一、ITO濺射靶材的制作方法

1、真空熱壓

真空熱壓利用熱能和機械能對ITO粉體進行致密化，可生產出密度為91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優勢較小。

2、熱等靜壓

熱等靜(jing)壓(ya)（HIP）通(tong)過在(zai)壓(ya)力下燒結或在(zai)高溫下加(jia)壓(ya)來(lai)制備(bei)ITO濺射靶。與真(zhen)空熱壓(ya)類(lei)似，HIP在(zai)加(jia)熱和(he)加(jia)壓(ya)狀態(tai)下可以(yi)獲得(de)高密度（幾(ji)乎是理論(lun)密度）和(he)優(you)異的物(wu)理和(he)機械性能(neng)的產品。但也(ye)受設備(bei)壓(ya)力和(he)氣(qi)缸(gang)尺寸的限制。

3、常溫燒結

室溫燒結(jie)(jie)是(shi)先通過漿料澆注(zhu)或預壓制(zhi)備高密(mi)度(du)靶材預制(zhi)件，然后在一定氣氛和溫度(du)下燒結(jie)(jie)得到ITO靶材。其最大的(de)優勢在于能夠生產大尺(chi)寸的(de)濺射靶材。但與(yu)其他(ta)燒結(jie)(jie)方(fang)法相比，這種方(fang)法制(zhi)成的(de)靶材純度(du)較低。

4、冷等靜壓

冷等(deng)靜壓(ya)(ya)（CIP）在(zai)常(chang)溫下(xia)以(yi)橡膠或塑料為(wei)覆(fu)膜(mo)材料，以(yi)液(ye)體為(wei)壓(ya)(ya)力介質傳遞超高壓(ya)(ya)。CIP還可以(yi)制(zhi)備更(geng)大尺寸的(de)ITO濺射靶材。而且價格便宜，適合大批量(liang)生產。但CIP要求(qiu)材料在(zai)0.1~0.9MPa的(de)純氧環(huan)境中經(jing)過1500~1600°C的(de)高溫燒(shao)結(jie)，具有(you)較高的(de)風險(xian)。

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二、ITO濺射靶材生產難點

1、粉末制備

粉(fen)末冶金最核(he)心的競爭(zheng)力就是(shi)粉(fen)體，能夠獨(du)立生產(chan)高品(pin)質(zhi)穩定的粉(fen)體的公司，會在未來占(zhan)有一席之地。

2、大尺寸燒結工藝

ITO靶材的另一個難(nan)點就是燒(shao)結(jie)(jie)(jie)(jie)工藝(yi)，精準的燒(shao)結(jie)(jie)(jie)(jie)工藝(yi)是燒(shao)結(jie)(jie)(jie)(jie)高品質(zhi)靶材(cai)的關鍵。燒(shao)結(jie)(jie)(jie)(jie)工藝(yi)細(xi)分為真空熱壓(ya)法(fa)、熱等(deng)靜壓(ya)法(fa)、常壓(ya)燒(shao)結(jie)(jie)(jie)(jie)法(fa)。目(mu)前(qian)高端顯示(shi)器用鍍(du)膜(mo)靶材(cai)主要采用常壓(ya)燒(shao)結(jie)(jie)(jie)(jie)法(fa)，性價比高。

3、成本投入較大

ITO生產中需要使用非常(chang)多的大(da)型設(she)備(bei)，如冷壓(ya)機，大(da)型模壓(ya)機，燒(shao)結(jie)爐，加工設(she)備(bei)及綁定設(she)備(bei)，每一項的投(tou)(tou)入(ru)都非常(chang)大(da)。整(zheng)廠的設(she)備(bei)投(tou)(tou)入(ru)預計在5000萬以(yi)上（年產50噸(dun)），且因為是能(neng)(neng)耗(hao)大(da)戶，日常(chang)的能(neng)(neng)源消(xiao)耗(hao)也是非常(chang)可觀的，運營維(wei)護(hu)成本也比較高。

4、產品的驗證

如(ru)何(he)能(neng)夠自主的驗證(zheng)產(chan)品(pin)是否(fou)符(fu)合客戶(hu)的使用需求(qiu)，是產(chan)品(pin)能(neng)否(fou)一(yi)次通過客戶(hu)驗證(zheng)并(bing)且(qie)順利導入生產(chan)的關(guan)鍵因素(su)，所以企(qi)業自己配套綁定檢測設備及(ji)鍍膜機就是保(bao)證(zheng)。