一、靶材是什么材料

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高(gao)速(su)荷能(neng)粒(li)子轟擊的(de)目標材料，用于高(gao)能(neng)激(ji)光武器中(zhong)，不(bu)同功率(lv)密度、不(bu)同輸出波(bo)形、不(bu)同波(bo)長(chang)的(de)激(ji)光與(yu)不(bu)同的(de)靶(ba)(ba)材相(xiang)互作用時，會產生(sheng)不(bu)同的(de)殺傷破(po)壞效應。例如：蒸發磁控濺射(she)鍍膜(mo)(mo)是加(jia)熱蒸發鍍膜(mo)(mo)、鋁膜(mo)(mo)等(deng)。更換不(bu)同的(de)靶(ba)(ba)材（如鋁、銅、不(bu)銹鋼、鈦、鎳靶(ba)(ba)等(deng)），即可得到(dao)不(bu)同的(de)膜(mo)(mo)系（如超硬(ying)、耐磨、防腐的(de)合金膜(mo)(mo)等(deng)）。

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二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶材(cai)目前被普遍應(ying)用(yong)于平(ping)面(mian)(mian)顯(xian)示器（FPD)上(shang)。近(jin)年(nian)來，平(ping)面(mian)(mian)顯(xian)示器在(zai)市場上(shang)的(de)應(ying)用(yong)率(lv)逐年(nian)增高，同時也帶(dai)動了ITO靶材(cai)的(de)技(ji)術與市場需(xu)求。ITO靶材(cai)有兩種，一種是采用(yong)銦錫合(he)金(jin)靶材(cai)，另外一種是采用(yong)納米(mi)狀態的(de)氧(yang)化(hua)銦和(he)氧(yang)化(hua)錫粉混合(he)后燒結。

2、用于微電子領域

靶(ba)(ba)材(cai)(cai)也被應(ying)用于(yu)半(ban)導(dao)體產(chan)業(ye)，相對(dui)(dui)來(lai)說半(ban)導(dao)體產(chan)業(ye)對(dui)(dui)于(yu)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)濺(jian)射(she)薄膜的(de)品(pin)質(zhi)(zhi)要求(qiu)是(shi)比(bi)較(jiao)苛刻(ke)的(de)。現在(zai)12英寸(cun)(cun)（300衄(nv)口(kou)）的(de)硅(gui)晶片也被制作出(chu)來(lai)，但(dan)是(shi)互連(lian)線的(de)寬度卻在(zai)減小。目前硅(gui)片制造商對(dui)(dui)于(yu)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)要求(qiu)都(dou)是(shi)大尺寸(cun)(cun)、高(gao)純度、低偏(pian)析以及細晶粒等，對(dui)(dui)其品(pin)質(zhi)(zhi)要求(qiu)比(bi)較(jiao)高(gao)，這就(jiu)要求(qiu)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)需要具有更好的(de)微觀結(jie)構(gou)。

3、用于存儲技術上

存儲技術行業對于靶材的(de)需(xu)求量(liang)(liang)很大，高(gao)密度、大容量(liang)(liang)硬盤(pan)(pan)的(de)發(fa)展，離不開大量(liang)(liang)的(de)巨(ju)磁(ci)阻薄(bo)膜材料，CoF~Cu多層復(fu)合(he)膜是如今應用比較(jiao)廣泛(fan)的(de)巨(ju)磁(ci)阻薄(bo)膜結(jie)構。磁(ci)光盤(pan)(pan)需(xu)要的(de)TbFeCo合(he)金(jin)靶材還在進(jin)一步(bu)發(fa)展，用它制造出來的(de)磁(ci)光盤(pan)(pan)有(you)著使用壽命長、存儲容量(liang)(liang)大以及可反復(fu)無接觸擦寫(xie)的(de)特(te)點(dian)。