一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光(guang)(guang)致抗蝕劑(ji)，是(shi)指(zhi)通過(guo)紫(zi)外光(guang)(guang)、電子(zi)束、離(li)子(zi)束、X射線等的(de)照射或輻射，其溶解度(du)發生變化的(de)耐蝕劑(ji)刻(ke)薄膜材料。由感(gan)光(guang)(guang)樹脂、增感(gan)劑(ji)和溶劑(ji)3種主要(yao)成(cheng)(cheng)分組(zu)成(cheng)(cheng)的(de)對光(guang)(guang)敏感(gan)的(de)混合液(ye)體。在光(guang)(guang)刻(ke)工藝過(guo)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加(jia)工時，若采用適(shi)當的(de)有選擇性(xing)的(de)光(guang)(guang)刻(ke)膠，可在表面上(shang)得到所需的(de)圖像(xiang)。

二、光刻膠的作用

光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)是一大類具有光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)敏(min)化學(xue)作(zuo)用(yong)（或對電(dian)子(zi)(zi)能量敏(min)感）的高分子(zi)(zi)聚合物(wu)材料，是轉移紫外(wai)曝(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)或電(dian)子(zi)(zi)束曝(pu)照圖案的媒介。光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的英文名為(wei)resist，又(you)翻譯為(wei)抗蝕劑、光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)阻等。光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的作(zuo)用(yong)就(jiu)是作(zuo)為(wei)抗刻(ke)(ke)蝕層保護襯底表面。光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)只是一種(zhong)形(xing)象(xiang)的說法(fa)，因(yin)為(wei)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)從外(wai)觀上(shang)呈現為(wei)膠(jiao)狀液(ye)體(ti)。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。