一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)(de)曝光(guang)光(guang)源分為不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)(de)類型，曝光(guang)光(guang)源從寬譜(pu)紫外線發展(zhan)到I線（365nm）、KrF線（248nm）、ArF線（193nm）以及(ji)EUV（13.5nm）光(guang)源，而不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)(de)光(guang)源要(yao)求使(shi)用不(bu)同(tong)(tong)(tong)的(de)(de)光(guang)刻(ke)膠(jiao)。KrF光(guang)刻(ke)膠(jiao)就是(shi)運用KrF（248nm）曝光(guang)光(guang)源時所需要(yao)的(de)(de)光(guang)刻(ke)膠(jiao)。KrF光(guang)刻(ke)膠(jiao)主要(yao)應用于0.13m以上線寬，包含離(li)子注入(ru)層，抗刻(ke)蝕層等多種工藝中。

二、arf光刻膠是什么

ArF光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)，是(shi)半導(dao)體光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)的(de)一(yi)種，屬于高(gao)(gao)端(duan)光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)產(chan)(chan)品(pin)，用來制造12英寸大硅(gui)片（硅(gui)晶圓(yuan)）。在光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)產(chan)(chan)品(pin)中(zhong)，半導(dao)體光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)技(ji)術壁壘最(zui)高(gao)(gao)；在半導(dao)體光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)產(chan)(chan)品(pin)中(zhong)，ArF光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)是(shi)技(ji)術含量最(zui)高(gao)(gao)的(de)產(chan)(chan)品(pin)之一(yi)。ArF光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)是(shi)第四代光(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)，行業進入(ru)技(ji)術壁壘高(gao)(gao)，全球量產(chan)(chan)企業數(shu)量少。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區別是光刻膠的光(guang)源波(bo)長不(bu)同，其中krf波(bo)長為(wei)248nm，arf波(bo)長為(wei)193nm，arf光(guang)刻膠的分辨率更好，技(ji)術含量(liang)更高。arf和krf都屬于深(shen)紫(zi)外(wai)光(guang)范(fan)疇，也都是duv光(guang)刻機(ji)應(ying)用(yong)光(guang)源，但是光(guang)源技(ji)術上相(xiang)差(cha)一代(dai)。另外(wai)，由于光(guang)源波(bo)長不(bu)同，krf光(guang)刻膠和arf光(guang)刻膠也不(bu)能通(tong)用(yong)。