一、硅片清洗設備維修方法有哪些
1、換能器損壞：
分析：可能(neng)(neng)硅片(pian)清洗設備因長時(shi)間處于開機使(shi)用狀(zhuang)態，溫(wen)度會逐漸上升導(dao)致膠體融化換(huan)能(neng)(neng)器脫落或換(huan)能(neng)(neng)器陶瓷部分斷裂。
檢測和解決(jue)：用(yong)搖表測量換(huan)能(neng)器的絕緣強度，絕緣強度在200MΩ以(yi)下已無(wu)法使用(yong)，須(xu)換(huan)新(xin)的換(huan)能(neng)器。
換能(neng)器的內部陶瓷也會由于長期使用(yong)出(chu)現斷裂(lie)，使其(qi)不能(neng)正(zheng)常工作。
2、硅片清洗設備的保險損壞：
在(zai)開機(ji)后如發現(xian)無電源顯示，無動作，首(shou)先要看電源座(zuo)內(nei)保險是(shi)否損壞。
分析：有可能是(shi)(shi)用戶(hu)接地(di)(di)線(xian)(xian)與火線(xian)(xian)或零(ling)線(xian)(xian)混用，并沒有接地(di)(di)（本機地(di)(di)線(xian)(xian)是(shi)(shi)與機器外殼相連接），還(huan)有可能是(shi)(shi)硅片清洗設(she)備(bei)短路，元器件老化出現短路現象，導致保險損壞。
檢測(ce)和解決(jue)：拿出保險觀看，有無斷(duan)裂，用萬用表通斷(duan)檔測(ce)量(liang)是(shi)否斷(duan)開，更換(huan)新器件(jian)。
3、硅片清洗設備的功率管損壞：
分析：主(zhu)板(ban)上的功率管(guan)會因為超聲波清洗機長(chang)時間(jian)不間(jian)斷使用(yong)或清洗液體太少長(chang)時間(jian)使用(yong)，使功率管(guan)出(chu)現短路情況。
檢測(ce)(ce)和解決：當功(gong)率管(guan)在主板上連接(jie)式(shi)，用萬用表(biao)測(ce)(ce)量功(gong)率管(guan)兩側管(guan)腳(jiao)的阻值，正常(chang)情況(kuang)下應(ying)(ying)在22Ω左右。拿下功(gong)率管(guan)后（與主板斷開(kai)連接(jie)），測(ce)(ce)量其各(ge)個管(guan)腳(jiao)間應(ying)(ying)是不(bu)通的。
二、硅片清洗設備怎么保養
硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定，因此，對硅片清洗設備的日(ri)常(chang)監控和維(wei)護就尤為重要。
1、進行(xing)(xing)日常的(de)生產時(shi)，首先(xian)需準備少量潔(jie)凈的(de)硅(gui)片（如(ru)10片），每(mei)天在(zai)進行(xing)(xing)正常的(de)硅(gui)片清洗前(qian)，對(dui)該10個(ge)桂片進行(xing)(xing)清洗，且(qie)在(zai)清洗前(qian)后(hou)對(dui)該硅(gui)片進行(xing)(xing)表(biao)面顆(ke)粒的(de)檢測，然(ran)后(hou)對(dui)測試結果進行(xing)(xing)分(fen)析。
如果發(fa)現(xian)(xian)清(qing)洗(xi)(xi)后硅片(pian)表面(mian)(mian)的顆粒(li)數(shu)跟金屬沾(zhan)污(wu)較清(qing)洗(xi)(xi)前(qian)減少或無(wu)明(ming)顯(xian)變化，則(ze)表面(mian)(mian)清(qing)洗(xi)(xi)設(she)備工作(zuo)正常，可(ke)以(yi)進行正常的硅片(pian)清(qing)洗(xi)(xi)；如果發(fa)現(xian)(xian)清(qing)洗(xi)(xi)后硅片(pian)表面(mian)(mian)顆粒(li)數(shu)跟金屬沾(zhan)污(wu)較清(qing)洗(xi)(xi)前(qian)明(ming)顯(xian)增加，則(ze)表明(ming)清(qing)洗(xi)(xi)機工作(zuo)異常，需進行相應的維護。
針對此工作(zuo)也可以根據生產的(de)具體情(qing)況對其即(ji)進行SPC控制(zhi)，即(ji)：顆粒去除數=清(qing)洗(xi)后(hou)顆粒數-清(qing)洗(xi)前顆粒數
2、硅片(pian)在清洗過(guo)程中，如(ru)發現硅片(pian)表(biao)面顆(ke)粒(li)跟金屬沾污(wu)超標(biao)，則需進行如(ru)下處(chu)理(li)：
（1）將(jiang)各(ge)槽(cao)中原液排干，用(yong)DI水將(jiang)槽(cao)子沖洗一次，然后將(jiang)槽(cao)中水排盡。
（2）加(jia)入(ru)(ru)少許（lgallon）DI水(shui)，然后加(jia)入(ru)(ru)lgal-lonH2O2，再加(jia)入(ru)(ru)少許DI水(shui)，然后加(jia)工入(ru)(ru)lgallonNH4OH，再加(jia)DI水(shui)至槽(cao)滿。如(ru)果是工藝槽(cao)，則(ze)讓混合液循環2h，否則(ze)靜置(zhi)2h。
（3）將槽中(zhong)液排(pai)(pai)盡，用DI水再(zai)次(ci)沖洗槽子一次(ci)，將槽液排(pai)(pai)盡。
（4）重新(xin)對(dui)清洗(xi)設備進(jin)行測試。
