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光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲存注意事項

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:光刻膠在半導體領域應用廣泛,是半導體產業生產最關鍵的材料之一。光刻膠是光刻過程最重要的耗材,光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時要特別注意避光、防潮、低溫。下面來了解下光刻膠使用和儲存注意事項。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應存放在低溫環境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受熱變質。同時,光(guang)刻膠在存放(fang)和使用過程中應避免(mian)受到溫度(du)變化的(de)影(ying)響,以(yi)免(mian)影(ying)響其性能(neng)和(he)質量。

2、光照:光刻膠應避免直接暴露在強光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存放(fang)和使用光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)時,應盡(jin)量(liang)避免(mian)光(guang)(guang)(guang)(guang)照,可(ke)以使用黑色遮(zhe)(zhe)光(guang)(guang)(guang)(guang)袋或(huo)黑色遮(zhe)(zhe)光(guang)(guang)(guang)(guang)箱進行保護。

3、濕度:光刻膠應存放在干燥的環境中,避免受潮。因為潮濕的環境會影響光刻膠的性能和質(zhi)量,甚至(zhi)會導致光(guang)刻膠(jiao)失(shi)效。因此,在(zai)存放和使(shi)用光(guang)刻膠(jiao)時,應(ying)盡量避免(mian)受潮,可(ke)以使用密(mi)封袋或密(mi)封容器進行保護(hu)。

4、震動:光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,以免影響其性能和質量。因此,在存放和使(shi)用(yong)光刻膠(jiao)時,應(ying)盡量避免受到震動和振動,可(ke)以(yi)使(shi)用(yong)泡沫箱或其他緩沖材(cai)料進行保護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光(guang)刻膠中(zhong)的(de)(de)光(guang)敏組分是非(fei)常脆(cui)弱的(de)(de),除(chu)了有溫度的(de)(de)要(yao)求外(wai),對于儲存時間和外(wai)包裝材料有很嚴格的(de)(de)要(yao)求。一般(ban)使用棕(zong)色(se)的(de)(de)玻璃瓶包裝,再(zai)套上黑色(se)塑(su)料袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此,在存放和使(shi)用光(guang)刻(ke)膠時,應注意光(guang)刻(ke)膠的保存期(qi)限,避免(mian)使(shi)用過期(qi)光(guang)刻(ke)膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻(ke)膠涂布溫度一般為(wei)23度(du)。一般在旋涂(tu)的(de)情況下(xia),高于會中間(jian)厚,低(di)于會中間(jian)薄。同時涂(tu)布前,wafer也需要冷板(ban),保(bao)證(zheng)每(mei)次涂(tu)布wafer的(de)溫(wen)度(du)一致(zhi)。

3、涂布時濕度的控制

現在光刻膠(jiao)涂(tu)(tu)覆工(gong)段一般都與自動純水清(qing)洗線連(lian)在一起,很多時候都只考慮此段的(de)(de)潔凈(jing)度,而疏忽(hu)了該段的(de)(de)濕度控制,使得光刻膠(jiao)涂(tu)(tu)覆的(de)(de)良(liang)品率比較低,在顯影(ying)時光刻膠(jiao)脫落嚴重,起不到保護阻(zu)蝕的(de)(de)效果(guo)。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在生產設備出現故(gu)障(zhang)等(deng)特殊情況下,涂完光(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)產品(pin)需(xu)要保留,保留的(de)時(shi)間一般不超過8小時(shi),曝光(guang)前如已被感(gan)(即膠(jiao)膜已失效),不能(neng)作為正品(pin),需(xu)返工處(chu)理(li)。

5、前烘溫度和時間的控制

前烘(hong)(hong)(hong)的(de)目的(de)是(shi)促使(shi)膠(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)內溶(rong)劑充分(fen)揮發(fa),使(shi)膠(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)干燥以(yi)增強膠(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)與(yu)基板表(biao)面的(de)粘附(fu)性(xing)和(he)膠(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)耐磨(mo)性(xing)。曝光(guang)(guang)(guang)時,掩模版與(yu)光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)即(ji)使(shi)接觸也不會損傷光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)和(he)沾污掩模膜(mo)(mo)(mo)(mo),同時只(zhi)有光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)干凈、在曝光(guang)(guang)(guang)時,光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)才(cai)能充分(fen)地和(he)光(guang)(guang)(guang)發(fa)生反應。同時注意前烘(hong)(hong)(hong)的(de)溫(wen)(wen)度不能過高,過高會造(zao)成光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)碳化,從(cong)而影響光(guang)(guang)(guang)刻效果。一般(ban)情況下,前烘(hong)(hong)(hong)的(de)溫(wen)(wen)度取值比后(hou)烘(hong)(hong)(hong)堅膜(mo)(mo)(mo)(mo)溫(wen)(wen)度稍低一些(xie)(xie),時間稍短一些(xie)(xie)。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時間直接影響的速度,若顯影時間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解,留(liu)有(you)一層光刻膠(jiao),在刻蝕時(shi),這層膠(jiao)會對(dui)膜(mo)面進行保護作用,使(shi)應該刻蝕的(de)膜(mo)留(liu)下來。若顯影(ying)(ying)時(shi)間(jian)過長或溫(wen)度過高,顯影(ying)(ying)時(shi)未被(bei)曝(pu)光部位的(de)光刻膠(jiao)也會被(bei)從邊緣里鉆溶。使(shi)圖案的(de)邊緣變差,再嚴重會使(shi)光刻膠(jiao)大量脫落,形成脫膠(jiao)。

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