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光刻膠的組成成分有哪些 光刻膠的原理

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-17 評論 0
摘要:光刻膠又稱光致抗蝕劑,在光刻工藝中,用作防腐蝕涂層材料。目前光刻膠廣泛用于光電信息產業的微細圖形線路加工制作,是電子制造領域關鍵材料。光刻膠由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成,其原理包括光敏性原理、光學成像原理。

一、光刻膠的組成成分有哪些

光刻膠主要由感光劑(光引發劑)、聚(ju)合(he)劑(感光樹脂)、溶(rong)劑與助劑構成。

1、光(guang)(guang)引發劑是光(guang)(guang)刻(ke)膠的最關鍵成分,對光(guang)(guang)刻(ke)膠的感光(guang)(guang)度、分辨率起著決定性作用。

2、感光樹脂用于將(jiang)光刻膠(jiao)(jiao)中不(bu)同(tong)材料聚(ju)合在一起,是構成光刻膠(jiao)(jiao)的骨架,決(jue)定光刻膠(jiao)(jiao)包括硬(ying)度、柔韌性、附(fu)著力等(deng)基本屬性。

3、溶劑是光刻膠(jiao)中(zhong)最大成分,目的(de)是使光刻膠(jiao)處于(yu)液態,但(dan)溶劑本(ben)身(shen)對(dui)光刻膠(jiao)的(de)化(hua)學性質幾乎沒影響。

4、助(zhu)劑通常是專有化(hua)(hua)合(he)物,由各家廠(chang)商獨自研發,主要用來改變光刻膠(jiao)特(te)定化(hua)(hua)學性質。

二、光刻膠的原理

1、光敏性原理

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)基(ji)本原理是光(guang)(guang)(guang)敏材料暴露在紫(zi)(zi)外(wai)線下,光(guang)(guang)(guang)線將光(guang)(guang)(guang)敏材料中的(de)分子激活,使(shi)(shi)其發生化(hua)學反(fan)應,使(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)敏膠(jiao)(jiao)發生預設的(de)變化(hua)。根據光(guang)(guang)(guang)線能量(liang)的(de)不同,光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)可分為UV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)和深紫(zi)(zi)外(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)。UV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)用于(yu)制(zhi)造精(jing)度(du)要求低的(de)電子元(yuan)(yuan)件,而深紫(zi)(zi)外(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)則用于(yu)制(zhi)造更微小的(de)元(yuan)(yuan)器件。

2、光學成像原理

光刻膠是通過光學成像原理來實現預期的紋理結構。當光照射在光刻膠表面時,會(hui)通過(guo)掩(yan)膜上(shang)的(de)白色(se)區(qu)域(yu)透過(guo)黑色(se)區(qu)域(yu),達到將圖案(an)映射到光(guang)(guang)刻膠(jiao)上(shang)的(de)目的(de)。通過(guo)開發過(guo)程,只剩下光(guang)(guang)刻膠(jiao)上(shang)所需的(de)微型(xing)器件的(de)部分區(qu)域(yu),即可形成(cheng)要制造的(de)微型(xing)器件。

3、選擇適合的溶劑

光刻膠(jiao)的(de)成分包括(kuo)光敏材(cai)料(liao)、單體、溶劑(ji)和(he)劑(ji)量(liang)。反應關鍵(jian)因素(su)之一是選擇(ze)適合系統(tong)的(de)溶劑(ji),溶劑(ji)是優化(hua)反應速率和(he)接觸角的(de)關鍵(jian)因素(su)。正(zheng)確的(de)溶劑(ji)選擇(ze)可確保強大的(de)粘附力和(he)最小的(de)溶液浸(jin)透時間。

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