一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光(guang)刻膠(jiao)是微(wei)電子技術中微(wei)細圖形(xing)加工的(de)(de)關(guan)鍵(jian)材料之一，特別是近年來(lai)大(da)規模(mo)和(he)超大(da)規模(mo)集成電路的(de)(de)發展，更(geng)是大(da)大(da)促進(jin)了光(guang)刻膠(jiao)的(de)(de)研究開發和(he)應用。而光(guang)(guang)刻機是制(zhi)(zhi)造芯(xin)片(pian)的核心裝備，采(cai)用類似(si)照片(pian)沖印(yin)(yin)的技術，把掩(yan)膜版上(shang)的精(jing)細圖形通過光(guang)(guang)線(xian)的曝(pu)光(guang)(guang)印(yin)(yin)制(zhi)(zhi)到硅片(pian)上(shang)。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用(yong)特殊光(guang)線將集成電路映(ying)射到(dao)硅片(pian)(pian)(pian)表面，并要(yao)避免在硅片(pian)(pian)(pian)表面留下痕跡，需要(yao)在硅片(pian)(pian)(pian)表面涂上一層特殊的物質：光(guang)刻(ke)膠。

光刻(ke)機和光刻(ke)膠(jiao)的關系就是：光刻(ke)機在(zai)晶(jing)圓(yuan)上用光源畫電路圖的時候，不直接畫圖，需要在(zai)晶(jing)圓(yuan)上涂抹一層液態的光刻(ke)膠(jiao)，光刻(ke)膠(jiao)干燥后(hou)形成膠(jiao)膜，光刻(ke)機才開(kai)始畫圖作業(ye)。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在芯片、面(mian)板、模(mo)擬半導體、發(fa)光二極管及光子器件上都得(de)到了廣(guang)泛應用。