一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱(cheng)光(guang)(guang)致抗蝕劑(ji)，是(shi)指通過紫外光(guang)(guang)、電子束、離子束、X射線等的(de)(de)(de)照射或輻射，其溶解(jie)度發生變化的(de)(de)(de)耐蝕劑(ji)刻(ke)薄(bo)膜材(cai)料(liao)。由感光(guang)(guang)樹脂、增感劑(ji)和溶劑(ji)3種主(zhu)要(yao)成分組成的(de)(de)(de)對光(guang)(guang)敏(min)感的(de)(de)(de)混合液體(ti)。在光(guang)(guang)刻(ke)工藝過程中，用作(zuo)抗腐蝕涂層材(cai)料(liao)。半導體(ti)材(cai)料(liao)在表(biao)(biao)面加工時(shi)，若采用適(shi)當的(de)(de)(de)有選(xuan)擇(ze)性的(de)(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)膠，可在表(biao)(biao)面上得到所需(xu)的(de)(de)(de)圖像。

二、光刻膠的作用

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)是(shi)一(yi)大類具有光(guang)(guang)(guang)敏化學作用（或(huo)對電子(zi)能量(liang)敏感）的(de)(de)高分(fen)子(zi)聚合物材料，是(shi)轉移紫外曝光(guang)(guang)(guang)或(huo)電子(zi)束曝照圖案的(de)(de)媒介。光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)英文名為resist，又翻譯為抗(kang)蝕劑、光(guang)(guang)(guang)阻等。光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)作用就(jiu)是(shi)作為抗(kang)刻(ke)(ke)蝕層保護襯底表面。光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)只是(shi)一(yi)種形象的(de)(de)說法，因為光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)從外觀上呈現(xian)為膠(jiao)(jiao)狀液體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。