一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻(ke)膠(jiao)是(shi)微電子技術中微細圖(tu)形加(jia)工的(de)(de)關鍵材(cai)料之一，特別是(shi)近年來大規模(mo)和(he)超大規模(mo)集成電路的(de)(de)發(fa)展，更(geng)是(shi)大大促進了光刻(ke)膠(jiao)的(de)(de)研究開(kai)發(fa)和(he)應用。而光(guang)刻(ke)機是制造芯片的(de)核心裝備，采用類似照片沖印(yin)(yin)的(de)技術，把掩膜(mo)版上的(de)精細圖形通過光(guang)線的(de)曝(pu)光(guang)印(yin)(yin)制到硅片上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用特殊(shu)光線將集(ji)成電(dian)路映射到(dao)硅(gui)片(pian)表(biao)(biao)面，并要避(bi)免在硅(gui)片(pian)表(biao)(biao)面留下痕(hen)跡(ji)，需要在硅(gui)片(pian)表(biao)(biao)面涂上一(yi)層特殊(shu)的(de)物質：光刻膠。

光刻機和光刻膠的(de)關系就是：光刻機在晶(jing)圓(yuan)上用光源畫(hua)電路圖的(de)時(shi)候(hou)，不(bu)直接(jie)畫(hua)圖，需要在晶(jing)圓(yuan)上涂抹一層液態的(de)光刻膠，光刻膠干(gan)燥(zao)后形成(cheng)膠膜，光刻機才開始畫(hua)圖作業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在芯片、面板(ban)、模(mo)擬半導(dao)體(ti)、發光二極管及(ji)光子(zi)器件(jian)上都(dou)得到(dao)了(le)廣泛(fan)應用(yong)。