一、電鍍設備和真空覆膜設備的概述

電鍍設(she)備(bei)是通(tong)(tong)過(guo)電化學反應在(zai)物體表面(mian)(mian)沉積金屬或合金膜(mo)的(de)設(she)備(bei)，常用(yong)于(yu)金屬電鍍、化學鍍、酸洗、電解(jie)磨光等工藝(yi)。而真空(kong)覆膜(mo)設(she)備(bei)是通(tong)(tong)過(guo)真空(kong)技術(shu)在(zai)物體表面(mian)(mian)蒸發或濺射金屬膜(mo)、合金膜(mo)、陶瓷膜(mo)、光學膜(mo)等的(de)設(she)備(bei)，常用(yong)于(yu)電子元件、化妝品瓶(ping)蓋、鏡框、手(shou)表、手(shou)機(ji)殼(ke)等產品的(de)表面(mian)(mian)處(chu)理。

二、電鍍設備和真空覆膜設備的區別

1、工作原理的區別

電(dian)鍍設備的(de)工作原理是將帶電(dian)的(de)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)離子沉積(ji)到被電(dian)鍍物(wu)體(ti)上，形(xing)成具(ju)有一定厚度的(de)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)或(huo)(huo)(huo)合(he)金(jin)(jin)(jin)膜(mo)。而真空(kong)覆膜(mo)設備則(ze)是在真空(kong)條件下，將經加熱或(huo)(huo)(huo)被轟擊的(de)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)源(yuan)或(huo)(huo)(huo)化合(he)物(wu)源(yuan)釋放出的(de)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)離子、原子或(huo)(huo)(huo)分子沉積(ji)在被覆膜(mo)物(wu)體(ti)表(biao)面上，形(xing)成金(jin)(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)、合(he)金(jin)(jin)(jin)膜(mo)、陶瓷(ci)膜(mo)等。

2、技術特點的區別

（1）覆蓋面(mian)積(ji)：電鍍設(she)備(bei)(bei)通常(chang)較小(xiao)，所以常(chang)用于制作(zuo)精密(mi)零件和小(xiao)型產品(pin)。而真空覆膜設(she)備(bei)(bei)有(you)多種規格和類型，可以處理大型表面(mian)或多個(ge)小(xiao)表面(mian)。

（2）工(gong)藝(yi)(yi)復(fu)雜(za)(za)度(du)(du)：電(dian)鍍設備需要控制(zhi)液體電(dian)解質的濃度(du)(du)、溫度(du)(du)、PH值和攪拌(ban)速度(du)(du)等，工(gong)藝(yi)(yi)復(fu)雜(za)(za)度(du)(du)較(jiao)高，需要一(yi)定的化學知識和技能(neng)。而真空覆(fu)膜設備的工(gong)藝(yi)(yi)比較(jiao)簡單，只(zhi)需控制(zhi)真空度(du)(du)、沉積速度(du)(du)、材料來源和表面(mian)清洗(xi)程度(du)(du)等。

（3）膜層(ceng)均一(yi)性：電鍍設(she)備(bei)容易在角落和(he)凹坑等地方(fang)堆積，形成(cheng)(cheng)不均勻的膜層(ceng)。而真(zhen)空覆(fu)膜設(she)備(bei)通(tong)過蒸(zheng)發或濺射形成(cheng)(cheng)的膜層(ceng)比較均勻，并且可以通(tong)過調整工藝參數使得(de)膜層(ceng)更加(jia)均一(yi)。

3、適用范圍的區別

電鍍(du)設備(bei)適用于(yu)鍍(du)鋅(xin)、鍍(du)鉻、鍍(du)銅(tong)、電解鎳(nie)、電解銀等(deng)金屬(shu)制(zhi)(zhi)品(pin)表面的(de)處理。而真(zhen)空覆膜(mo)(mo)設備(bei)則(ze)適用于(yu)各種(zhong)有機(ji)玻璃(li)、陶瓷(ci)制(zhi)(zhi)品(pin)、塑料(liao)制(zhi)(zhi)品(pin)、金屬(shu)制(zhi)(zhi)品(pin)等(deng)表面的(de)處理，可以制(zhi)(zhi)作出具有鏡面效(xiao)果的(de)金屬(shu)膜(mo)(mo)或光學膜(mo)(mo)。

三、 電鍍設備和真空覆膜設備哪個好

真(zhen)(zhen)空鍍(du)(du)膜和(he)電(dian)鍍(du)(du)各(ge)有(you)優(you)(you)(you)缺(que)點(dian)(dian)(dian)。真(zhen)(zhen)空鍍(du)(du)膜優(you)(you)(you)點(dian)(dian)(dian)是(shi)其在涂層表(biao)面形(xing)成了(le)均勻致密(mi)的鍍(du)(du)層，并且具有(you)優(you)(you)(you)異(yi)的金屬光澤(ze)、硬度(du)和(he)耐腐蝕能力；缺(que)點(dian)(dian)(dian)是(shi)生產(chan)成本較高，依賴先(xian)進(jin)的真(zhen)(zhen)空蒸發技術。電(dian)鍍(du)(du)的優(you)(you)(you)點(dian)(dian)(dian)是(shi)其制作成本較低，且可以在大(da)(da)型(xing)機器中進(jin)行大(da)(da)規模生產(chan)；缺(que)點(dian)(dian)(dian)則是(shi)電(dian)鍍(du)(du)層相對(dui)較薄，容(rong)易(yi)因外部環境受損。

綜上所述，真空(kong)鍍膜和電(dian)鍍各(ge)有其獨特(te)的(de)工藝原理(li)、應(ying)用范圍、優(you)缺點等(deng)特(te)點。在具體應(ying)用時，需結合(he)實際情況(kuang)進行選擇。