一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據不同(tong)的曝(pu)(pu)光光源(yuan)分(fen)為不同(tong)的類型，曝(pu)(pu)光光源(yuan)從(cong)寬譜紫外(wai)線(xian)(xian)發展(zhan)到I線(xian)(xian)（365nm）、KrF線(xian)(xian)（248nm）、ArF線(xian)(xian)（193nm）以(yi)及EUV（13.5nm）光源(yuan)，而(er)不同(tong)的光源(yuan)要求使用(yong)不同(tong)的光刻(ke)(ke)膠。KrF光刻(ke)(ke)膠就是運(yun)用(yong)KrF（248nm）曝(pu)(pu)光光源(yuan)時所需要的光刻(ke)(ke)膠。KrF光刻(ke)(ke)膠主(zhu)要應(ying)用(yong)于0.13m以(yi)上線(xian)(xian)寬，包含離(li)子注入層，抗刻(ke)(ke)蝕層等(deng)多種工藝中。

二、arf光刻膠是什么

ArF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)，是半導體光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)的一種，屬于(yu)高(gao)端光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)，用來(lai)制造12英寸大硅片(pian)（硅晶圓）。在(zai)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)中(zhong)，半導體光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)技(ji)術壁壘最高(gao)；在(zai)半導體光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)中(zhong)，ArF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)是技(ji)術含量(liang)最高(gao)的產(chan)品(pin)之(zhi)一。ArF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)是第四(si)代(dai)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)，行業(ye)進入技(ji)術壁壘高(gao)，全球量(liang)產(chan)企業(ye)數量(liang)少。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區別是光刻膠的光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)波(bo)(bo)長(chang)(chang)不同，其中krf波(bo)(bo)長(chang)(chang)為(wei)248nm，arf波(bo)(bo)長(chang)(chang)為(wei)193nm，arf光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的分(fen)辨率更(geng)好，技(ji)術含(han)量更(geng)高。arf和(he)krf都屬(shu)于深紫外光(guang)(guang)(guang)范疇，也都是(shi)duv光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機應用光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)，但是(shi)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)技(ji)術上相差一代。另外，由于光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)波(bo)(bo)長(chang)(chang)不同，krf光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)和(he)arf光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)也不能(neng)通用。