一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光(guang)(guang)致抗蝕劑(ji)，是指通過紫外光(guang)(guang)、電子(zi)束、離子(zi)束、X射線等的(de)照射或輻射，其溶(rong)解(jie)度發(fa)生變化的(de)耐蝕劑(ji)刻(ke)薄膜(mo)材料(liao)(liao)。由(you)感光(guang)(guang)樹(shu)脂、增(zeng)感劑(ji)和溶(rong)劑(ji)3種主要成分組成的(de)對光(guang)(guang)敏感的(de)混(hun)合液體。在(zai)光(guang)(guang)刻(ke)工(gong)藝(yi)過程中，用(yong)(yong)作抗腐蝕涂層材料(liao)(liao)。半導(dao)體材料(liao)(liao)在(zai)表面加工(gong)時(shi)，若(ruo)采用(yong)(yong)適當的(de)有(you)選擇(ze)性(xing)的(de)光(guang)(guang)刻(ke)膠，可在(zai)表面上得到(dao)所(suo)需的(de)圖像。

二、光刻膠的作用

光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)是一(yi)(yi)大(da)類(lei)具有光(guang)(guang)敏化學作(zuo)用(yong)（或(huo)對(dui)電子(zi)能量(liang)敏感）的高分子(zi)聚合(he)物材料，是轉移紫外曝光(guang)(guang)或(huo)電子(zi)束曝照圖案(an)的媒介。光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的英文名為(wei)resist，又翻譯為(wei)抗蝕劑(ji)、光(guang)(guang)阻(zu)等。光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的作(zuo)用(yong)就是作(zuo)為(wei)抗刻(ke)(ke)蝕層保護襯底表面。光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)只是一(yi)(yi)種形象的說法，因為(wei)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)從外觀上呈(cheng)現(xian)為(wei)膠(jiao)狀液體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。