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光刻膠的組成成分有哪些 光刻膠的原理

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-17 評論 0
摘要:光刻膠又稱光致抗蝕劑,在光刻工藝中,用作防腐蝕涂層材料。目前光刻膠廣泛用于光電信息產業的微細圖形線路加工制作,是電子制造領域關鍵材料。光刻膠由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成,其原理包括光敏性原理、光學成像原理。

一、光刻膠的組成成分有哪些

光刻膠主要由感光(guang)劑(ji)(光(guang)引發(fa)劑(ji))、聚合劑(ji)(感光(guang)樹脂)、溶劑(ji)與助劑(ji)構成。

1、光引發劑是光刻(ke)膠的最關(guan)鍵成分(fen)(fen),對(dui)光刻(ke)膠的感光度、分(fen)(fen)辨率起著(zhu)決定(ding)性作用。

2、感光(guang)樹脂用(yong)于將光(guang)刻(ke)膠(jiao)中(zhong)不(bu)同材料聚合在(zai)一起,是(shi)構成光(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)骨(gu)架,決定(ding)光(guang)刻(ke)膠(jiao)包括硬度、柔韌(ren)性、附著力等基(ji)本屬性。

3、溶(rong)(rong)劑是(shi)光刻(ke)(ke)膠中最大成分,目的(de)是(shi)使光刻(ke)(ke)膠處于液態,但溶(rong)(rong)劑本身(shen)對(dui)光刻(ke)(ke)膠的(de)化學(xue)性(xing)質幾(ji)乎沒影(ying)響。

4、助(zhu)劑通常是專有化合(he)物,由各家廠(chang)商獨自(zi)研發,主要用來改變光刻膠特定化學性質。

二、光刻膠的原理

1、光敏性原理

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)基本原理是光(guang)(guang)(guang)敏材料暴露在紫(zi)外(wai)線(xian)(xian)下,光(guang)(guang)(guang)線(xian)(xian)將光(guang)(guang)(guang)敏材料中(zhong)的(de)分子激活,使(shi)其發生化學反(fan)應,使(shi)光(guang)(guang)(guang)敏膠(jiao)發生預設的(de)變化。根據光(guang)(guang)(guang)線(xian)(xian)能(neng)量的(de)不同,光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)可分為(wei)UV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)和深紫(zi)外(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)。UV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)用于制(zhi)造精度(du)要求低(di)的(de)電(dian)子元件,而深紫(zi)外(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)則用于制(zhi)造更微小的(de)元器件。

2、光學成像原理

光刻膠是通過光學成像原理來實現預期的紋理結構。當光照射在光刻膠表面時,會通過(guo)掩膜上的(de)白色(se)區域透過(guo)黑色(se)區域,達到將圖(tu)案映(ying)射到光(guang)刻膠上的(de)目(mu)的(de)。通過(guo)開(kai)發過(guo)程(cheng),只剩下光(guang)刻膠上所需(xu)的(de)微型器件的(de)部分(fen)區域,即可(ke)形成要制造的(de)微型器件。

3、選擇適合的溶劑

光刻膠的(de)(de)成分包括光敏(min)材料、單體、溶(rong)劑(ji)和(he)劑(ji)量。反(fan)應關鍵因(yin)素之一(yi)是選擇(ze)適合(he)系統的(de)(de)溶(rong)劑(ji),溶(rong)劑(ji)是優(you)化反(fan)應速率和(he)接觸(chu)角的(de)(de)關鍵因(yin)素。正(zheng)確(que)的(de)(de)溶(rong)劑(ji)選擇(ze)可確(que)保強(qiang)大的(de)(de)粘(zhan)附力和(he)最小的(de)(de)溶(rong)液浸透(tou)時間(jian)。

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