一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻(ke)(ke)膠(jiao)是微(wei)電(dian)子技術(shu)中微(wei)細圖形(xing)加(jia)工的(de)關鍵材料之一，特別(bie)是近年(nian)來大(da)規模(mo)和超大(da)規模(mo)集成電(dian)路的(de)發展，更是大(da)大(da)促進了光刻(ke)(ke)膠(jiao)的(de)研究開發和應(ying)用。而光刻機是制造(zao)芯片(pian)的(de)(de)核心裝(zhuang)備，采用類似照片(pian)沖印的(de)(de)技(ji)術，把掩膜版(ban)上的(de)(de)精細圖形通過光線的(de)(de)曝光印制到硅片(pian)上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用(yong)特(te)殊(shu)光線將集成電路(lu)映射到硅(gui)(gui)(gui)片表(biao)面，并要避免(mian)在硅(gui)(gui)(gui)片表(biao)面留(liu)下痕跡(ji)，需要在硅(gui)(gui)(gui)片表(biao)面涂上一層(ceng)特(te)殊(shu)的物(wu)質：光刻膠。

光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)和光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠的(de)關系(xi)就是：光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)在晶(jing)圓上用(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)源畫(hua)電路圖的(de)時(shi)候，不直接畫(hua)圖，需要在晶(jing)圓上涂抹一層液態的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠干燥后形成(cheng)膠膜，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)才開始畫(hua)圖作業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在芯片、面板、模擬半導體、發光二極管及光子器件(jian)上都得到了廣泛應用。