一、靶材的分類有哪些

1、根據不同材質劃分

（1）金屬靶材

鎳(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ni、鈦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ti、鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zn、鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cr、鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mg、鈮(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Nb、錫靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Sn、鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Al、銦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)In、鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Fe、鋯鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)ZrAl、鈦鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zr、鋁(lv)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Si、銅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cu、鉭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ta、鍺(zang)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ge、銀靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ag、鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Co、金靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Au、釓(ga)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Gd、鑭(lan)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)La、釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Y、鈰(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ce、不銹鋼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鎳(nie)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Hf、鉬靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mo、鐵鎳(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)FeNi、鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、W等。

（2）陶瓷靶材

ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、碳化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)(dan)化(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硫化(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、一氧(yang)(yang)(yang)化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鈰(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、五氧(yang)(yang)(yang)化(hua)二(er)(er)(er)(er)(er)鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，、二(er)(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鉿(jia)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)(er)(er)(er)硼(peng)化(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)(er)(er)(er)硼(peng)化(hua)鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)化(hua)二(er)(er)(er)(er)(er)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)五氧(yang)(yang)(yang)化(hua)二(er)(er)(er)(er)(er)鉭，五氧(yang)(yang)(yang)化(hua)二(er)(er)(er)(er)(er)鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟(fu)(fu)化(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟(fu)(fu)化(hua)釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硒化(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)(dan)化(hua)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)(dan)化(hua)硼(peng)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)(dan)化(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，碳化(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，鈮酸(suan)(suan)鋰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)(suan)鐠靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)(suan)鋇靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)(suan)鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鎳(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、濺射靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材等。

（3）合金靶材

鐵(tie)鈷靶(ba)(ba)FeCo、鋁(lv)(lv)硅(gui)靶(ba)(ba)AlSi、鈦(tai)(tai)(tai)硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鉻(ge)硅(gui)靶(ba)(ba)CrSi、鋅(xin)鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)ZnAl、鈦(tai)(tai)(tai)鋅(xin)靶(ba)(ba)材TiZn、鈦(tai)(tai)(tai)鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)TiAl、鈦(tai)(tai)(tai)鋯靶(ba)(ba)TiZr、鈦(tai)(tai)(tai)硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鈦(tai)(tai)(tai)鎳靶(ba)(ba)TiNi、鎳鉻(ge)靶(ba)(ba)NiCr、鎳鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)NiAl、鎳釩靶(ba)(ba)NiV、鎳鐵(tie)靶(ba)(ba)NiFe等(deng)。

2、根據不同應用方向劃分

（1）半導體關聯靶材

電極(ji)、布線薄(bo)膜：鋁(lv)靶(ba)材(cai)(cai)，銅靶(ba)材(cai)(cai)，金(jin)(jin)靶(ba)材(cai)(cai)，銀靶(ba)材(cai)(cai)，鈀靶(ba)材(cai)(cai)，鉑靶(ba)材(cai)(cai)，鋁(lv)硅(gui)合金(jin)(jin)靶(ba)材(cai)(cai)，鋁(lv)硅(gui)銅合金(jin)(jin)靶(ba)材(cai)(cai)等。

儲存器電極(ji)薄膜：鉬靶材(cai)(cai)，鎢靶材(cai)(cai)，鈦靶材(cai)(cai)等。

粘附薄(bo)膜：鎢靶材(cai)，鈦(tai)靶材(cai)等。

電容器絕緣膜(mo)薄膜(mo)：鋯鈦酸鉛靶材等。

（2）磁記錄靶材

垂直磁(ci)記錄(lu)薄膜：鈷鉻合金(jin)靶材(cai)等。

硬盤用薄膜：鈷鉻(ge)鉭合(he)金(jin)(jin)靶材，鈷鉻(ge)鉑合(he)金(jin)(jin)靶材，鈷鉻(ge)鉭鉑合(he)金(jin)(jin)靶材等。

薄膜磁頭(tou)：鈷(gu)鉭鉻合金(jin)靶材(cai)，鈷(gu)鉻鋯合金(jin)靶材(cai)等。

人工(gong)晶體薄膜：鈷鉑合金(jin)靶(ba)材，鈷鈀合金(jin)靶(ba)材等。

（3）光記錄靶材

相(xiang)變光(guang)盤記錄薄膜(mo)：硒化碲(di)靶(ba)材(cai)，硒化銻(ti)靶(ba)材(cai)，鍺銻(ti)碲(di)合金靶(ba)材(cai)，鍺碲(di)合金靶(ba)材(cai)等。

磁光盤記錄薄(bo)膜(mo)：鏑(di)鐵鈷合(he)(he)金(jin)靶材(cai)(cai)，鋱鏑(di)鐵合(he)(he)金(jin)靶材(cai)(cai)，鋱鐵鈷合(he)(he)金(jin)靶材(cai)(cai)，氧化鋁靶材(cai)(cai)，氧化鎂靶材(cai)(cai)，氮化硅靶材(cai)(cai)等。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、靶材的性能和指標

靶材(cai)制約(yue)著濺鍍(du)薄膜(mo)的物理(li)，力(li)學性(xing)能，影響鍍(du)膜(mo)質量，因而要(yao)求靶材(cai)的制備應滿足以下要(yao)求：

1、純(chun)度(du)(du)(du)：要求雜質(zhi)含量(liang)低純(chun)度(du)(du)(du)高(gao)(gao)，靶(ba)(ba)材的(de)(de)(de)純(chun)度(du)(du)(du)影響薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)均勻性，以純(chun)Al靶(ba)(ba)為(wei)例，純(chun)度(du)(du)(du)越(yue)高(gao)(gao)，濺射Al膜(mo)的(de)(de)(de)耐蝕性及電學、光學性能越(yue)好。不過不同用途的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材對純(chun)度(du)(du)(du)要求也不同，一(yi)般(ban)工(gong)業用靶(ba)(ba)材純(chun)度(du)(du)(du)要求不高(gao)(gao)，但就半導體、顯示器(qi)件等領域用靶(ba)(ba)材對純(chun)度(du)(du)(du)要求是(shi)十分嚴(yan)格的(de)(de)(de)，磁(ci)性薄(bo)膜(mo)用靶(ba)(ba)材對純(chun)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要求一(yi)般(ban)為(wei)99.9%以上，ITO中的(de)(de)(de)氧化銦(yin)以及氧化錫(xi)的(de)(de)(de)純(chun)度(du)(du)(du)則要求不低于99.99%。

2、雜(za)質含(han)量(liang)(liang)：靶材(cai)作(zuo)為濺射中的(de)(de)陰極源(yuan)，固體(ti)(ti)中的(de)(de)雜(za)質和氣孔中的(de)(de)O2和H2O是(shi)沉積薄膜的(de)(de)主要(yao)污染源(yuan)，不同用(yong)途的(de)(de)靶材(cai)對單個雜(za)質含(han)量(liang)(liang)的(de)(de)要(yao)求(qiu)也不同，如：半導體(ti)(ti)電極布線用(yong)的(de)(de)W，Mo，Ti等靶材(cai)對U，Th等放射性元(yuan)素的(de)(de)含(han)量(liang)(liang)要(yao)求(qiu)低于(yu)3*10-9，光盤(pan)反射膜用(yong)的(de)(de)Al合金靶材(cai)則要(yao)求(qiu)O2的(de)(de)含(han)量(liang)(liang)低于(yu)2*10-4。

3、高(gao)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)：為(wei)了減少(shao)靶(ba)材(cai)(cai)(cai)中的(de)(de)氣孔，提高(gao)薄(bo)膜的(de)(de)性(xing)(xing)能一般要求(qiu)靶(ba)材(cai)(cai)(cai)具(ju)(ju)有較高(gao)的(de)(de)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)，靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)不僅影響濺射時的(de)(de)沉(chen)積速率、濺射膜粒子的(de)(de)密度(du)(du)(du)和放電現象等，還影響濺射薄(bo)膜的(de)(de)電學和光(guang)學性(xing)(xing)能。致(zhi)(zhi)(zhi)密性(xing)(xing)越(yue)好(hao)(hao)，濺射膜粒子的(de)(de)密度(du)(du)(du)越(yue)低(di)，放電現象越(yue)弱(ruo)。高(gao)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)靶(ba)材(cai)(cai)(cai)具(ju)(ju)有導(dao)電、導(dao)熱性(xing)(xing)好(hao)(hao)，強度(du)(du)(du)高(gao)等優(you)點(dian)，使用(yong)這種靶(ba)材(cai)(cai)(cai)鍍膜，濺射功率小，成膜速率高(gao)，薄(bo)膜不易(yi)開裂，靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)使用(yong)壽命長，且濺鍍薄(bo)膜的(de)(de)電阻(zu)率低(di)，透光(guang)率高(gao)。靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)主要取決(jue)于制備工藝。一般而(er)言(yan)，鑄造靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)高(gao)而(er)燒(shao)結(jie)靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)相(xiang)對較低(di)，因(yin)此(ci)提高(gao)靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)(zhi)(zhi)密度(du)(du)(du)是燒(shao)結(jie)制備靶(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)技術關鍵之一。

4、成(cheng)分(fen)與組(zu)織結構均(jun)(jun)勻(yun)，靶材(cai)成(cheng)分(fen)均(jun)(jun)勻(yun)是(shi)鍍膜質量穩(wen)定的重要(yao)保(bao)證，尤其是(shi)對于復相結構的合金靶材(cai)和混合靶材(cai)。如ITO，為了保(bao)證膜質量，要(yao)求靶中In2O3-SnO2組(zu)成(cheng)均(jun)(jun)勻(yun)，都為93：7或91：9（分(fen)子比）。

5、晶粒尺寸細小，靶材的晶粒尺(chi)寸(cun)越(yue)細小，濺(jian)鍍薄膜的厚度分布越(yue)均勻，濺(jian)射速(su)率越(yue)快(kuai)。