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光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲存注意事項

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:光刻膠在半導體領域應用廣泛,是半導體產業生產最關鍵的材料之一。光刻膠是光刻過程最重要的耗材,光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時要特別注意避光、防潮、低溫。下面來了解下光刻膠使用和儲存注意事項。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應存放在低溫環境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受熱變質(zhi)。同(tong)時,光刻(ke)膠在存放和使用(yong)過(guo)程(cheng)中應(ying)避免(mian)受到溫(wen)度變化的影響,以(yi)免(mian)影響其(qi)性能和質(zhi)量。

2、光照:光刻膠應避免直接暴露在強光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存(cun)放和(he)使(shi)用(yong)光(guang)刻膠時,應(ying)盡量避免光(guang)照,可以使(shi)用(yong)黑色遮光(guang)袋(dai)或黑色遮光(guang)箱進行(xing)保(bao)護。

3、濕度:光刻膠應存放在干燥的環境中,避免受潮。因為潮濕的環境會影響光刻膠的性能和質量,甚至會導(dao)致光(guang)刻膠(jiao)失效(xiao)。因此,在(zai)存(cun)放和使用(yong)光(guang)刻膠(jiao)時(shi),應盡量避免受潮,可以使用密封(feng)袋或密封(feng)容器進行(xing)保護。

4、震動:光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,以免影響其性能和質量。因此,在存放和使(shi)用光(guang)刻膠時,應(ying)盡量避(bi)免受到震動(dong)和振(zhen)動(dong),可以使(shi)用泡沫箱或其他緩(huan)沖材料(liao)進行保護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光刻(ke)膠(jiao)中的(de)光敏(min)組(zu)分(fen)是非常(chang)脆弱的(de),除了有溫度的(de)要求外,對于儲存時間和外包裝(zhuang)材(cai)料有很嚴格的(de)要求。一般(ban)使(shi)用棕色(se)的(de)玻璃瓶(ping)包裝(zhuang),再套上黑色(se)塑料袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此,在(zai)存(cun)放和(he)使(shi)(shi)用(yong)光(guang)刻(ke)(ke)膠時,應注(zhu)意(yi)光(guang)刻(ke)(ke)膠的(de)保存(cun)期限,避免使(shi)(shi)用(yong)過期光(guang)刻(ke)(ke)膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻膠涂布(bu)溫度一般(ban)為23度。一般(ban)在旋涂的情況下,高(gao)于會中間(jian)厚(hou),低于會中間(jian)薄(bo)。同時涂布前,wafer也需要冷(leng)板,保(bao)證每次涂布wafer的溫度一致。

3、涂布時濕度的控制

現在光刻膠涂(tu)(tu)覆(fu)工段一(yi)般都與自動純水清洗線(xian)連在一(yi)起(qi),很多時(shi)候都只考慮此(ci)段的(de)潔凈度(du),而疏忽了該段的(de)濕度(du)控(kong)制,使得光刻膠涂(tu)(tu)覆(fu)的(de)良品率比(bi)較(jiao)低,在顯影時(shi)光刻膠脫落(luo)嚴重(zhong),起(qi)不到保護阻蝕的(de)效果。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在生產設備出現故(gu)障等特殊情況下,涂完光刻膠的產品(pin)需要(yao)保留,保留的時(shi)(shi)間(jian)一(yi)般(ban)不超(chao)過(guo)8小(xiao)時(shi)(shi),曝光前如已被感(即(ji)膠膜已失效),不能作為正品(pin),需返工(gong)處理(li)。

5、前烘溫度和時間的控制

前烘(hong)(hong)的(de)目的(de)是促使(shi)膠膜內溶劑充(chong)分(fen)揮發,使(shi)膠膜干(gan)燥(zao)以增強膠膜與(yu)基板表面的(de)粘(zhan)附性和(he)膠膜的(de)耐磨(mo)性。曝光(guang)(guang)(guang)時,掩模版與(yu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠即使(shi)接觸也不(bu)會損傷光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠膜和(he)沾污掩模膜,同時只有光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠干(gan)凈(jing)、在曝光(guang)(guang)(guang)時,光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠才能(neng)充(chong)分(fen)地和(he)光(guang)(guang)(guang)發生反應。同時注(zhu)意前烘(hong)(hong)的(de)溫(wen)度不(bu)能(neng)過(guo)高,過(guo)高會造成光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠膜的(de)碳化,從而影響光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)效果。一般情況(kuang)下,前烘(hong)(hong)的(de)溫(wen)度取值比(bi)后烘(hong)(hong)堅膜溫(wen)度稍低(di)一些,時間稍短一些。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時間直接影響的速度,若顯影時間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解,留有一層(ceng)光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao),在(zai)刻(ke)(ke)蝕(shi)時,這層(ceng)膠(jiao)(jiao)(jiao)會(hui)對膜面進行保護作用(yong),使(shi)應該刻(ke)(ke)蝕(shi)的膜留下來(lai)。若顯影(ying)(ying)時間(jian)過長或溫度(du)過高,顯影(ying)(ying)時未(wei)被(bei)曝光部位的光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)也會(hui)被(bei)從邊(bian)緣里鉆溶。使(shi)圖案(an)的邊(bian)緣變差,再嚴重會(hui)使(shi)光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)大量脫(tuo)落,形成脫(tuo)膠(jiao)(jiao)(jiao)。

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