一、光刻機是干什么用的

光刻機是(shi)用(yong)來制造芯(xin)片的(de)。光刻(ke)機又(you)(you)(you)被稱為掩膜對準曝光機，在(zai)芯(xin)片生(sheng)產(chan)中用(yong)于光刻(ke)工(gong)藝(yi)，而光刻(ke)工(gong)藝(yi)又(you)(you)(you)是(shi)生(sheng)產(chan)流(liu)程中最關鍵(jian)的(de)一(yi)步，所以光刻(ke)機又(you)(you)(you)是(shi)芯(xin)片生(sheng)產(chan)中不可缺少的(de)設備。

光刻機決(jue)定了芯片的精密尺寸，設(she)計(ji)師設(she)計(ji)好芯片線路，再通(tong)過(guo)光刻機將線路刻在(zai)芯片上，其尺度通(tong)常在(zai)微米級以上。

光刻機是芯片生(sheng)產中(zhong)最昂貴也是技術難度最大的(de)設備，因(yin)為其決定(ding)了一塊(kuai)芯片的(de)整體框架與(yu)功能(neng)。

其實生產高精(jing)度(du)芯片并不難，只是生產速(su)度(du)太慢，而光刻機能快速(su)生產高精(jing)度(du)的芯片，所以很重(zhong)要。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、光刻機的工作原理

利用(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機發出(chu)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)通過具有(you)圖(tu)形(xing)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)罩(zhao)對涂有(you)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)(de)(de)薄(bo)片(pian)(pian)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)見光(guang)(guang)(guang)(guang)后會發生性質變化，從(cong)而(er)使光(guang)(guang)(guang)(guang)罩(zhao)上得圖(tu)形(xing)復印到薄(bo)片(pian)(pian)上，從(cong)而(er)使薄(bo)片(pian)(pian)具有(you)電子線(xian)路(lu)圖(tu)的(de)(de)(de)作用(yong)。這就(jiu)是光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)的(de)(de)(de)作用(yong)，類似照(zhao)相(xiang)機照(zhao)相(xiang)。照(zhao)相(xiang)機拍攝的(de)(de)(de)照(zhao)片(pian)(pian)是印在(zai)底片(pian)(pian)上，而(er)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)刻(ke)的(de)(de)(de)不(bu)是照(zhao)片(pian)(pian)，而(er)是電路(lu)圖(tu)和其他電子元(yuan)件。

簡(jian)單點來(lai)說(shuo)，光(guang)(guang)刻機就是放大的(de)單反，光(guang)(guang)刻機就是將(jiang)光(guang)(guang)罩上的(de)設(she)計好集(ji)成電路圖(tu)形通(tong)過光(guang)(guang)線的(de)曝光(guang)(guang)印到光(guang)(guang)感(gan)材料上，形成圖(tu)形。

三、光刻機的性能指標

光刻機的主要性(xing)能指(zhi)標有：支持基片(pian)的尺(chi)寸范圍，分辨率、對準(zhun)精度、曝光方(fang)式、光源(yuan)波長、光強(qiang)均勻性(xing)、生產(chan)效(xiao)率等。

分辨(bian)率是對光刻工藝加工可以(yi)達到(dao)的(de)(de)最細線條(tiao)精度的(de)(de)一種描述方式(shi)。光刻的(de)(de)分辨(bian)率受(shou)受(shou)光源衍射的(de)(de)限制，所以(yi)與光源、光刻系(xi)統(tong)、光刻膠(jiao)和工藝等各方面(mian)的(de)(de)限制。

對準(zhun)精(jing)度是在多層(ceng)曝光時層(ceng)間圖案的(de)定位精(jing)度。

曝(pu)光方式(shi)(shi)分為接觸接近式(shi)(shi)、投影式(shi)(shi)和直寫式(shi)(shi)。

曝光光源(yuan)波(bo)長分為紫(zi)外、深紫(zi)外和極紫(zi)外區(qu)域，光源(yuan)有汞燈(deng)，準分子激光器等。