一、硅片清洗工藝步驟有哪些
吸(xi)附在硅(gui)片表(biao)面上的(de)雜(za)(za)質可分為分子型(xing)、離子型(xing)和(he)原(yuan)子型(xing)三(san)種情況。其中分子型(xing)雜(za)(za)質與硅(gui)片表(biao)面之間的(de)吸(xi)附力較(jiao)弱，清(qing)除這類雜(za)(za)質粒子比(bi)較(jiao)容易。它們(men)多屬油脂類雜(za)(za)質，具有疏(shu)水性的(de)特點(dian)，對于清(qing)除離子型(xing)和(he)原(yuan)子型(xing)雜(za)(za)質具有掩蔽作用。
因此在對硅片進行化(hua)學清洗時，首先應該(gai)把它們(men)清除干凈。離子型和原(yuan)子型吸附(fu)的雜(za)質屬于化(hua)學吸附(fu)雜(za)質，其吸附(fu)力都較強。
在一(yi)般(ban)情況下，原子型吸(xi)附雜(za)(za)質的量較小，因此在化學清洗時(shi)，先清除(chu)掉離子型吸(xi)附雜(za)(za)質，然后再清除(chu)殘存的離子型雜(za)(za)質及(ji)原子型雜(za)(za)質。
最后用高純去離子水(shui)將硅(gui)片沖冼干凈(jing)，再加溫烘干或甩干就可得到潔凈(jing)表面的硅(gui)片。
綜上所述，清洗硅片的一般工藝程序為：去分子→去離子→去原子→去離子水沖洗。另外(wai)，為去除硅片表面的氧化層，常要增加一個稀氫氟酸浸泡步驟(zou)。
二、硅片清洗后有水印怎么辦
1、沖(chong)洗(xi)不干(gan)(gan)凈，可以拿一些干(gan)(gan)凈的硅片再重新清(qing)洗(xi)一次(ci)，不要(yao)過清(qing)洗(xi)劑(ji)(ji)槽(cao)，看是否(fou)有水(shui)印出(chu)現，若無(wu)，則是清(qing)洗(xi)劑(ji)(ji)的問題(ti)，調整即可。
2、烘(hong)干(gan)(gan)不夠，將(jiang)硅片在進入烘(hong)干(gan)(gan)通道(dao)前(qian)取(qu)出甩干(gan)(gan)或吹干(gan)(gan)，看是否有(you)水印，如無，則是加大烘(hong)干(gan)(gan)通道(dao)的力度。
3、水中(zhong)雜質(zhi)含量過高，造成不(bu)易清洗(xi)，清除水中(zhong)的雜質(zhi)即(ji)可。
