一、光刻機是干什么用的

光刻機是用來制造芯(xin)(xin)片的。光(guang)刻(ke)機(ji)又(you)被稱為(wei)掩(yan)膜對準曝光(guang)機(ji)，在(zai)芯(xin)(xin)片生(sheng)產中用于光(guang)刻(ke)工藝，而光(guang)刻(ke)工藝又(you)是生(sheng)產流(liu)程(cheng)中最(zui)關鍵的一步，所(suo)以(yi)光(guang)刻(ke)機(ji)又(you)是芯(xin)(xin)片生(sheng)產中不可缺少(shao)的設備。

光刻(ke)機決定了芯(xin)(xin)片的(de)精密尺寸，設計師設計好芯(xin)(xin)片線路，再通(tong)過(guo)光刻(ke)機將(jiang)線路刻(ke)在芯(xin)(xin)片上，其尺度通(tong)常在微米級以上。

光刻(ke)機是芯(xin)片(pian)生產中最昂貴也是技術難度最大的設備(bei)，因為其決定了(le)一塊芯(xin)片(pian)的整體框架(jia)與功能。

其(qi)實生產(chan)高(gao)(gao)精度芯(xin)片并不難(nan)，只是生產(chan)速(su)度太(tai)慢，而光刻機能快速(su)生產(chan)高(gao)(gao)精度的芯(xin)片，所(suo)以很(hen)重要(yao)。

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二、光刻機的工作原理

利用(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機發出的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)通過具(ju)有圖(tu)形(xing)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)罩(zhao)對(dui)涂有光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠的(de)薄片(pian)(pian)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠見光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)后會發生性質變化(hua)，從而(er)使(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)罩(zhao)上得圖(tu)形(xing)復印(yin)到薄片(pian)(pian)上，從而(er)使(shi)薄片(pian)(pian)具(ju)有電(dian)子線路(lu)圖(tu)的(de)作(zuo)用(yong)。這就(jiu)是(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)的(de)作(zuo)用(yong)，類似照相(xiang)機照相(xiang)。照相(xiang)機拍攝的(de)照片(pian)(pian)是(shi)印(yin)在底片(pian)(pian)上，而(er)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)刻(ke)的(de)不是(shi)照片(pian)(pian)，而(er)是(shi)電(dian)路(lu)圖(tu)和(he)其他電(dian)子元件。

簡單點來說，光(guang)(guang)刻機就是(shi)放大(da)的(de)單反，光(guang)(guang)刻機就是(shi)將光(guang)(guang)罩上(shang)的(de)設計好(hao)集成(cheng)(cheng)電(dian)路圖(tu)形(xing)(xing)通過光(guang)(guang)線的(de)曝光(guang)(guang)印到(dao)光(guang)(guang)感材(cai)料上(shang)，形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)圖(tu)形(xing)(xing)。

三、光刻機的性能指標

光刻機的(de)主要性能指標有：支持基(ji)片的(de)尺寸范圍，分辨率、對準(zhun)精度、曝(pu)光(guang)(guang)方式(shi)、光(guang)(guang)源波長、光(guang)(guang)強(qiang)均(jun)勻性、生產效率等。

分辨(bian)率是對光(guang)刻(ke)工(gong)藝加工(gong)可以達到的(de)最細線條精度的(de)一種描述方(fang)式。光(guang)刻(ke)的(de)分辨(bian)率受受光(guang)源(yuan)衍射的(de)限制(zhi)，所以與光(guang)源(yuan)、光(guang)刻(ke)系統、光(guang)刻(ke)膠和(he)工(gong)藝等各方(fang)面(mian)的(de)限制(zhi)。

對準(zhun)精度(du)是在多層曝(pu)光時層間圖案的(de)定位精度(du)。

曝光方式分為(wei)接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源(yuan)波長分(fen)為(wei)紫外、深(shen)紫外和極(ji)紫外區域，光源(yuan)有汞(gong)燈，準分(fen)子激光器(qi)等。