一、靶材是什么材料

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高(gao)速荷能粒子轟擊的(de)目標材(cai)(cai)料，用于高(gao)能激光武器中，不(bu)(bu)(bu)同(tong)功(gong)率密(mi)度、不(bu)(bu)(bu)同(tong)輸出(chu)波形、不(bu)(bu)(bu)同(tong)波長的(de)激光與不(bu)(bu)(bu)同(tong)的(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)相互(hu)作用時，會(hui)產生(sheng)不(bu)(bu)(bu)同(tong)的(de)殺傷破壞效應。例如(ru)：蒸(zheng)發磁控濺射(she)鍍(du)膜(mo)(mo)是加熱(re)蒸(zheng)發鍍(du)膜(mo)(mo)、鋁(lv)膜(mo)(mo)等。更換不(bu)(bu)(bu)同(tong)的(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)（如(ru)鋁(lv)、銅、不(bu)(bu)(bu)銹鋼、鈦、鎳(nie)靶(ba)(ba)等），即可得到不(bu)(bu)(bu)同(tong)的(de)膜(mo)(mo)系（如(ru)超硬、耐(nai)磨、防(fang)腐的(de)合金膜(mo)(mo)等）。

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二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶(ba)材目前被普遍應(ying)(ying)用于平(ping)(ping)面顯示器（FPD)上。近年(nian)(nian)來，平(ping)(ping)面顯示器在市(shi)場(chang)上的應(ying)(ying)用率逐年(nian)(nian)增高，同時也帶動了ITO靶(ba)材的技術與市(shi)場(chang)需(xu)求。ITO靶(ba)材有兩種，一種是(shi)采用銦(yin)錫合(he)金靶(ba)材，另外一種是(shi)采用納米狀態的氧(yang)化銦(yin)和氧(yang)化錫粉混合(he)后燒結。

2、用于微電子領域

靶材(cai)也被應用于半(ban)導體(ti)產業(ye)，相對來說半(ban)導體(ti)產業(ye)對于靶材(cai)濺(jian)射(she)薄膜(mo)的(de)品質(zhi)要(yao)(yao)求(qiu)是比(bi)(bi)較苛刻(ke)的(de)。現在12英寸（300衄口(kou)）的(de)硅晶片也被制作出來，但是互連(lian)線的(de)寬度(du)卻在減小。目前硅片制造商(shang)對于靶材(cai)的(de)要(yao)(yao)求(qiu)都是大尺寸、高(gao)純度(du)、低偏(pian)析(xi)以及細晶粒等，對其品質(zhi)要(yao)(yao)求(qiu)比(bi)(bi)較高(gao)，這就要(yao)(yao)求(qiu)靶材(cai)需要(yao)(yao)具有更(geng)好的(de)微觀結構。

3、用于存儲技術上

存儲技術行業對于靶材的(de)需(xu)(xu)求量(liang)(liang)很大，高密(mi)度、大容量(liang)(liang)硬盤(pan)的(de)發(fa)展(zhan)，離不開大量(liang)(liang)的(de)巨磁阻薄(bo)(bo)膜(mo)材料(liao)，CoF~Cu多層復合膜(mo)是如今應(ying)用比較廣泛的(de)巨磁阻薄(bo)(bo)膜(mo)結構(gou)。磁光盤(pan)需(xu)(xu)要(yao)的(de)TbFeCo合金(jin)靶材還在進一步(bu)發(fa)展(zhan)，用它制造(zao)出來的(de)磁光盤(pan)有著使用壽命長、存儲容量(liang)(liang)大以及(ji)可(ke)反復無接觸(chu)擦(ca)寫的(de)特點(dian)。