2021年(nian)7月，江蘇南大光(guang)電材料股(gu)份有限公司在官網發布(bu)最新消息，消息稱其公司旗下生產的ArF光(guang)刻膠(jiao)獲得(de)了國(guo)外(wai)客戶的一批訂(ding)單，能夠(gou)在光(guang)刻膠(jiao)領域(yu)獲得(de)國(guo)外(wai)訂(ding)單，足(zu)以說(shuo)明(ming)其產品已經達到國(guo)際(ji)標(biao)準(zhun)。

首先科(ke)普(pu)一下(xia)光刻(ke)膠(jiao)(jiao)是(shi)什么。光刻(ke)膠(jiao)(jiao)是(shi)指在光刻(ke)前涂在硅(gui)晶圓上的材(cai)(cai)料(liao)，它是(shi)制作芯片過(guo)程(cheng)中的重要(yao)材(cai)(cai)料(liao)，按照工(gong)藝水(shui)平(ping)可以分為g線、i線、KrF、ArF、EUV合(he)計5種類(lei)型。

而ArF光(guang)(guang)刻膠一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工藝(yi)。而在(zai)ArF光(guang)(guang)刻膠的(de)市場，國(guo)(guo)內ArF的(de)自給率(lv)僅為5%左右，這個領域同(tong)樣被日(ri)本(ben)和美國(guo)(guo)所壟斷，而此(ci)次(ci)國(guo)(guo)內ArF光(guang)(guang)刻膠的(de)突破意(yi)味著中國(guo)(guo)在(zai)ArF光(guang)(guang)刻膠領域正式擺脫了(le)美日(ri)的(de)鉗制。

芯(xin)(xin)片(pian)領域我(wo)們仍然(ran)落后，但沒有什么(me)是(shi)一(yi)定(ding)的(de)。此次南大光(guang)電在光(guang)刻膠(jiao)市場上的(de)突破，可以說是(shi)為中(zhong)國半導體(ti)產(chan)業的(de)發展(zhan)奠定(ding)了(le)堅(jian)實的(de)基礎，就這樣一(yi)步步的(de)走下去(qu)，中(zhong)國也(ye)必將(jiang)突破芯(xin)(xin)片(pian)領域的(de)技術封(feng)鎖(suo)。