一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光(guang)(guang)(guang)致(zhi)抗(kang)蝕(shi)劑(ji)，是指(zhi)通(tong)過紫外光(guang)(guang)(guang)、電子束、離子束、X射(she)線等的(de)照射(she)或輻射(she)，其溶解度發生變化的(de)耐(nai)蝕(shi)劑(ji)刻(ke)薄膜材料。由感(gan)(gan)光(guang)(guang)(guang)樹脂、增感(gan)(gan)劑(ji)和溶劑(ji)3種主要成分組成的(de)對光(guang)(guang)(guang)敏感(gan)(gan)的(de)混合液體。在(zai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)工(gong)(gong)藝過程中，用作抗(kang)腐蝕(shi)涂層材料。半導體材料在(zai)表(biao)面(mian)加工(gong)(gong)時，若采用適當(dang)的(de)有選擇性(xing)的(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠，可在(zai)表(biao)面(mian)上得到所需的(de)圖像(xiang)。

二、光刻膠的作用

光(guang)刻膠是(shi)一大(da)類具有光(guang)敏化學作用（或(huo)對電子(zi)能量敏感）的高分子(zi)聚(ju)合物材料，是(shi)轉移(yi)紫(zi)外(wai)曝光(guang)或(huo)電子(zi)束曝照圖案的媒(mei)介。光(guang)刻膠的英(ying)文名為resist，又翻譯為抗蝕(shi)(shi)劑、光(guang)阻等。光(guang)刻膠的作用就是(shi)作為抗刻蝕(shi)(shi)層(ceng)保(bao)護襯底表面。光(guang)刻膠只是(shi)一種形象的說法，因為光(guang)刻膠從(cong)外(wai)觀上呈現為膠狀(zhuang)液體(ti)。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。