(ben)和(he)美(mei)國(guo)所壟斷，而此次(ci)國(guo)內ArF光刻膠的(de)(de)(de)突破意味著中國(guo)在(zai)ArF光刻膠領(ling)域正(zheng)式擺脫(tuo)了美(mei)日(ri)的(de)(de)(de)鉗(qian)制。

芯片領域我(wo)們仍然落(luo)后，但沒有什(shen)么是一定(ding)的。此次南大光電在光刻膠市場上的突破(po)，可以說是為中(zhong)國(guo)半導體(ti)產業的發展奠定(ding)了堅實的基(ji)礎，就這樣一步步的走下去，中(zhong)國(guo)也必將突破(po)芯片領域的技術封鎖。