一、靶材的分類有哪些

1、根據不同材質劃分

（1）金屬靶材

鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ni、鈦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ti、鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zn、鉻(ge)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cr、鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mg、鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Nb、錫靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Sn、鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Al、銦(yin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)In、鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Fe、鋯鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)ZrAl、鈦鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zr、鋁(lv)(lv)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Si、銅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cu、鉭(tan)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ta、鍺(zang)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ge、銀靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ag、鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Co、金靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Au、釓靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Gd、鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)La、釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Y、鈰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ce、不銹鋼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鎳鉻(ge)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Hf、鉬(mu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mo、鐵鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)FeNi、鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、W等。

（2）陶瓷靶材

ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、碳(tan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、一氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、五(wu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鈮(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，、二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)硼(peng)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)硼(peng)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)五(wu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鉭，五(wu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鈮(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硒化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硼(peng)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，碳(tan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，鈮(ni)酸(suan)鋰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鐠(pu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鋇(bei)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎳(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、濺射靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)等。

（3）合金靶材

鐵(tie)鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)FeCo、鋁(lv)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、鈦(tai)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)TiSi、鉻硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)CrSi、鋅(xin)(xin)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)ZnAl、鈦(tai)鋅(xin)(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材TiZn、鈦(tai)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鈦(tai)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)TiZr、鈦(tai)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)TiSi、鈦(tai)鎳(nie)(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)TiNi、鎳(nie)(nie)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鎳(nie)(nie)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)NiAl、鎳(nie)(nie)釩靶(ba)(ba)(ba)(ba)NiV、鎳(nie)(nie)鐵(tie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)NiFe等。

2、根據不同應用方向劃分

（1）半導體關聯靶材

電(dian)極(ji)、布線薄膜：鋁(lv)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，銅靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，金(jin)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，銀靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，鈀靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，鉑(bo)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，鋁(lv)硅(gui)合金(jin)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，鋁(lv)硅(gui)銅合金(jin)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)等。

儲存器(qi)電極薄膜：鉬(mu)靶材，鎢(wu)靶材，鈦靶材等(deng)。

粘附薄膜：鎢(wu)靶(ba)材，鈦(tai)靶(ba)材等。

電容(rong)器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛(qian)靶材等。

（2）磁記錄靶材

垂(chui)直磁記錄薄膜(mo)：鈷鉻合金靶材等(deng)。

硬盤用薄膜：鈷鉻鉭(tan)合金(jin)靶材(cai)，鈷鉻鉑合金(jin)靶材(cai)，鈷鉻鉭(tan)鉑合金(jin)靶材(cai)等。

薄(bo)膜磁頭：鈷(gu)鉭鉻合(he)金靶(ba)材，鈷(gu)鉻鋯合(he)金靶(ba)材等。

人(ren)工晶體薄膜(mo)：鈷鉑合金(jin)靶(ba)材，鈷鈀合金(jin)靶(ba)材等(deng)。

（3）光記錄靶材

相變光盤記(ji)錄薄(bo)膜：硒(xi)化(hua)碲靶材(cai)(cai)，硒(xi)化(hua)銻(ti)靶材(cai)(cai)，鍺(zang)銻(ti)碲合(he)金(jin)靶材(cai)(cai)，鍺(zang)碲合(he)金(jin)靶材(cai)(cai)等。

磁光盤記錄薄膜：鏑鐵(tie)鈷合(he)金(jin)(jin)靶(ba)材(cai)，鋱(te)鏑鐵(tie)合(he)金(jin)(jin)靶(ba)材(cai)，鋱(te)鐵(tie)鈷合(he)金(jin)(jin)靶(ba)材(cai)，氧化(hua)鋁靶(ba)材(cai)，氧化(hua)鎂靶(ba)材(cai)，氮化(hua)硅靶(ba)材(cai)等。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、靶材的性能和指標

靶材制(zhi)約著濺(jian)鍍薄膜(mo)的物理，力學(xue)性能，影響鍍膜(mo)質量(liang)，因而要(yao)求(qiu)靶材的制(zhi)備應滿足以下要(yao)求(qiu)：

1、純(chun)度(du)：要(yao)求(qiu)(qiu)雜質含(han)量(liang)低純(chun)度(du)高，靶材(cai)的(de)(de)(de)(de)純(chun)度(du)影響薄(bo)(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)(de)均(jun)勻(yun)性，以(yi)(yi)純(chun)Al靶為例(li)，純(chun)度(du)越(yue)高，濺射Al膜(mo)的(de)(de)(de)(de)耐蝕(shi)性及電(dian)學、光學性能越(yue)好。不(bu)(bu)過不(bu)(bu)同(tong)用途的(de)(de)(de)(de)靶材(cai)對純(chun)度(du)要(yao)求(qiu)(qiu)也(ye)不(bu)(bu)同(tong)，一(yi)般工業(ye)用靶材(cai)純(chun)度(du)要(yao)求(qiu)(qiu)不(bu)(bu)高，但就半導體、顯示(shi)器件等領(ling)域用靶材(cai)對純(chun)度(du)要(yao)求(qiu)(qiu)是(shi)十分嚴格的(de)(de)(de)(de)，磁性薄(bo)(bo)膜(mo)用靶材(cai)對純(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)一(yi)般為99.9%以(yi)(yi)上，ITO中的(de)(de)(de)(de)氧化(hua)銦以(yi)(yi)及氧化(hua)錫的(de)(de)(de)(de)純(chun)度(du)則要(yao)求(qiu)(qiu)不(bu)(bu)低于99.99%。

2、雜(za)(za)質(zhi)含(han)(han)(han)量(liang)：靶(ba)材(cai)作為濺射(she)中(zhong)(zhong)的(de)陰極(ji)源，固體(ti)(ti)中(zhong)(zhong)的(de)雜(za)(za)質(zhi)和氣孔中(zhong)(zhong)的(de)O2和H2O是(shi)沉(chen)積薄膜(mo)的(de)主要污(wu)染源，不(bu)同用途的(de)靶(ba)材(cai)對單個(ge)雜(za)(za)質(zhi)含(han)(han)(han)量(liang)的(de)要求也不(bu)同，如：半導體(ti)(ti)電極(ji)布線用的(de)W，Mo，Ti等(deng)靶(ba)材(cai)對U，Th等(deng)放射(she)性(xing)元素的(de)含(han)(han)(han)量(liang)要求低于3*10-9，光盤反(fan)射(she)膜(mo)用的(de)Al合金靶(ba)材(cai)則(ze)要求O2的(de)含(han)(han)(han)量(liang)低于2*10-4。

3、高(gao)(gao)(gao)(gao)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)：為了(le)減少靶(ba)材(cai)(cai)中的(de)(de)氣孔，提高(gao)(gao)(gao)(gao)薄膜(mo)(mo)的(de)(de)性能一般(ban)要求(qiu)靶(ba)材(cai)(cai)具有(you)(you)較高(gao)(gao)(gao)(gao)的(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)，靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)不僅影響濺(jian)射時(shi)的(de)(de)沉積速(su)率(lv)(lv)、濺(jian)射膜(mo)(mo)粒子的(de)(de)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)和放(fang)電(dian)(dian)現象等，還影響濺(jian)射薄膜(mo)(mo)的(de)(de)電(dian)(dian)學(xue)和光學(xue)性能。致(zhi)密(mi)(mi)(mi)性越(yue)好，濺(jian)射膜(mo)(mo)粒子的(de)(de)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)越(yue)低，放(fang)電(dian)(dian)現象越(yue)弱。高(gao)(gao)(gao)(gao)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)靶(ba)材(cai)(cai)具有(you)(you)導電(dian)(dian)、導熱性好，強度(du)(du)(du)高(gao)(gao)(gao)(gao)等優(you)點(dian)，使用這種靶(ba)材(cai)(cai)鍍(du)膜(mo)(mo)，濺(jian)射功(gong)率(lv)(lv)小，成(cheng)膜(mo)(mo)速(su)率(lv)(lv)高(gao)(gao)(gao)(gao)，薄膜(mo)(mo)不易(yi)開裂(lie)，靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)使用壽(shou)命長，且濺(jian)鍍(du)薄膜(mo)(mo)的(de)(de)電(dian)(dian)阻率(lv)(lv)低，透光率(lv)(lv)高(gao)(gao)(gao)(gao)。靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)主(zhu)要取(qu)決于(yu)制(zhi)備工藝(yi)。一般(ban)而言，鑄造(zao)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)高(gao)(gao)(gao)(gao)而燒結靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)相對較低，因(yin)此提高(gao)(gao)(gao)(gao)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)是燒結制(zhi)備靶(ba)材(cai)(cai)的(de)(de)技術關鍵之一。

4、成分與組(zu)織(zhi)結構均(jun)勻，靶(ba)材成分均(jun)勻是(shi)鍍膜(mo)質量(liang)穩定的(de)重(zhong)要保證，尤其是(shi)對于復相(xiang)結構的(de)合金靶(ba)材和混合靶(ba)材。如ITO，為(wei)了保證膜(mo)質量(liang)，要求靶(ba)中(zhong)In2O3-SnO2組(zu)成均(jun)勻，都為(wei)93：7或91：9（分子比）。

5、晶粒尺寸細小，靶材的晶粒尺寸越(yue)細小，濺鍍薄膜的厚度分布越(yue)均勻，濺射速率越(yue)快。