一、硅片清洗設備維修方法有哪些
1、換能器損壞：
分析：可能硅片清洗(xi)設備因長(chang)時間處于開機使用狀態(tai)，溫度會逐(zhu)漸上升(sheng)導致(zhi)膠(jiao)體(ti)融化換能器(qi)脫落或(huo)換能器(qi)陶瓷部(bu)分斷裂。
檢測(ce)和解決：用搖表(biao)測(ce)量換(huan)(huan)能器的絕(jue)緣(yuan)強度，絕(jue)緣(yuan)強度在200MΩ以下(xia)已(yi)無法(fa)使用，須換(huan)(huan)新(xin)的換(huan)(huan)能器。
換能器的內部陶瓷也會由于長期使(shi)(shi)用出現斷裂，使(shi)(shi)其不能正常工(gong)作。
2、硅片清洗設備的保險損壞：
在開機后如發現無(wu)電源(yuan)顯示，無(wu)動作，首先要看電源(yuan)座內保險是(shi)否損壞。
分析：有可(ke)能是用戶接(jie)地(di)線與火線或(huo)零線混用，并沒有接(jie)地(di)（本機地(di)線是與機器外殼相連接(jie)），還有可(ke)能是硅片清洗(xi)設備(bei)短路，元器件(jian)老(lao)化出現短路現象，導致保險損壞。
檢(jian)測和解決：拿出(chu)保險觀看(kan)，有(you)無斷裂，用萬用表通斷檔測量是否斷開，更換(huan)新器(qi)件(jian)。
3、硅片清洗設備的功率管損壞：
分析：主(zhu)板上的(de)功率管會因為超聲波(bo)清洗機長(chang)時(shi)間(jian)不間(jian)斷使用(yong)或清洗液體太少(shao)長(chang)時(shi)間(jian)使用(yong)，使功率管出現短路(lu)情(qing)況。
檢測(ce)和解決：當功(gong)率(lv)(lv)管(guan)在主板上連接式，用萬用表測(ce)量(liang)功(gong)率(lv)(lv)管(guan)兩側管(guan)腳的阻值，正常情況下應在22Ω左右。拿(na)下功(gong)率(lv)(lv)管(guan)后（與主板斷開連接），測(ce)量(liang)其各(ge)個管(guan)腳間應是不(bu)通的。
二、硅片清洗設備怎么保養
硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定，因此，對硅片清(qing)洗設備的日常監控(kong)和維護(hu)就尤為重(zhong)要。
1、進(jin)(jin)(jin)行(xing)日常(chang)的(de)(de)(de)生產時(shi)，首先需準備少(shao)量(liang)潔凈(jing)的(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)(pian)（如(ru)10片(pian)(pian)），每天在(zai)進(jin)(jin)(jin)行(xing)正常(chang)的(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)(pian)清(qing)洗(xi)(xi)前，對該10個(ge)桂片(pian)(pian)進(jin)(jin)(jin)行(xing)清(qing)洗(xi)(xi)，且在(zai)清(qing)洗(xi)(xi)前后對該硅(gui)片(pian)(pian)進(jin)(jin)(jin)行(xing)表面(mian)顆(ke)粒(li)的(de)(de)(de)檢測(ce)，然后對測(ce)試結果進(jin)(jin)(jin)行(xing)分析。
如(ru)果(guo)發現清洗(xi)后硅(gui)片(pian)(pian)表(biao)(biao)面(mian)的顆粒(li)數跟金屬(shu)沾(zhan)污較(jiao)清洗(xi)前減(jian)少或(huo)無明顯(xian)(xian)變化，則表(biao)(biao)面(mian)清洗(xi)設備工作正(zheng)常(chang)，可(ke)以進行正(zheng)常(chang)的硅(gui)片(pian)(pian)清洗(xi)；如(ru)果(guo)發現清洗(xi)后硅(gui)片(pian)(pian)表(biao)(biao)面(mian)顆粒(li)數跟金屬(shu)沾(zhan)污較(jiao)清洗(xi)前明顯(xian)(xian)增加，則表(biao)(biao)明清洗(xi)機(ji)工作異常(chang)，需進行相應的維護。
針對此工作也可以(yi)根據生產的具體情(qing)況對其即進行SPC控制，即：顆粒去除(chu)數=清洗后(hou)顆粒數-清洗前顆粒數
2、硅片在(zai)清(qing)洗過程(cheng)中，如發現硅片表面顆粒跟金屬沾污超標(biao)，則需進行如下處理：
（1）將各槽中原液排干(gan)，用DI水將槽子沖洗(xi)一次(ci)，然后(hou)將槽中水排盡。
（2）加(jia)(jia)入(ru)少(shao)許(xu)（lgallon）DI水(shui)，然(ran)后加(jia)(jia)入(ru)lgal-lonH2O2，再加(jia)(jia)入(ru)少(shao)許(xu)DI水(shui)，然(ran)后加(jia)(jia)工入(ru)lgallonNH4OH，再加(jia)(jia)DI水(shui)至槽滿。如果(guo)是(shi)工藝槽，則讓混合(he)液循環2h，否則靜置2h。
（3）將(jiang)(jiang)槽中液(ye)排(pai)盡(jin)，用DI水再次沖洗槽子一(yi)次，將(jiang)(jiang)槽液(ye)排(pai)盡(jin)。
（4）重新(xin)對(dui)清洗設備進行測試(shi)。
