一、制氫機的結構

制氫機也稱吸(xi)氫(qing)機(ji)，是生產(chan)出符合人體(ti)吸(xi)入(ru)的健康安全的氫(qing)氣(qi)。制氫(qing)機(ji)一般是由電路系統(tong)、水路系統(tong)、控(kong)制系統(tong)、制氫(qing)裝置(zhi)、氣(qi)液分(fen)離裝置(zhi)等構成(cheng)。

1、電路系統：負責(ze)整個吸氫機電源正常(chang)供(gong)應。

2、水路系統(tong)：主體水箱(xiang)是(shi)儲存制氫(qing)所需要(yao)的純水，通過(guo)管道輸送到電解槽完成(cheng)制氫(qing)后再(zai)把多(duo)余的水回(hui)收(shou)到水箱(xiang)中，循(xun)環再(zai)用。

3、控制系統：負責吸(xi)氫機日常使用及異常警報等(deng)功(gong)能。

4、制氫(qing)裝(zhuang)置：是通(tong)過電解純(chun)水產生氫(qing)氣與氧氣，經過質(zhi)子交換膜(mo)完成氫(qing)氧分離。

5、氣(qi)液分離(li)裝置：在排出氫氣(qi)同時還會(hui)附帶(dai)著部份的水，必須經過氣(qi)液分離(li)裝置才能供(gong)人(ren)體吸入。

二、制氫機是怎么制氫的

制氫機通過(guo)制氫(qing)裝置-電解(jie)(jie)槽電解(jie)(jie)純水產生氫(qing)氣。制氫(qing)機(ji)制氫(qing)原理是通過(guo)電解(jie)(jie)純水產生氫(qing)氣與(yu)氧氣，經(jing)過(guo)質子交換膜完成氫(qing)氧分離。整個制氫(qing)過(guo)程需(xu)要在(zai)（制氫(qing)裝置）電解(jie)(jie)槽內完成。

純水電解化學反應方程式：2H2O=（電解）=2H2↑+O2↑

去離(li)子(zi)水(shui)（純水(shui)）被供到(dao)聚合(he)(he)物薄膜（質子(zi)膜）一電極(ji)組件上(shang)，在(zai)(zai)陽極(ji)側反應析出(chu)氧氣、氫離(li)子(zi)和電子(zi)；電子(zi)通(tong)過電路傳遞到(dao)陰極(ji)，氫離(li)子(zi)以水(shui)合(he)(he)的形式（H+XH20）通(tong)過離(li)子(zi)交換膜到(dao)陰極(ji)；在(zai)(zai)陰極(ji)，氫離(li)子(zi)和電子(zi)重新結合(he)(he)形成氫氣。

聚合物薄膜(mo)電(dian)(dian)解槽(cao)制氫的特點是(shi)：氫離(li)子（H+）在陰、陽極之(zhi)間的電(dian)(dian)場力作(zuo)用下穿過離(li)子交換膜(mo)。

純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)電(dian)(dian)解(jie)制氫(qing)是把滿足(zu)要求(qiu)的(de)(de)電(dian)(dian)解(jie)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)（電(dian)(dian)阻率大于(yu)1MΩ/cm，電(dian)(dian)子(zi)(zi)或(huo)分析行(xing)業用(yong)的(de)(de)去離(li)(li)子(zi)(zi)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)或(huo)二次蒸(zheng)餾水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)皆(jie)可）送入(ru)電(dian)(dian)解(jie)槽陽極室(shi)，通(tong)電(dian)(dian)后水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)便(bian)立刻在(zai)陽極分解(jie)：2H2O=4H++2O-2，分解(jie)成的(de)(de)負氧(yang)離(li)(li)子(zi)(zi)（O-2），隨即在(zai)陽極放(fang)(fang)出(chu)電(dian)(dian)子(zi)(zi)，形(xing)成氧(yang)氣(qi)（O2），從(cong)陽極室(shi)排出(chu)，攜帶部份水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)進(jin)入(ru)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)槽，水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)可循環使用(yong)，氧(yang)氣(qi)從(cong)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)槽上蓋小孔(kong)放(fang)(fang)入(ru)大氣(qi)。氫(qing)質子(zi)(zi)以(yi)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)合(he)離(li)(li)子(zi)(zi)（H+XH2O）的(de)(de)形(xing)式，在(zai)電(dian)(dian)場力的(de)(de)作(zuo)用(yong)下，通(tong)過(guo)聚合(he)物(wu)薄膜，到(dao)達陰極吸收電(dian)(dian)子(zi)(zi)形(xing)成氫(qing)氣(qi)，從(cong)陰極室(shi)排出(chu)后，進(jin)入(ru)氣(qi)液分離(li)(li)器(qi)，在(zai)此除去從(cong)電(dian)(dian)解(jie)槽攜帶出(chu)的(de)(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)份，得到(dao)的(de)(de)氫(qing)氣(qi)純度便(bian)在(zai)99.99%以(yi)上。