一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光(guang)刻膠(jiao)是微電(dian)子技術(shu)中微細圖形加(jia)工的關鍵材料之一，特別是近年來大(da)規模和超大(da)規模集成電(dian)路的發(fa)展，更(geng)是大(da)大(da)促(cu)進了(le)光(guang)刻膠(jiao)的研究開發(fa)和應用(yong)。而光刻機是制造芯(xin)片的核心裝備，采(cai)用類似照(zhao)片沖印的技術，把掩膜版上(shang)的精細圖形通過光線的曝光印制到硅(gui)片上(shang)。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用特殊光線將集成(cheng)電(dian)路映射到硅(gui)(gui)片(pian)表面(mian)，并要避免在硅(gui)(gui)片(pian)表面(mian)留(liu)下痕跡，需要在硅(gui)(gui)片(pian)表面(mian)涂上(shang)一層(ceng)特殊的物質：光刻膠。

光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)和光(guang)(guang)刻膠的關系就(jiu)是：光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)在晶圓上用(yong)光(guang)(guang)源畫電路圖的時候(hou)，不(bu)直接畫圖，需要在晶圓上涂抹一(yi)層液態的光(guang)(guang)刻膠，光(guang)(guang)刻膠干燥后形成膠膜，光(guang)(guang)刻機(ji)(ji)才開始畫圖作(zuo)業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在(zai)芯片、面(mian)板、模擬半導體、發光二極管及光子(zi)器(qi)件(jian)上(shang)都得到了(le)廣泛應用。