一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠是(shi)微(wei)電子技(ji)術中(zhong)微(wei)細圖(tu)形加工的(de)關鍵材料之一，特(te)別(bie)是(shi)近(jin)年來大規模(mo)和超大規模(mo)集成電路的(de)發(fa)展，更是(shi)大大促進了光刻膠的(de)研究(jiu)開發(fa)和應用。而光(guang)(guang)刻機是制(zhi)造芯片(pian)的核心(xin)裝備，采用類似照片(pian)沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光(guang)(guang)線的曝光(guang)(guang)印制(zhi)到硅(gui)片(pian)上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用特殊光(guang)線將集成電(dian)路映射(she)到硅片表面，并要避(bi)免在(zai)硅片表面留下(xia)痕跡，需要在(zai)硅片表面涂上一層特殊的物質：光(guang)刻膠。

光(guang)刻機和光(guang)刻膠(jiao)(jiao)的(de)關(guan)系(xi)就(jiu)是(shi)：光(guang)刻機在(zai)晶圓上用光(guang)源畫(hua)(hua)電路(lu)圖的(de)時(shi)候，不直接畫(hua)(hua)圖，需要在(zai)晶圓上涂抹一層液態的(de)光(guang)刻膠(jiao)(jiao)，光(guang)刻膠(jiao)(jiao)干燥后形成膠(jiao)(jiao)膜，光(guang)刻機才開始畫(hua)(hua)圖作業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前(qian)光刻膠在芯片、面板(ban)、模擬半導體、發光(guang)二(er)極管(guan)及(ji)光(guang)子器(qi)件上都得(de)到了(le)廣泛應用(yong)。