一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安(an)裝在真空鍍膜(mo)(mo)(mo)機上鍍膜(mo)(mo)(mo)用的，可鍍導電(dian)膜(mo)(mo)(mo)、絕緣膜(mo)(mo)(mo)、裝飾膜(mo)(mo)(mo)，超硬膜(mo)(mo)(mo)、潤滑膜(mo)(mo)(mo)、磁(ci)性膜(mo)(mo)(mo)等功(gong)能薄膜(mo)(mo)(mo)。

磁控濺(jian)射鍍(du)(du)膜(mo)(mo)是一種(zhong)(zhong)新型(xing)的物理(li)氣相鍍(du)(du)膜(mo)(mo)方式，就(jiu)(jiu)是用電(dian)子槍(qiang)系統把電(dian)子發(fa)射并聚焦在被(bei)鍍(du)(du)的材(cai)(cai)料上(shang)，使其被(bei)濺(jian)射出來的原(yuan)(yuan)子遵循(xun)動量轉換原(yuan)(yuan)理(li)以(yi)較高的動能脫離材(cai)(cai)料飛向基(ji)片淀積成膜(mo)(mo)。這種(zhong)(zhong)被(bei)鍍(du)(du)的材(cai)(cai)料就(jiu)(jiu)叫濺(jian)射靶材(cai)(cai)。濺(jian)射靶材(cai)(cai)有金屬，合(he)金，陶瓷(ci)化合(he)物等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)靶(ba)材(cai)主要是(shi)由靶(ba)坯(pi)(pi)、背板(ban)(ban)(ban)等部分(fen)構(gou)成，靶(ba)坯(pi)(pi)屬(shu)于高(gao)(gao)速(su)離(li)子束流(liu)轟擊(ji)的(de)目(mu)標(biao)材(cai)料，是(shi)核心部分(fen)，在濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)鍍膜(mo)的(de)過(guo)(guo)程中，靶(ba)坯(pi)(pi)被離(li)子撞擊(ji)后(hou)，表面原(yuan)子被濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)飛散出來并沉積于基板(ban)(ban)(ban)上(shang)制成電(dian)子薄膜(mo)。因為高(gao)(gao)純(chun)度金屬(shu)強度較(jiao)低，可(ke)是(shi)濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)靶(ba)材(cai)需(xu)要安裝在專用的(de)機(ji)臺內完成濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)過(guo)(guo)程，機(ji)臺內部為高(gao)(gao)電(dian)壓、高(gao)(gao)真空環(huan)境，所以(yi)超高(gao)(gao)純(chun)金屬(shu)的(de)濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)靶(ba)坯(pi)(pi)需(xu)要與背板(ban)(ban)(ban)通(tong)過(guo)(guo)不(bu)同的(de)焊接(jie)工(gong)藝進(jin)行接(jie)合，背板(ban)(ban)(ban)主要起到了固定濺(jian)(jian)(jian)(jian)射(she)(she)(she)(she)靶(ba)材(cai)的(de)作用，以(yi)及良好的(de)導(dao)(dao)電(dian)、導(dao)(dao)熱性能。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要應用(yong)于電(dian)(dian)子(zi)及信息(xi)產業，如集成電(dian)(dian)路、信息(xi)存儲(chu)、液(ye)晶顯示屏、激光(guang)存儲(chu)器、電(dian)(dian)子(zi)控制器件等；亦(yi)可應用(yong)于玻(bo)璃(li)鍍膜(mo)領域(yu)；還(huan)可以應用(yong)于耐(nai)磨材料、高溫耐(nai)蝕(shi)、高檔(dang)裝飾用(yong)品等行業。