一、制氫機的結構

制氫機也稱(cheng)吸氫(qing)機，是生產出符合人(ren)體吸入的健康安全的氫(qing)氣。制氫(qing)機一般是由電路(lu)系(xi)統、水(shui)路(lu)系(xi)統、控制系(xi)統、制氫(qing)裝置、氣液分(fen)離裝置等(deng)構(gou)成(cheng)。

1、電路系(xi)統：負責(ze)整個吸氫(qing)機電源正常供應。

2、水(shui)路系統：主體水(shui)箱是儲存制氫所需要的純水(shui)，通過管(guan)道輸送(song)到電解槽完成制氫后再把多余(yu)的水(shui)回(hui)收到水(shui)箱中，循環再用。

3、控制系統：負責吸氫機日(ri)常使用及(ji)異常警報(bao)等功(gong)能。

4、制氫(qing)(qing)裝置：是通過電解純水(shui)產生氫(qing)(qing)氣(qi)與氧氣(qi)，經過質子交(jiao)換膜完成氫(qing)(qing)氧分離。

5、氣液分(fen)(fen)離裝置：在排(pai)出氫氣同時還會附(fu)帶(dai)著(zhu)部(bu)份的(de)水，必須經過氣液分(fen)(fen)離裝置才(cai)能供人體吸入(ru)。

二、制氫機是怎么制氫的

制氫機通過(guo)制(zhi)氫(qing)(qing)(qing)裝置-電(dian)解(jie)槽電(dian)解(jie)純(chun)(chun)水(shui)產(chan)生氫(qing)(qing)(qing)氣。制(zhi)氫(qing)(qing)(qing)機制(zhi)氫(qing)(qing)(qing)原(yuan)理(li)是通過(guo)電(dian)解(jie)純(chun)(chun)水(shui)產(chan)生氫(qing)(qing)(qing)氣與氧氣，經過(guo)質子(zi)交換(huan)膜完(wan)成(cheng)氫(qing)(qing)(qing)氧分(fen)離。整(zheng)個制(zhi)氫(qing)(qing)(qing)過(guo)程(cheng)需(xu)要在(zai)（制(zhi)氫(qing)(qing)(qing)裝置）電(dian)解(jie)槽內(nei)完(wan)成(cheng)。

純水電解化學反應(ying)方程式：2H2O=（電解）=2H2↑+O2↑

去離(li)子(zi)(zi)水（純(chun)水）被供到聚合物薄膜(mo)（質子(zi)(zi)膜(mo)）一電極(ji)組件上，在陽極(ji)側反應(ying)析出(chu)氧氣、氫(qing)(qing)離(li)子(zi)(zi)和電子(zi)(zi)；電子(zi)(zi)通過(guo)電路傳遞到陰極(ji)，氫(qing)(qing)離(li)子(zi)(zi)以水合的形(xing)式（H+XH20）通過(guo)離(li)子(zi)(zi)交換膜(mo)到陰極(ji)；在陰極(ji)，氫(qing)(qing)離(li)子(zi)(zi)和電子(zi)(zi)重新結合形(xing)成(cheng)氫(qing)(qing)氣。

聚合物薄膜電解槽制氫的特(te)點(dian)是：氫離子（H+）在陰、陽極之(zhi)間的電場力(li)作用下穿(chuan)過(guo)離子交換膜。

純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)制氫(qing)是把滿足要(yao)求(qiu)的(de)電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)（電(dian)(dian)(dian)(dian)阻率大于1MΩ/cm，電(dian)(dian)(dian)(dian)子或分(fen)(fen)(fen)析行(xing)業用(yong)的(de)去離(li)子水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)或二次蒸餾(liu)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)皆(jie)可(ke)）送入(ru)電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)槽陽極(ji)(ji)室，通電(dian)(dian)(dian)(dian)后水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)便立(li)刻在(zai)陽極(ji)(ji)分(fen)(fen)(fen)解(jie)：2H2O=4H++2O-2，分(fen)(fen)(fen)解(jie)成(cheng)的(de)負氧(yang)離(li)子（O-2），隨即在(zai)陽極(ji)(ji)放出(chu)電(dian)(dian)(dian)(dian)子，形(xing)成(cheng)氧(yang)氣（O2），從(cong)(cong)陽極(ji)(ji)室排出(chu)，攜帶(dai)部份(fen)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)進入(ru)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)槽，水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)可(ke)循(xun)環使用(yong)，氧(yang)氣從(cong)(cong)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)槽上(shang)蓋小孔放入(ru)大氣。氫(qing)質子以水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)合離(li)子（H+XH2O）的(de)形(xing)式，在(zai)電(dian)(dian)(dian)(dian)場力的(de)作用(yong)下，通過(guo)聚合物薄膜，到達(da)陰極(ji)(ji)吸收(shou)電(dian)(dian)(dian)(dian)子形(xing)成(cheng)氫(qing)氣，從(cong)(cong)陰極(ji)(ji)室排出(chu)后，進入(ru)氣液(ye)分(fen)(fen)(fen)離(li)器，在(zai)此除去從(cong)(cong)電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)槽攜帶(dai)出(chu)的(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)份(fen)，得(de)到的(de)氫(qing)氣純度便在(zai)99.99%以上(shang)。