一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光致(zhi)抗蝕劑(ji)，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射(she)線等的(de)(de)照射(she)或(huo)輻(fu)射(she)，其溶解(jie)度發生變化的(de)(de)耐(nai)蝕劑(ji)刻(ke)薄(bo)膜材(cai)料。由(you)感光樹脂(zhi)、增(zeng)感劑(ji)和溶劑(ji)3種主要成分組成的(de)(de)對光敏感的(de)(de)混合液體(ti)。在光刻(ke)工藝過程中，用作抗腐蝕涂(tu)層材(cai)料。半導體(ti)材(cai)料在表(biao)面加(jia)工時(shi)，若(ruo)采用適當的(de)(de)有選擇性的(de)(de)光刻(ke)膠，可(ke)在表(biao)面上(shang)得到(dao)所(suo)需的(de)(de)圖(tu)像(xiang)。

二、光刻膠的作用

光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)是一(yi)大類(lei)具有光敏(min)(min)化學作(zuo)用（或(huo)對電子(zi)能量敏(min)(min)感）的(de)(de)高分子(zi)聚合(he)物材料，是轉移紫外曝光或(huo)電子(zi)束曝照圖案的(de)(de)媒介。光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)英文名為resist，又翻(fan)譯為抗蝕(shi)(shi)劑、光阻等(deng)。光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)作(zuo)用就是作(zuo)為抗刻(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)層保護襯底表(biao)面。光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)只是一(yi)種形象的(de)(de)說法，因為光刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)從外觀(guan)上呈現為膠(jiao)(jiao)狀液(ye)體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。