一、ITO濺射靶材的制作方法

1、真空熱壓

真空熱壓利用熱能和機械能對ITO粉體進行致密化，可生產出密度為91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優勢較小。

2、熱等靜壓

熱等靜壓（HIP）通(tong)過在壓力(li)下(xia)燒結或(huo)在高溫下(xia)加壓來制備ITO濺射靶(ba)。與(yu)真空熱壓類似，HIP在加熱和(he)加壓狀態下(xia)可以獲得(de)高密度（幾乎是理論密度）和(he)優異的物理和(he)機械性能(neng)的產品。但也受設備壓力(li)和(he)氣缸(gang)尺(chi)寸的限制。

3、常溫燒結

室溫燒(shao)(shao)結(jie)是(shi)先通過漿料澆(jiao)注或(huo)預(yu)壓制(zhi)(zhi)備高密(mi)度(du)靶(ba)(ba)材(cai)預(yu)制(zhi)(zhi)件(jian)，然后在(zai)一定氣(qi)氛(fen)和溫度(du)下燒(shao)(shao)結(jie)得到(dao)ITO靶(ba)(ba)材(cai)。其最大(da)的(de)優勢(shi)在(zai)于能夠生(sheng)產大(da)尺寸的(de)濺(jian)射靶(ba)(ba)材(cai)。但(dan)與其他(ta)燒(shao)(shao)結(jie)方(fang)法相比(bi)，這種(zhong)方(fang)法制(zhi)(zhi)成的(de)靶(ba)(ba)材(cai)純度(du)較低。

4、冷等靜壓

冷等靜壓(ya)(ya)（CIP）在(zai)常(chang)溫(wen)下以(yi)橡膠或(huo)塑料為(wei)(wei)覆膜材料，以(yi)液(ye)體(ti)為(wei)(wei)壓(ya)(ya)力介質傳遞超高(gao)(gao)壓(ya)(ya)。CIP還可(ke)以(yi)制(zhi)備(bei)更大尺寸的(de)ITO濺射靶材。而且價格便宜，適(shi)合大批(pi)量生產。但(dan)CIP要(yao)求(qiu)材料在(zai)0.1~0.9MPa的(de)純氧環境(jing)中(zhong)經過1500~1600°C的(de)高(gao)(gao)溫(wen)燒結，具有較高(gao)(gao)的(de)風險。

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二、ITO濺射靶材生產難點

1、粉末制備

粉末冶金最核(he)心的(de)競爭力就是粉體，能夠獨立生產高品(pin)質(zhi)穩定的(de)粉體的(de)公司(si)，會在未來占(zhan)有一席之地。

2、大尺寸燒結工藝

ITO靶材的另一個難點就是燒結(jie)工藝(yi)，精準的燒結(jie)工藝(yi)是燒結(jie)高品質靶材的關(guan)鍵。燒結(jie)工藝(yi)細(xi)分為真空(kong)熱壓(ya)法、熱等靜壓(ya)法、常壓(ya)燒結(jie)法。目前高端顯示器用鍍膜靶材主(zhu)要采用常壓(ya)燒結(jie)法，性價比高。

3、成本投入較大

ITO生(sheng)產中需要使(shi)用非(fei)常(chang)(chang)多的(de)(de)大(da)型設(she)(she)備(bei)(bei)，如冷壓機(ji)，大(da)型模(mo)壓機(ji)，燒(shao)結爐，加(jia)工設(she)(she)備(bei)(bei)及綁定設(she)(she)備(bei)(bei)，每(mei)一項的(de)(de)投(tou)入都非(fei)常(chang)(chang)大(da)。整(zheng)廠的(de)(de)設(she)(she)備(bei)(bei)投(tou)入預計在5000萬以(yi)上（年產50噸(dun)），且因為(wei)是能耗(hao)大(da)戶，日常(chang)(chang)的(de)(de)能源消耗(hao)也(ye)是非(fei)常(chang)(chang)可觀(guan)的(de)(de)，運營(ying)維護(hu)成本也(ye)比(bi)較高。

4、產品的驗證

如何(he)能夠自(zi)主的驗(yan)(yan)證產品(pin)是(shi)否符合客戶(hu)的使(shi)用需(xu)求，是(shi)產品(pin)能否一次(ci)通(tong)過(guo)客戶(hu)驗(yan)(yan)證并且順利導(dao)入生(sheng)產的關鍵因素，所以企業自(zi)己配套(tao)綁定(ding)檢測(ce)設備及鍍膜機就(jiu)是(shi)保證。