一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安裝在真空鍍膜(mo)機上鍍膜(mo)用的(de)，可(ke)鍍導電(dian)膜(mo)、絕緣膜(mo)、裝飾膜(mo)，超硬膜(mo)、潤滑膜(mo)、磁性膜(mo)等功能(neng)薄膜(mo)。

磁控濺射(she)(she)鍍膜是(shi)一種(zhong)(zhong)新型的(de)物(wu)(wu)理氣相鍍膜方(fang)式，就(jiu)是(shi)用電子(zi)槍系統把電子(zi)發(fa)射(she)(she)并聚焦在被鍍的(de)材料上(shang)，使其被濺射(she)(she)出來(lai)的(de)原子(zi)遵循動量轉(zhuan)換原理以較高的(de)動能脫離(li)材料飛向基片(pian)淀積(ji)成膜。這種(zhong)(zhong)被鍍的(de)材料就(jiu)叫濺射(she)(she)靶(ba)材。濺射(she)(she)靶(ba)材有金屬，合(he)金，陶(tao)瓷化合(he)物(wu)(wu)等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)射(she)(she)(she)(she)靶材(cai)主要是(shi)由靶坯(pi)(pi)、背(bei)板(ban)等部分構(gou)成(cheng)，靶坯(pi)(pi)屬于(yu)高速離(li)子束流(liu)轟擊(ji)的(de)目(mu)標材(cai)料，是(shi)核心部分，在(zai)濺(jian)射(she)(she)(she)(she)鍍(du)膜的(de)過(guo)程中，靶坯(pi)(pi)被離(li)子撞擊(ji)后，表面(mian)原子被濺(jian)射(she)(she)(she)(she)飛散出來并沉積(ji)于(yu)基(ji)板(ban)上制成(cheng)電(dian)(dian)子薄膜。因為高純(chun)度金屬強度較(jiao)低，可是(shi)濺(jian)射(she)(she)(she)(she)靶材(cai)需要安裝在(zai)專(zhuan)用的(de)機臺內完成(cheng)濺(jian)射(she)(she)(she)(she)過(guo)程，機臺內部為高電(dian)(dian)壓、高真空環境(jing)，所以(yi)超(chao)高純(chun)金屬的(de)濺(jian)射(she)(she)(she)(she)靶坯(pi)(pi)需要與背(bei)板(ban)通過(guo)不同的(de)焊接工藝進行(xing)接合(he)，背(bei)板(ban)主要起到了固定濺(jian)射(she)(she)(she)(she)靶材(cai)的(de)作用，以(yi)及良好(hao)的(de)導(dao)電(dian)(dian)、導(dao)熱性(xing)能(neng)。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要應(ying)用于(yu)電(dian)子及信息(xi)產業(ye)，如(ru)集成電(dian)路、信息(xi)存儲(chu)、液晶顯示屏、激光存儲(chu)器(qi)(qi)、電(dian)子控制器(qi)(qi)件等；亦可(ke)應(ying)用于(yu)玻璃鍍膜(mo)領域；還(huan)可(ke)以應(ying)用于(yu)耐(nai)磨材料、高溫耐(nai)蝕、高檔裝飾(shi)用品等行(xing)業(ye)。