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光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲存注意事項

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:光刻膠在半導體領域應用廣泛,是半導體產業生產最關鍵的材料之一。光刻膠是光刻過程最重要的耗材,光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時要特別注意避光、防潮、低溫。下面來了解下光刻膠使用和儲存注意事項。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應存放在低溫環境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受熱變質(zhi)。同時,光刻膠在(zai)存放和(he)使用過程中應避免受到溫度(du)變化(hua)的影響(xiang),以免影響(xiang)其性能和質量(liang)。

2、光照:光刻膠應避免直接暴露在強光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存放和使(shi)用光刻膠時,應盡量(liang)避免(mian)光照,可以使(shi)用黑色遮光袋或黑色遮光箱進行保護。

3、濕度:光刻膠應存放在干燥的環境中,避免受潮。因為潮濕的環境會影響光刻膠的性能和質量(liang),甚至會(hui)導致光(guang)刻膠失效(xiao)。因(yin)此,在存放和使用光(guang)刻膠時,應盡(jin)量(liang)避免受潮,可以使用密封(feng)(feng)袋或密封(feng)(feng)容器進行保護。

4、震動:光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,以免影響其性能和質量。因此,在存放和使用光刻(ke)膠時,應(ying)盡量避免(mian)受到震動(dong)和振動(dong),可以使用泡沫箱或其(qi)他緩沖材(cai)料進行保護。

二、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光刻膠中的(de)(de)光敏組分(fen)是(shi)非常(chang)脆(cui)弱的(de)(de),除了有溫度的(de)(de)要(yao)求(qiu)外,對于儲存時間和(he)外包(bao)裝(zhuang)材料(liao)有很(hen)嚴格的(de)(de)要(yao)求(qiu)。一(yi)般使用棕色(se)的(de)(de)玻(bo)璃瓶包(bao)裝(zhuang),再套上黑色(se)塑料(liao)袋。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此,在存放和使用光刻(ke)(ke)膠時,應注(zhu)意光刻(ke)(ke)膠的保存期限,避免使用過(guo)期光刻(ke)(ke)膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻膠涂(tu)布溫度一般(ban)為23度。一般(ban)在(zai)旋涂的(de)情況下,高于會(hui)中(zhong)間厚,低于會(hui)中(zhong)間薄。同時涂布(bu)前,wafer也(ye)需(xu)要(yao)冷板,保(bao)證每次(ci)涂布(bu)wafer的(de)溫(wen)度一致。

3、涂布時濕度的控制

現在光刻膠(jiao)涂覆工(gong)段一(yi)般都與(yu)自動(dong)純水清洗線連在一(yi)起(qi),很多時候都只考慮此段的潔凈度(du),而疏忽了(le)該段的濕度(du)控制,使得光刻膠(jiao)涂覆的良品率比較低,在顯影時光刻膠(jiao)脫(tuo)落嚴重,起(qi)不到保護阻蝕的效果(guo)。

4、涂膠后產品的放置時間的控制

在生(sheng)產(chan)(chan)設備出(chu)現故障等特殊情況(kuang)下,涂(tu)完光(guang)刻膠的產(chan)(chan)品(pin)需要保留,保留的時(shi)間一般不(bu)超過8小時(shi),曝光(guang)前如(ru)已被(bei)感(即膠膜已失效),不(bu)能作為正品(pin),需返(fan)工處(chu)理。

5、前烘溫度和時間的控制

前(qian)烘(hong)(hong)的(de)(de)目的(de)(de)是促使膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)內溶劑(ji)充分揮發,使膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)干燥以增強膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)與(yu)(yu)基(ji)板表(biao)面的(de)(de)粘附(fu)性(xing)和(he)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)的(de)(de)耐磨性(xing)。曝光(guang)(guang)(guang)時,掩模版與(yu)(yu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)即(ji)使接觸也(ye)不(bu)會損(sun)傷(shang)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)和(he)沾污掩模膜(mo)(mo),同時只有光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)干凈、在曝光(guang)(guang)(guang)時,光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)才(cai)能充分地和(he)光(guang)(guang)(guang)發生反應(ying)。同時注(zhu)意前(qian)烘(hong)(hong)的(de)(de)溫度不(bu)能過高(gao),過高(gao)會造成光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)的(de)(de)碳(tan)化(hua),從而影響(xiang)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)效(xiao)果。一(yi)(yi)般(ban)情況下,前(qian)烘(hong)(hong)的(de)(de)溫度取值比后烘(hong)(hong)堅膜(mo)(mo)溫度稍(shao)低一(yi)(yi)些,時間(jian)稍(shao)短一(yi)(yi)些。

6、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時間直接影響的速度,若顯影時間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不能夠(gou)完全溶解,留(liu)(liu)有(you)一層(ceng)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao),在刻(ke)蝕時(shi)(shi),這層(ceng)膠(jiao)(jiao)會(hui)對膜面(mian)進行保護作用,使應(ying)該刻(ke)蝕的膜留(liu)(liu)下來。若顯影時(shi)(shi)間過長(chang)或溫(wen)度過高,顯影時(shi)(shi)未(wei)被曝(pu)光(guang)部位的光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)也(ye)會(hui)被從邊(bian)(bian)緣(yuan)里鉆溶。使圖案的邊(bian)(bian)緣(yuan)變差,再嚴重會(hui)使光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)大量脫落,形成脫膠(jiao)(jiao)。

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