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光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲存注意事項

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:光刻膠在半導體領域應用廣泛,是半導體產業生產最關鍵的材料之一。光刻膠是光刻過程最重要的耗材,光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時要特別注意避光、防潮、低溫。下面來了解下光刻膠使用和儲存注意事項。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應存放在低溫環境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受熱變質。同時,光(guang)刻膠在存放和使用過程中應避(bi)免受到(dao)溫度變化的影響,以免影響其性(xing)能(neng)和質量。

2、光照:光刻膠應避免直接暴露在強光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存放和使用光刻膠時(shi),應盡量避免(mian)光照,可以使用黑色(se)遮光袋(dai)或黑色(se)遮光箱進行保護。

3、濕度:光刻膠應存放在干燥的環境中,避免受潮。因為潮濕的環境會影響光刻膠的性能和質量,甚至會導(dao)致光(guang)刻膠(jiao)失(shi)效。因此,在存放(fang)和使用光(guang)刻膠(jiao)時,應盡量避(bi)免受(shou)潮(chao),可以使用密(mi)封(feng)袋或密(mi)封(feng)容器(qi)進行(xing)保護。

4、震動:光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,以免影響其性能和質量。因此,在存放和使(shi)用光(guang)刻膠時,應(ying)盡量(liang)避免受到震(zhen)動和振動,可以使(shi)用泡沫箱或其他緩沖材料進行保(bao)護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光刻(ke)膠中的(de)光敏組(zu)分是(shi)非常脆弱的(de),除了有溫(wen)度的(de)要(yao)求外,對于儲存時間和外包裝材(cai)料有很(hen)嚴(yan)格的(de)要(yao)求。一般使用棕色的(de)玻璃瓶包裝,再套上黑色塑料袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此(ci),在存(cun)放和使(shi)用光(guang)刻膠(jiao)時,應注意光(guang)刻膠(jiao)的保存(cun)期限,避免使(shi)用過期光(guang)刻膠(jiao)。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻(ke)膠(jiao)涂布(bu)溫度一(yi)(yi)(yi)般為23度(du)(du)。一(yi)(yi)(yi)般在旋涂的情況下,高于會中(zhong)間厚,低于會中(zhong)間薄。同時涂布(bu)前(qian),wafer也需要(yao)冷板,保證每次涂布(bu)wafer的溫度(du)(du)一(yi)(yi)(yi)致。

3、涂布時濕度的控制

現(xian)在(zai)光刻膠涂覆工段(duan)一(yi)般(ban)都(dou)與自動(dong)純水清洗線連在(zai)一(yi)起,很多時(shi)候都(dou)只考慮(lv)此段(duan)的潔凈度,而疏(shu)忽了該段(duan)的濕度控制,使得光刻膠涂覆的良(liang)品率比較低,在(zai)顯影(ying)時(shi)光刻膠脫落嚴重,起不到保護阻蝕(shi)的效果。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在(zai)生產(chan)設備出現故障等特殊情況下(xia),涂完光(guang)刻膠(jiao)的(de)(de)產(chan)品(pin)需要保留,保留的(de)(de)時(shi)間一般(ban)不超過8小時(shi),曝光(guang)前如已被感(即膠(jiao)膜已失效),不能作為正品(pin),需返工處理。

5、前烘溫度和時間的控制

前烘(hong)的(de)目(mu)的(de)是促使(shi)膠(jiao)膜(mo)內溶劑充分揮發(fa),使(shi)膠(jiao)膜(mo)干(gan)(gan)燥(zao)以增(zeng)強(qiang)膠(jiao)膜(mo)與(yu)基(ji)板表面(mian)的(de)粘附性和膠(jiao)膜(mo)的(de)耐磨性。曝光(guang)時(shi),掩模版與(yu)光(guang)刻膠(jiao)即使(shi)接觸也不(bu)會(hui)損傷光(guang)刻膠(jiao)膜(mo)和沾污掩模膜(mo),同時(shi)只有光(guang)刻膠(jiao)干(gan)(gan)凈(jing)、在曝光(guang)時(shi),光(guang)刻膠(jiao)才能(neng)(neng)充分地和光(guang)發(fa)生反(fan)應。同時(shi)注意前烘(hong)的(de)溫度(du)不(bu)能(neng)(neng)過(guo)高,過(guo)高會(hui)造(zao)成(cheng)光(guang)刻膠(jiao)膜(mo)的(de)碳化,從(cong)而影響光(guang)刻效果。一(yi)般情況(kuang)下,前烘(hong)的(de)溫度(du)取值比(bi)后烘(hong)堅膜(mo)溫度(du)稍(shao)低一(yi)些,時(shi)間稍(shao)短一(yi)些。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時間直接影響的速度,若顯影時間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不(bu)能夠(gou)完(wan)全溶解,留有一層光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao),在刻(ke)(ke)蝕(shi)時(shi),這層膠(jiao)(jiao)會對膜(mo)(mo)面(mian)進行保護作用,使(shi)應該(gai)刻(ke)(ke)蝕(shi)的膜(mo)(mo)留下來(lai)。若顯影(ying)時(shi)間過長或溫度過高,顯影(ying)時(shi)未(wei)被(bei)曝光(guang)部位的光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)也(ye)會被(bei)從邊緣里鉆(zhan)溶。使(shi)圖(tu)案的邊緣變(bian)差,再嚴重會使(shi)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)大量(liang)脫落,形成(cheng)脫膠(jiao)(jiao)。

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