芒果视频下载

網站分類
登錄 |    

硅片清洗設備維修方法有哪些 硅片清洗設備怎么保養

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-21 評論 0
摘要:硅片的清洗很重要,它影響電池的轉換效率,如器件的性能中反向電流迅速加大及器件失效等,因此關于硅片清洗設備也很重要,硅片清洗設備好是好,但一故障就難搞,這是許多高端電器使用者的共同感嘆。一旦出現故障,極貴的維修費用也讓人頭疼,所以接下來就給大家說說硅片清洗設備維修方法有哪些以及硅片清洗設備怎么保養,希望能給大家省下一筆沒必要的維修費。

一、硅片清洗設備維修方法有哪些

1、換能器損壞:

分析:可(ke)能硅片清洗設備(bei)因長(chang)時間處(chu)于開機使用狀態,溫度會逐(zhu)漸(jian)上升導致(zhi)膠體融化(hua)換能器脫落或換能器陶瓷(ci)部分斷裂。

檢(jian)測(ce)和解決:用搖表測(ce)量(liang)換能(neng)器的(de)絕緣強(qiang)度(du)(du),絕緣強(qiang)度(du)(du)在200MΩ以下已無法使用,須換新的(de)換能(neng)器。

換(huan)能器的內部陶瓷(ci)也會(hui)由于長(chang)期使(shi)用出現斷(duan)裂,使(shi)其不(bu)能正常工作。

2、硅片清洗設備的保險損壞:

在(zai)開機后如(ru)發現無電(dian)源顯(xian)示,無動作(zuo),首先要看電(dian)源座內保險是否損壞。

分析:有可(ke)能是(shi)用(yong)戶接(jie)地(di)線(xian)與火(huo)線(xian)或零線(xian)混用(yong),并沒有接(jie)地(di)(本機地(di)線(xian)是(shi)與機器外殼(ke)相連接(jie)),還(huan)有可(ke)能是(shi)硅片清(qing)洗(xi)設備短(duan)路,元器件老化出現短(duan)路現象,導致保險損壞。

檢(jian)測(ce)和解決:拿(na)出保險(xian)觀看(kan),有(you)無斷(duan)裂,用(yong)萬用(yong)表(biao)通斷(duan)檔測(ce)量(liang)是否斷(duan)開,更換新(xin)器件。

3、硅片清洗設備的功率管損壞:

分析:主(zhu)板上的功率管會(hui)因為超(chao)聲波清洗機長時間不間斷使(shi)用(yong)或(huo)清洗液體太少(shao)長時間使(shi)用(yong),使(shi)功率管出現短路情況(kuang)。

檢測和解決:當(dang)功(gong)率管(guan)(guan)(guan)在(zai)主(zhu)板上連接式,用(yong)萬(wan)用(yong)表測量(liang)功(gong)率管(guan)(guan)(guan)兩(liang)側(ce)管(guan)(guan)(guan)腳(jiao)的阻(zu)值(zhi),正常情況下應在(zai)22Ω左右。拿(na)下功(gong)率管(guan)(guan)(guan)后(與(yu)主(zhu)板斷開連接),測量(liang)其各個管(guan)(guan)(guan)腳(jiao)間應是不通的。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗設備怎么保養

硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的,而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定,因此,對硅片清洗(xi)設備的日常監(jian)控和(he)維護就尤為(wei)重要。

1、進(jin)行日常的(de)生產(chan)時(shi),首先(xian)需準備少量潔凈的(de)硅(gui)(gui)片(pian)(如10片(pian)),每天在(zai)進(jin)行正常的(de)硅(gui)(gui)片(pian)清洗前(qian),對(dui)該(gai)10個(ge)桂片(pian)進(jin)行清洗,且在(zai)清洗前(qian)后對(dui)該(gai)硅(gui)(gui)片(pian)進(jin)行表面顆(ke)粒(li)的(de)檢測(ce)(ce),然后對(dui)測(ce)(ce)試結果進(jin)行分析。

如(ru)果發現清(qing)(qing)洗(xi)(xi)后硅片表(biao)(biao)面的顆粒數(shu)跟金(jin)屬(shu)沾污(wu)較清(qing)(qing)洗(xi)(xi)前減少或(huo)無明顯變化,則表(biao)(biao)面清(qing)(qing)洗(xi)(xi)設備工(gong)作正常,可(ke)以進行(xing)正常的硅片清(qing)(qing)洗(xi)(xi);如(ru)果發現清(qing)(qing)洗(xi)(xi)后硅片表(biao)(biao)面顆粒數(shu)跟金(jin)屬(shu)沾污(wu)較清(qing)(qing)洗(xi)(xi)前明顯增加,則表(biao)(biao)明清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機工(gong)作異常,需進行(xing)相應的維護。

針對此工作也可以根(gen)據(ju)生產(chan)的具體情況(kuang)對其(qi)即(ji)進行SPC控(kong)制,即(ji):顆(ke)粒去除數(shu)=清洗后顆(ke)粒數(shu)-清洗前顆(ke)粒數(shu)

2、硅(gui)片在清洗過程中,如(ru)發現硅(gui)片表面(mian)顆粒跟金屬沾污超標,則需進(jin)行如(ru)下處理(li):

(1)將各槽中原液(ye)排干,用DI水將槽子沖洗一次,然后將槽中水排盡(jin)。

(2)加(jia)入(ru)少許(lgallon)DI水(shui),然(ran)后加(jia)入(ru)lgal-lonH2O2,再加(jia)入(ru)少許DI水(shui),然(ran)后加(jia)工入(ru)lgallonNH4OH,再加(jia)DI水(shui)至(zhi)槽(cao)滿(man)。如果(guo)是工藝(yi)槽(cao),則讓混合液(ye)循環(huan)2h,否則靜置2h。

(3)將槽中液排盡(jin),用DI水再(zai)次沖洗(xi)槽子一次,將槽液排盡(jin)。

(4)重新對清洗設備進行測(ce)試。

網站提醒和聲明
本(ben)站(zhan)為注(zhu)冊(ce)用戶(hu)提供(gong)信息存儲空(kong)間服務,非“MAIGOO編輯上傳(chuan)提供(gong)”的文(wen)章/文(wen)字均是注(zhu)冊(ce)用戶(hu)自主發布上傳(chuan),不代(dai)表本(ben)站(zhan)觀點,版權(quan)歸原作者所(suo)有(you),如有(you)侵權(quan)、虛假信息、錯誤信息或任(ren)何問題(ti),請及(ji)時聯系(xi)我們,我們將在(zai)第一時間刪除(chu)或更正。 申請刪除>> 糾錯>> 投訴侵權>> 網頁上相關信(xin)息(xi)的知(zhi)識產權歸網站方所有(you)(包(bao)括但不(bu)限于文(wen)字、圖片、圖表、著作權、商標權、為用戶(hu)提供的商業信(xin)息(xi)等(deng)),非經(jing)許可(ke)不(bu)得抄襲或使用。
提交說明: 快速提交發布>> 查看提交幫助>> 注冊登錄>>
發表評論
您還未登錄,依《網絡安全法》相關要求,請您登錄賬戶后再提交發布信息。點擊登錄>>如您還未注冊,可,感謝您的理解及支持!
最新評論
暫無評論
淺嘗不止—
注冊用戶-橙心誠意的個人賬號
關注
頁面相關分類
裝修居住/場景空間
生活知識百科分類
地區城市
更多熱門城市 省份地區
人群
季節
TOP熱門知識榜
知識體系榜