一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安裝在真(zhen)空鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)機上(shang)鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)用的(de)，可鍍(du)(du)(du)導電膜(mo)(mo)、絕緣膜(mo)(mo)、裝飾膜(mo)(mo)，超硬膜(mo)(mo)、潤滑膜(mo)(mo)、磁性膜(mo)(mo)等功(gong)能(neng)薄膜(mo)(mo)。

磁控濺射鍍膜(mo)是(shi)一種新型的(de)物理(li)氣相鍍膜(mo)方式，就是(shi)用電子槍系(xi)統把電子發射并聚(ju)焦在被鍍的(de)材料(liao)上(shang)，使(shi)其被濺射出來的(de)原(yuan)子遵循動量轉換原(yuan)理(li)以較高的(de)動能脫(tuo)離材料(liao)飛向基片淀積(ji)成膜(mo)。這種被鍍的(de)材料(liao)就叫(jiao)濺射靶材。濺射靶材有金(jin)屬，合金(jin)，陶瓷(ci)化(hua)合物等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)射(she)(she)靶(ba)材主要(yao)是(shi)由(you)靶(ba)坯、背(bei)板等部分構成(cheng)，靶(ba)坯屬(shu)于高(gao)速(su)離(li)子束流轟擊的(de)目標(biao)材料，是(shi)核心部分，在濺(jian)射(she)(she)鍍膜的(de)過程(cheng)中，靶(ba)坯被離(li)子撞擊后，表面原子被濺(jian)射(she)(she)飛散出來(lai)并沉(chen)積于基板上制成(cheng)電(dian)子薄(bo)膜。因為高(gao)純(chun)度(du)金屬(shu)強度(du)較低，可是(shi)濺(jian)射(she)(she)靶(ba)材需(xu)要(yao)安裝在專用的(de)機(ji)臺內完成(cheng)濺(jian)射(she)(she)過程(cheng)，機(ji)臺內部為高(gao)電(dian)壓、高(gao)真空環(huan)境，所(suo)以超高(gao)純(chun)金屬(shu)的(de)濺(jian)射(she)(she)靶(ba)坯需(xu)要(yao)與背(bei)板通過不同的(de)焊接(jie)工藝進(jin)行接(jie)合，背(bei)板主要(yao)起到了固定濺(jian)射(she)(she)靶(ba)材的(de)作用，以及(ji)良好的(de)導電(dian)、導熱性能。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要(yao)應用于(yu)電(dian)子(zi)及信息產業(ye)，如集(ji)成電(dian)路、信息存(cun)儲、液晶顯(xian)示屏、激(ji)光存(cun)儲器、電(dian)子(zi)控制器件等；亦可(ke)應用于(yu)玻璃鍍(du)膜領域(yu)；還可(ke)以(yi)應用于(yu)耐磨材料、高(gao)溫耐蝕、高(gao)檔裝飾用品等行業(ye)。