一、光刻機是干什么用的

光刻機是用來制造芯(xin)(xin)片(pian)的(de)。光刻機(ji)又(you)被稱(cheng)為(wei)掩(yan)膜對準曝光機(ji)，在芯(xin)(xin)片(pian)生產(chan)中用于光刻工(gong)藝，而光刻工(gong)藝又(you)是生產(chan)流程中最關鍵的(de)一步，所以光刻機(ji)又(you)是芯(xin)(xin)片(pian)生產(chan)中不可缺少(shao)的(de)設備。

光刻機(ji)決(jue)定了芯(xin)片(pian)的精(jing)密尺(chi)寸，設(she)計(ji)師設(she)計(ji)好芯(xin)片(pian)線(xian)路(lu)，再(zai)通(tong)(tong)過(guo)光刻機(ji)將線(xian)路(lu)刻在(zai)芯(xin)片(pian)上，其尺(chi)度(du)通(tong)(tong)常在(zai)微(wei)米級以上。

光刻機(ji)是芯片生產(chan)中最(zui)昂(ang)貴也是技術難度最(zui)大(da)的設(she)備(bei)，因為(wei)其決(jue)定了一塊芯片的整體(ti)框架與功能(neng)。

其實生產高精(jing)度芯(xin)(xin)片(pian)并不難(nan)，只是生產速度太慢(man)，而(er)光刻(ke)機能快速生產高精(jing)度的芯(xin)(xin)片(pian)，所以很重要。

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二、光刻機的工作原理

利用(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機發出(chu)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)通(tong)過具有(you)圖(tu)形(xing)(xing)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)罩對涂有(you)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠的(de)(de)薄片曝光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠見光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)后會發生性(xing)質變化，從而(er)使(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)罩上(shang)(shang)得圖(tu)形(xing)(xing)復印到薄片上(shang)(shang)，從而(er)使(shi)薄片具有(you)電子線路(lu)圖(tu)的(de)(de)作用(yong)。這就是(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)的(de)(de)作用(yong)，類(lei)似照(zhao)(zhao)相(xiang)機照(zhao)(zhao)相(xiang)。照(zhao)(zhao)相(xiang)機拍攝的(de)(de)照(zhao)(zhao)片是(shi)印在底片上(shang)(shang)，而(er)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)刻(ke)的(de)(de)不是(shi)照(zhao)(zhao)片，而(er)是(shi)電路(lu)圖(tu)和其他電子元件。

簡單(dan)點來說，光刻(ke)機(ji)(ji)就(jiu)(jiu)是(shi)放大的(de)單(dan)反(fan)，光刻(ke)機(ji)(ji)就(jiu)(jiu)是(shi)將光罩上的(de)設計好集成(cheng)電路(lu)圖(tu)形(xing)通過(guo)光線的(de)曝光印到(dao)光感(gan)材料(liao)上，形(xing)成(cheng)圖(tu)形(xing)。

三、光刻機的性能指標

光刻機的(de)主要性(xing)能指標有：支持(chi)基(ji)片的(de)尺寸范圍(wei)，分(fen)辨率、對準精度、曝(pu)光方式、光源波長(chang)、光強均(jun)勻性(xing)、生(sheng)產效率等(deng)。

分(fen)辨率(lv)是對光(guang)(guang)刻工(gong)藝加工(gong)可以達到的(de)最細線條精度的(de)一種描(miao)述(shu)方(fang)式。光(guang)(guang)刻的(de)分(fen)辨率(lv)受受光(guang)(guang)源(yuan)衍射的(de)限制，所以與光(guang)(guang)源(yuan)、光(guang)(guang)刻系統(tong)、光(guang)(guang)刻膠和工(gong)藝等各方(fang)面的(de)限制。

對準(zhun)精度(du)是(shi)在多(duo)層曝(pu)光時層間圖(tu)案的(de)定(ding)位(wei)精度(du)。

曝(pu)光方式分為接觸接近式、投(tou)影式和直(zhi)寫式。

曝光(guang)光(guang)源波(bo)長分為紫(zi)(zi)外、深紫(zi)(zi)外和極紫(zi)(zi)外區域，光(guang)源有汞(gong)燈，準(zhun)分子激光(guang)器等。