一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安裝在真空鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)機上鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)用的，可鍍(du)導電膜(mo)(mo)(mo)、絕緣膜(mo)(mo)(mo)、裝飾膜(mo)(mo)(mo)，超硬(ying)膜(mo)(mo)(mo)、潤(run)滑膜(mo)(mo)(mo)、磁性膜(mo)(mo)(mo)等功能薄膜(mo)(mo)(mo)。

磁控濺(jian)射鍍膜(mo)是(shi)一(yi)種(zhong)新型的(de)物理氣相鍍膜(mo)方式，就是(shi)用電子槍系統把電子發(fa)射并(bing)聚(ju)焦在被鍍的(de)材(cai)(cai)(cai)料(liao)上(shang)，使其被濺(jian)射出來(lai)的(de)原(yuan)子遵循動(dong)量轉換原(yuan)理以較高的(de)動(dong)能(neng)脫離(li)材(cai)(cai)(cai)料(liao)飛向基片淀積(ji)成膜(mo)。這(zhe)種(zhong)被鍍的(de)材(cai)(cai)(cai)料(liao)就叫濺(jian)射靶材(cai)(cai)(cai)。濺(jian)射靶材(cai)(cai)(cai)有金屬，合金，陶瓷化合物等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)主(zhu)要是(shi)由靶(ba)(ba)(ba)(ba)坯(pi)(pi)、背(bei)板等部(bu)分構成(cheng)，靶(ba)(ba)(ba)(ba)坯(pi)(pi)屬于(yu)高速離子(zi)束流轟擊(ji)的(de)目標(biao)材(cai)(cai)料，是(shi)核心部(bu)分，在濺(jian)射(she)(she)鍍(du)膜的(de)過程(cheng)中，靶(ba)(ba)(ba)(ba)坯(pi)(pi)被離子(zi)撞(zhuang)擊(ji)后，表面原子(zi)被濺(jian)射(she)(she)飛(fei)散出來并沉積于(yu)基板上制(zhi)成(cheng)電(dian)子(zi)薄膜。因為高純(chun)度(du)金屬強(qiang)度(du)較(jiao)低(di)，可是(shi)濺(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)需要安裝在專用(yong)的(de)機(ji)(ji)臺(tai)內完成(cheng)濺(jian)射(she)(she)過程(cheng)，機(ji)(ji)臺(tai)內部(bu)為高電(dian)壓(ya)、高真空環境，所(suo)以超高純(chun)金屬的(de)濺(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)(ba)(ba)坯(pi)(pi)需要與背(bei)板通過不同(tong)的(de)焊接工(gong)藝(yi)進行接合，背(bei)板主(zhu)要起到了固定濺(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)作用(yong)，以及良好的(de)導電(dian)、導熱性能。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要應用(yong)(yong)于(yu)(yu)電(dian)子及(ji)信(xin)息(xi)(xi)產業，如集成電(dian)路、信(xin)息(xi)(xi)存儲、液晶顯示屏、激光(guang)存儲器、電(dian)子控制器件(jian)等；亦(yi)可應用(yong)(yong)于(yu)(yu)玻璃鍍(du)膜領域；還可以應用(yong)(yong)于(yu)(yu)耐磨材料(liao)、高(gao)溫耐蝕、高(gao)檔裝飾用(yong)(yong)品等行業。