一、平面研磨機簡介

平面研磨機是一種精密研磨(mo)(mo)拋(pao)光設備，被(bei)磨(mo)(mo)、拋(pao)材料(liao)放于(yu)平整的研磨(mo)(mo)盤上進行(xing)研磨(mo)(mo)處理(li)，工件與(yu)研磨(mo)(mo)盤作相對運轉磨(mo)(mo)擦，來達到(dao)研磨(mo)(mo)拋(pao)光目的，廣(guang)泛用(yong)于(yu)LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片(pian)、石英晶片(pian)、硅片(pian)、諸(zhu)片(pian)、模(mo)具、導(dao)光板、光扦接頭等各種材料(liao)的單面研磨(mo)(mo)、拋(pao)光。

二、平面研磨機研磨的不平整是什么原因

平面(mian)研(yan)磨(mo)機研(yan)磨(mo)出來(lai)的(de)工件(jian)應該是平整(zheng)的(de)，如(ru)果研(yan)磨(mo)后工件(jian)出現(xian)凹凸面(mian)，可能原因有以下幾點：

1、研(yan)磨盤(pan)不平(ping)，研(yan)磨機(ji)對研(yan)磨平(ping)板的(de)(de)重(zhong)要作用(yong)是研(yan)磨平(ping)板本身(shen)的(de)(de)表(biao)(biao)面幾(ji)何(he)形準確地(di)傳遞給被研(yan)磨工件(jian)，如(ru)果研(yan)磨平(ping)面不是理想平(ping)面，那(nei)么被研(yan)工件(jian)的(de)(de)表(biao)(biao)面也很難得(de)到高精度平(ping)面。

2、受到動力(li)矩(ju)、扭(niu)轉力(li)矩(ju)及運動慣性力(li)等(deng)復雜受力(li)作用的影響，促成(cheng)了研(yan)磨(mo)過程中移動的不(bu)平穩性，造成(cheng)了工件邊(bian)緣(yuan)受力(li)重、被磨(mo)掉的多，呈現凹(ao)狀(zhuang)。

3、沒(mei)有(you)按照工件被研(yan)表面(mian)的大(da)小和高度比例來(lai)確定運動(dong)的速度和方向(xiang)。

4、沒有放在(zai)工件的中(zhong)間位(wei)置而導(dao)致工件強制受力或著力不均。

5、控制環(huan)內的(de)工件之間的(de)間隙過(guo)小，工件表面的(de)每個點在研(yan)磨盤上的(de)摩擦軌跡(ji)就會(hui)疏密不等，影響密封(feng)環(huan)的(de)平面度，有時甚(shen)至(zhi)會(hui)使工件頂起，造成(cheng)研(yan)磨表面偏(pian)斜，導致研(yan)磨不平整。

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三、平面研磨機研磨不平整怎么辦

平(ping)面研(yan)磨機(ji)出現(xian)研(yan)磨不(bu)平(ping)整(zheng)的(de)現(xian)象時，要及(ji)時處理，以免生產的(de)工件(jian)不(bu)合格，一般處理方法如下：

1、首先檢查研磨盤平面度，研磨盤平面度是研磨的基準，是得到精密工件平面的保證，平面研磨機的(de)研磨盤需定期修(xiu)整(zheng)平(ping)面(mian)，修(xiu)整(zheng)的(de)方法有兩種：一是采用基準平(ping)面(mian)電鍍金剛石(shi)修(xiu)整(zheng)輪(lun)來修(xiu)面(mian)，二是通(tong)過修(xiu)整(zheng)機構修(xiu)面(mian)。

2、如果是受(shou)到動力(li)矩(ju)、扭轉(zhuan)力(li)矩(ju)及運動慣性力(li)等復雜受(shou)力(li)作(zuo)用(yong)的(de)影響(xiang)造成的(de)不(bu)(bu)平整(zheng)，則可以采用(yong)凸形表(biao)面的(de)研磨(mo)(mo)平板來(lai)補償，不(bu)(bu)僅(jin)可以解(jie)決(jue)因磨(mo)(mo)損不(bu)(bu)均造成的(de)質量(liang)問題，也可以使研磨(mo)(mo)平板壽(shou)命得到延長。

3、如果是工(gong)件間(jian)隙(xi)過小引起的(de)，則調整控制環內的(de)工(gong)件之(zhi)間(jian)的(de)間(jian)隙(xi)即(ji)可(ke)。