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芯片封裝需要光刻機嗎 芯片封裝用的什么光刻機

本文章由注冊用戶 知無涯 上傳提供 2024-04-18 評論 0
摘要:說起光刻機很多朋友都知道,芯片封裝就要用到光刻機,但大家可能不知道,光刻機其實也是分前道光刻機和后道光刻機的,我們常說的光刻機一般是用于晶圓制造的前道光刻機,而芯片封裝用的則是后道光刻機,后道光刻機專用于芯片封裝,技術含量和精度都要低不少。那么芯片封裝需要光刻機嗎?芯片封裝用的什么光刻機?一起來文中看看吧。

一、芯片封裝需要光刻機嗎

光刻機是制造芯片的核心裝備,很多朋友都知道,一般是芯片制造過程中使用,芯片封裝和芯(xin)片制造不同(tong),那么芯(xin)片封裝(zhuang)要用光刻機嗎?

一(yi)般來說,普通芯(xin)片封(feng)裝(zhuang)不需要(yao)用(yong)到光(guang)刻機(ji)(ji),不過高端芯(xin)片封(feng)測,比如晶圓級封(feng)測,就需要(yao)用(yong)到光(guang)刻機(ji)(ji)。不過值得一(yi)提的(de)是,芯(xin)片封(feng)裝(zhuang)用(yong)的(de)光(guang)刻機(ji)(ji)和我們平時(shi)常說的(de)光(guang)刻機(ji)(ji)其實是有所不同的(de)。

二、芯片封裝用的什么光刻機

芯片封裝用的光刻機是封裝光刻機,又叫后道光刻機;而我們常說的卡脖子的光刻機,實際(ji)上是用(yong)于晶(jing)圓制造的前道光刻機:

1、前道光刻機(ji)又分為EUV和DUV光刻機(ji)。EUV也就(jiu)是“極深紫外(wai)線(xian)”的(de)意思,EUV能滿足10nm以下的(de)晶(jing)圓制造;而DUV是“深紫外(wai)線(xian)”的(de)意思,DUV基(ji)本上(shang)只能做到25nm。

2、后道光刻機是用于芯片封裝,相(xiang)比前道光(guang)(guang)刻機來說,技術(shu)含(han)量(liang)要低不(bu)少,精度方面也有所(suo)差距(ju),后道光(guang)(guang)刻機已經可以國產了,并且很多國產的封(feng)裝光(guang)(guang)刻機在后道光(guang)(guang)刻機領域做到了世界領先水平。

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