一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根(gen)據不同(tong)的(de)曝(pu)(pu)(pu)光光源(yuan)(yuan)分為不同(tong)的(de)類型(xing)，曝(pu)(pu)(pu)光光源(yuan)(yuan)從寬譜紫外線發展到I線（365nm）、KrF線（248nm）、ArF線（193nm）以及EUV（13.5nm）光源(yuan)(yuan)，而(er)不同(tong)的(de)光源(yuan)(yuan)要求使用不同(tong)的(de)光刻(ke)(ke)膠(jiao)。KrF光刻(ke)(ke)膠(jiao)就是運用KrF（248nm）曝(pu)(pu)(pu)光光源(yuan)(yuan)時所需(xu)要的(de)光刻(ke)(ke)膠(jiao)。KrF光刻(ke)(ke)膠(jiao)主要應(ying)用于0.13m以上線寬，包含離子注入(ru)層(ceng)，抗刻(ke)(ke)蝕層(ceng)等多種工(gong)藝中。

二、arf光刻膠是什么

ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠，是半(ban)導體光(guang)刻(ke)(ke)膠的一種，屬于高端光(guang)刻(ke)(ke)膠產(chan)(chan)品，用來制造12英寸大(da)硅(gui)片（硅(gui)晶圓(yuan)）。在(zai)光(guang)刻(ke)(ke)膠產(chan)(chan)品中(zhong)，半(ban)導體光(guang)刻(ke)(ke)膠技術壁壘最(zui)高；在(zai)半(ban)導體光(guang)刻(ke)(ke)膠產(chan)(chan)品中(zhong)，ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠是技術含(han)量最(zui)高的產(chan)(chan)品之一。ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠是第四代光(guang)刻(ke)(ke)膠，行業進入(ru)技術壁壘高，全球(qiu)量產(chan)(chan)企(qi)業數量少。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區別是光刻膠的光(guang)(guang)源波長(chang)(chang)不(bu)同(tong)，其中(zhong)krf波長(chang)(chang)為248nm，arf波長(chang)(chang)為193nm，arf光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的分辨率(lv)更好，技術含量更高(gao)。arf和krf都屬于深(shen)紫外(wai)光(guang)(guang)范疇(chou)，也(ye)都是duv光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)應用光(guang)(guang)源，但是光(guang)(guang)源技術上(shang)相(xiang)差(cha)一代。另外(wai)，由于光(guang)(guang)源波長(chang)(chang)不(bu)同(tong)，krf光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)和arf光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)也(ye)不(bu)能通用。